专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]光催化剂涂层结构及光催化剂被覆构件-CN202211312562.0在审
  • 林信广;河合英嗣;芝井康博 - 夏普株式会社
  • 2022-10-25 - 2023-04-28 - B01J21/16
  • 本发明提供一种光催化剂涂层结构,其能够设置在容易产生挥发性有机化合物的基材上,并且具有优异的恶臭物质除去效率。本发明的光催化剂涂层结构的特征在于,具备:底涂层;以及光催化剂层,其设置于所述底涂层上,所述底涂层包含聚乙烯醇系树脂和混入所述聚乙烯醇系树脂中的板状的粘土矿物粒子,所述聚乙烯醇系树脂的皂化度为90mol%以上时,所述聚乙烯醇系树脂在20℃下的4%水溶液粘度大于28mPa·s,所述聚乙烯醇系树脂的皂化度小于90mol%时,所述聚乙烯醇系树脂的20℃的4%水溶液粘度小于44mPa·s。
  • 光催化剂涂层结构被覆构件
  • [发明专利]薄膜-CN202111510018.2在审
  • 芝井康博;河合英嗣 - 夏普株式会社
  • 2021-12-10 - 2022-06-21 - B01J31/06
  • 本发明提供一种薄膜。薄膜包括:合成高分子膜,其具备具有多个凸部的表面;以及光催化颗粒,承载于所述合成高分子膜的所述表面。当从法线方向观察所述合成高分子膜时,所述多个凸部的二维大小大于20nm且小于500nm。
  • 薄膜
  • [发明专利]合成高分子膜及合成高分子膜的制造方法-CN201910130579.6有效
  • 山田美穗;芝井康博;箕浦洁;田口登喜生 - 夏普株式会社
  • 2019-02-21 - 2022-03-04 - C08J5/18
  • 本发明提供包含具有杀菌作用(包括防霉作用)的表面的合成高分子膜及合成高分子膜的制造方法。合成高分子膜(34C)是包含具有多个凸部或凹部(34Cd)的表面的合成高分子膜,在从合成高分子膜的法线方向观察时,多个凸部或凹部的二维尺寸处于0.5μm以上、3μm以下的范围内,具有交联结构,包含有机羧酸,在合成高分子膜的表面滴下200μL的水后,5分钟后水溶液的pH不足4,水溶液的等效圆面积直径为20mm以上,在合成高分子膜的表面滴下水的液滴之后60秒后,液滴相对于表面的静态接触角不足3°。
  • 合成高分子制造方法
  • [发明专利]防污性膜的制造方法-CN201780043471.2有效
  • 林秀和;田口登喜生;中松健一郎;芝井康博;厚母贤;山下恒雄;阪本英司;新居沙弥;荒木孝之 - 夏普株式会社;大金工业株式会社
  • 2017-07-03 - 2021-12-14 - B05D5/00
  • 本发明提供一种能以长期间连续制造防污性优异的防污性膜的防污性膜的制造方法。本发明的防污性膜的制造方法是具备在表面具有以可见光的波长以下的间距设有多个凸部的凹凸结构的聚合物层的防污性膜的制造方法,包括:将树脂涂敷到基材的表面上的工序(1);在涂敷有第一脱模剂的模具的表面上涂敷第二脱模剂的工序(2);在将上述树脂夹在中间的状态下,将上述基材按压到上述模具的涂敷有上述第二脱模剂的表面,在上述树脂的表面形成上述凹凸结构的工序(3);以及使在表面具有上述凹凸结构的上述树脂固化,形成上述聚合物层的工序(4),上述树脂含有包含规定的化合物而成的防污剂,上述第一脱模剂是包含规定的化合物而成的,上述第二脱模剂是包含规定的化合物而成的。
  • 防污制造方法
  • [发明专利]防污性薄膜的制造方法-CN201910728264.1有效
  • 中松健一郎;二宫郁雄;芝井康博;厚母贤 - 夏普株式会社
  • 2019-08-08 - 2021-11-23 - C08J7/04
  • 提供一种防污性薄膜的制造方法,其即使模具的转印次数增加,也可以防止模具的白化,并且提高所获得的防污性薄膜的防污性。防污性薄膜的制造方法包含下述工序:在模具的表面上涂布离型处理剂,将水相对于模具的涂布了离型处理剂的表面的接触角调节为规定的范围的工序;在基材的表面上涂布树脂的工序;在将树脂夹在其间的状态下,将基材向模具的涂布了离型处理剂的表面按压,形成树脂层的工序;以及使树脂层硬化,形成聚合体层的工序,树脂以规定的比例含有:具有(甲基)丙烯酰基的规定的氟系低聚物;以及每一个分子具有1个(甲基)丙烯酰基的全氟烷基系单体,全氟烷基系单体中的氟原子浓度为规定的范围。
  • 防污薄膜制造方法
  • [发明专利]防污性膜-CN201880007354.5有效
  • 芝井康博;厚母贤;中松健一郎 - 夏普株式会社
  • 2018-01-11 - 2021-08-03 - G02B1/18
  • 本发明提供防污性、紧贴性、耐擦性以及可靠性均优异且抑制了高湿下的指纹的浮现的防污性膜。本发明的防污性膜具备:基材;以及聚合物层,其配置于上述基材的表面上,在表面具有按可见光的波长以下的间距设置多个凸部的凹凸结构,在上述防污性膜中,上述聚合物层是聚合性组合物的固化物,上述聚合性组合物以有效成分换算含有20~90重量%的具有环氧乙烷基的多官能丙烯酸酯、5~25重量%的单官能酰胺单体、0.5~10重量%的氟系脱模剂,并且上述多官能丙烯酸酯中的上述环氧乙烷基和上述单官能酰胺单体总计含有40~65重量%。
  • 防污
  • [发明专利]光学构件的制造方法-CN201780043392.1有效
  • 厚母贤;芝井康博;中松健一郎 - 夏普株式会社
  • 2017-07-03 - 2021-05-14 - B29C59/02
  • 本发明提供一种不损害透明性而提高防污性和耐擦性的光学构件的制造方法。在本发明的光学构件的制造方法中,光学构件具备:基材;以及聚合物层,在其表面具有以可见光的波长以下的间距设有多个凸部的凹凸结构,光学构件的制造方法包括:工序(1),使光固化性树脂和脱模剂溶解于溶剂,调制树脂溶液;工序(2),将上述树脂溶液涂敷到上述基材的表面上;工序(3),进行从上述树脂溶液的涂敷物除去上述溶剂的加热处理,形成树脂层;工序(4),在将上述树脂层夹在中间的状态下,将上述基材按压于模具,将上述凹凸结构形成于上述树脂层的表面;以及工序(5),通过光照射使上述树脂层固化,形成上述聚合物层,上述光固化性树脂和上述脱模剂是在相互混合的情况下表现出规定的浊度的组合,上述光学构件的雾度不到1.0%。
  • 光学构件制造方法
  • [发明专利]装饰膜-CN201780086866.0有效
  • 芝井康博;厚母贤;田口登喜生 - 夏普株式会社
  • 2017-10-13 - 2021-03-09 - B32B27/00
  • 本发明提供一种装饰膜,即使具有至少在表面存在聚碳酸酯的基材,防污性也优异,而且耐擦性和紧贴性也均优异。本发明的装饰膜具备:基材;以及聚合物层,其在表面具有按可见光的波长以下的间距设置多个凸部的凹凸结构,在基材的至少聚合物层侧的表面存在聚碳酸酯,聚合物层是聚合性组合物的固化物,聚合性组合物含有:脱模剂;多官能丙烯酸酯,其具有环氧乙烷基和环氧丙烷基中的至少一方;以及丙烯酸2‑(2‑乙烯氧基乙氧基)乙酯,聚合性组合物以有效成分换算按规定的比例含有脱模剂和丙烯酸2‑(2‑乙烯氧基乙氧基)乙酯,并且总计以规定的量含有在多官能丙烯酸酯和丙烯酸2‑(2‑乙烯氧基乙氧基)乙酯中的环氧乙烷基和环氧丙烷基。
  • 装饰
  • [发明专利]光学部件的制造方法以及光学部件-CN201780010501.X有效
  • 芝井康博;厚母贤;林秀和 - 夏普株式会社
  • 2017-02-15 - 2021-01-15 - G02B1/118
  • 本发明提供能够兼顾高温/高湿的环境下的基材以及聚合物层之间的紧贴性和耐磨性的光学部件的制造方法。本发明的光学部件的制造方法包括:工序(1),涂覆下层树脂以及上层树脂;工序(2),在将已涂覆的上述下层树脂以及上述上层树脂从基材侧依次层叠的状态下,从上述上层树脂侧将模具按压于上述下层树脂以及上述上层树脂,形成在表面具有凹凸构造的树脂层;以及工序(3),使上述树脂层固化,形成聚合物层,上述下层树脂中的酰胺基的浓度为1.5mmol/g以上且不足5mmol/g,测量温度范围‑50~250℃、升温速度5℃/min以及频率10Hz的条件下的动态粘弹性测量中的、上述聚合物层的储能模量E’成为最小的底部温度为110℃以上且210℃以下,并且上述聚合物层的上述储能模量E’的最小值为1×108Pa以上且1×109Pa以下。
  • 光学部件制造方法以及

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