“新纳厚志”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果8个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]显示设备的制造方法以及制造装置-CN201880090165.9有效
发明人： 新纳厚志 -专利权人：夏普株式会社
申请日： 2018-02-27 - 公布日： 2023-06-13 - 主分类号： H10K71/00 文献下载
摘要：本发明的显示设备的制造方法，其特征在于，包括：在基板上成膜树脂层的工序；将树脂层被成膜的基板放入在第一腔室，并且将第一腔室内从大气压减压到第一真空压力的工序；从第一腔室向调整为第二真空压力的第二腔室搬入基板的工序；测量在第二腔室中从树脂层脱离的气体的工序；以及在测量气体之后，在第二腔室或第三腔室中在树脂层上成膜无机化合物层的工序。成膜无机化合物层的工序是在成膜之前将第二腔室或第三腔室内设为第三真空压力的工序。第二真空压力是比第三真空压力大的压力。
显示设备制造方法以及装置

[发明专利]电子发射元件及其制造方法-CN201880032479.3有效
发明人：林秀和;田口登喜生;中松健一郎;岩松正;新川幸治;高崎真苇;金子俊博;新纳厚志 -专利权人：夏普株式会社
申请日： 2018-05-15 - 公布日： 2022-04-26 - 主分类号： H01J1/312 文献下载
摘要：电子发射元件(100)具有：第1电极(12)、第2电极(52)、以及设置在第1电极(12)与第2电极(52)之间的半导电层(30)。半导电层(30)具有：多孔氧化铝层(32)，其具有多个细孔(34)；以及银(42)，其担载在多孔氧化铝层(32)的多个细孔(34)内。
电子发射元件及其制造方法

[发明专利]电子发射元件及其制造方法以及电子元件的制造方法-CN201811050597.5有效
发明人：中松健一郎;林秀和;田口登喜生;岩松正;新川幸治;高崎舞;金子俊博;新纳厚志 -专利权人：夏普株式会社
申请日： 2018-09-07 - 公布日： 2021-03-09 - 主分类号： H01J9/02 文献下载
摘要：本发明提供一种能使现有的电子发射元件实现特性提升及/或寿命增长且具有新颖构造的电子发射元件及其制造方法。电子发射元件的制造方法包含：步骤A，准备铝基板(12)或由基板支承的铝层；步骤B，通过使铝基板的表面(12s)或铝层的表面阳极氧化，而形成具有多个细孔(34)的多孔氧化铝层(32)；步骤C，通过向多个细孔内赋予银纳米粒子(42n)，而使多个细孔内承载银纳米粒子；步骤D，在步骤C之后，对铝基板或铝层的实质整个表面，赋予绝缘层形成溶液(36)；步骤E，在步骤D之后，通过至少减少绝缘层形成溶液中所含的溶剂而形成绝缘层(37)；及步骤F，在绝缘层上形成电极(52)。
电子发射元件及其制造方法以及电子元件

[发明专利]防污性薄膜-CN201780005426.8有效
发明人：林秀和;新纳厚志 -专利权人：夏普株式会社
申请日： 2017-07-03 - 公布日： 2020-08-25 - 主分类号： B05D5/00 文献下载
摘要：本发明提供防污性以及耐磨性优良的防污性薄膜。本发明为具备在表面具有凹凸构造的聚合体层的防污性薄膜，所述凹凸构造为多个凸部以可见光波长以下的间隔设置，所述聚合体层含有碳原子、氮原子、氧原子以及氟原子作为构成原子，通过X射线光电子能谱法测量的氟原子数相对于碳原子数、氮原子数、氧原子数以及氟原子数的总数的比例为在上述凹凸构造的表面为33atom％以上，往深度方向远离上述凹凸构造的表面90～120nm的区域的平均值为3atom％以下，通过X射线光电子能谱法测量的氮原子数相对于碳原子数、氮原子数、氧原子数以及氟原子数的总数的比例在往深度方向远离上述凹凸构造的表面90～120nm的区域的平均值为4atom％以下。
防污薄膜

[发明专利]防污性薄膜-CN201780005168.3有效
发明人：林秀和;新纳厚志 -专利权人：夏普株式会社
申请日： 2017-07-03 - 公布日： 2020-04-21 - 主分类号： G02B1/18 文献下载
摘要：本发明提供防污性优良的防污性薄膜。本发明的防污性薄膜具备在表面具有凹凸构造的聚合体层，上述凹凸构造的多个凸部以可见光波长以下的间隔设置，上述聚合体层含有碳原子、氮原子、氧原子以及氟原子作为构成原子，通过X射线光电子能谱法测量的氟原子数相对于碳原子数、氮原子数、氧原子数以及氟原子数的总数的比例为在上述凹凸构造的表面为33atom％以上，通过X射线光电子能谱法测量的氮原子数相对于碳原子数、氮原子数、氧原子数以及氟原子数的总数的比例在往深度方向远离上述凹凸构造的表面5～90nm的区域，至少具有一个比往深度方向远离上述凹凸构造的表面90～120nm的区域的平均值大0.3atom％以上极大值。
防污薄膜

[发明专利]光学膜的制造方法以及光学膜-CN201710440041.6有效
发明人：林秀和;田口登喜生;山田信明;芝井康博;新纳厚志;中松健一郎 -专利权人：夏普株式会社
申请日： 2016-02-10 - 公布日： 2020-04-03 - 主分类号： G02B1/118 文献下载
摘要：本发明提供一种具有良好的防反射性并且防污性和耐擦伤性良好的光学膜的制造方法。本发明的光学膜的制造方法包括：工序(1)，涂敷下层树脂和上层树脂；工序(2)，在将所涂敷的上述下层树脂和上述上层树脂层叠的状态下，将金属模具从上述上层树脂侧按压到上述下层树脂和上述上层树脂，形成在表面具有凹凸结构的树脂层；以及工序(3)，使上述树脂层固化，上述下层树脂包括不含氟原子的至少一种第一单体，上述上层树脂包括不含氟原子的至少一种第二单体以及含氟单体，上述第一单体和上述第二单体中的至少一方包括与上述含氟单体相溶的相溶性单体，并且溶解在上述下层树脂和上述上层树脂中。
光学制造方法以及

[发明专利]光学薄膜的制造方法以及模具-CN201780014466.9有效
发明人：中松健一郎;新纳厚志;林秀和 -专利权人：夏普株式会社
申请日： 2017-03-16 - 公布日： 2019-09-03 - 主分类号： G02B1/118 文献下载
摘要：本发明能够提供防污性以及耐磨性优良的光学薄膜的制造方法。本发明的光学薄膜的制造方法，包括：涂布下层树脂以及上层树脂的工序(1)；在已涂布的所述下层树脂以及所述上层树脂被层叠的状态下，从所述上层树脂侧将模具推压至所述下层树脂以及所述上层树脂，形成在表面具有所述凹凸构造的树脂层的工序(2)；使所述树脂层硬化的工序(3)，所述上层树脂包括含氟单体，所述模具的表面涂布有脱模剂，在涂布了所述脱模剂的所述模具的表面通过θ/2法测量的十六烷的接触角与通过X射线光电子能谱法测量的氟原子数相对于碳原子数、铝原子数、氧原子数以及氟原子数的总数的比例在规定范围内。
树脂上层模具光学薄膜下层氟原子数树脂层脱模剂测量制造耐磨性凹凸构造表面涂布含氟单体碳原子数氧原子数防污性接触角铝原子十六烷推压硬化

[发明专利]光学膜的制造方法以及光学膜-CN201680000545.X有效
发明人：林秀和;田口登喜生;山田信明;芝井康博;新纳厚志;中松健一郎 -专利权人：夏普株式会社
申请日： 2016-02-10 - 公布日： 2017-09-08 - 主分类号： G02B1/14 文献下载
摘要：本发明提供一种具有良好的防反射性并且防污性和耐擦伤性良好的光学膜的制造方法。本发明的光学膜的制造方法包括工序(1)，涂敷下层树脂和上层树脂；工序(2)，在将所涂敷的上述下层树脂和上述上层树脂层叠的状态下，将金属模具从上述上层树脂侧按压到上述下层树脂和上述上层树脂，形成在表面具有凹凸结构的树脂层；以及工序(3)，使上述树脂层固化，上述下层树脂包括不含氟原子的至少一种第一单体，上述上层树脂包括不含氟原子的至少一种第二单体以及含氟单体，上述第一单体和上述第二单体中的至少一方包括与上述含氟单体相溶的相溶性单体，并且溶解在上述下层树脂和上述上层树脂中。
光学制造方法以及

1
共 8 条