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[发明专利]吸盘-CN202310277337.6在审
发明人： 斋藤优;河野义和 -专利权人： SMC 株式会社
申请日： 2023-03-21 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： B25B11/00 文献下载
摘要：一种吸盘，具备：具有均匀的厚度且成形为圆板状的无纺布片材(18)；以及将无纺布片材以能够位移的方式支承于安装适配器(12)的环形状的保持体(28)。吸附面(20)由无纺布片材的平坦的表面构成，无纺布片材具备外周部的非通气区域(22)和除了外周部以外的通气区域(24)，非通气区域的密度比通气区域的密度高。
吸盘

[发明专利]带垫提升装置-CN202310090190.X在审
发明人： 斋藤优;坂洋明 -专利权人： SMC 株式会社
申请日： 2023-02-09 - 公布日： 2023-08-11 - 主分类号： B65G47/91 文献下载
摘要：带垫提升装置(10)的垫(42)具有安装于主体(12)的端部的连结部(44)和朝向顶端扩张的柔软的裙部(46)，沿着主体的端面流过的空气在裙部的内侧流动，由此，裙部的顶端以向内侧收缩的方式变形。
提升装置

[发明专利]成膜装置-CN202180057905.0在审
发明人：五十岚诚;斋藤优;野中裕弥 -专利权人：株式会社新柯隆
申请日： 2021-10-19 - 公布日： 2023-08-08 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：提供一种运转率高的成膜装置。其具备：成膜室(2)，该成膜室(2)至少设置有成膜材料M和被成膜物(S)，能够设定为规定的成膜气氛；炉膛内衬(23)，该炉膛内衬(23)设置于上述成膜室(2)的内部，容纳上述成膜材料M；加热源(24)，该加热源(24)设置于上述成膜室(2)的内部，对容纳在上述炉膛内衬(23)的成膜材料(M)进行加热；和材料供给室(3)，该材料供给室(3)具有填充用于供给至上述炉膛内衬(23)的成膜材料(M)的材料填充部(35)，通过具有闸阀(37)的连通路径(36)与上述成膜室(2)连接，能够设定为规定的压力气氛。在供给成膜材料(M)的情况下，在将成膜室(2)设定为成膜气氛的状态下，将上述材料供给室(3)的内部设定为上述规定的压力气氛后，打开上述闸阀(37)，通过上述连通路径(36)将填充在上述材料填充部(35)的成膜材料(M)供给至上述炉膛内衬(23)。
装置

[外观设计]放射线治疗仪-CN202330101740.4有效
发明人：荒川正之;川口裕太;斋藤优;石塚孝 -专利权人：株式会社日立制作所
申请日： 2023-03-08 - 公布日： 2023-06-13 - 主分类号： 24-01 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：放射线治疗仪。2.本外观设计产品的用途：本产品为主要用于癌症治疗，从身体外部进行照射放射线的外部照射（远程照射）的放射线治疗仪。3.本外观设计产品的设计要点：在于如立体图所示最能体现本外观设计产品的设计要点。4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图1。5.其他需要说明的情形其他说明：在标示出各部名称参考图1、2和3中，D‑回旋部，E‑发光部，F‑地板部，G‑LED部。其中，在标示出各部名称参考图2和3中斜线所示的E部和G部为半透明。
放射线治疗

[发明专利]提升装置-CN202211207932.4在审
发明人： 斋藤优;坂洋明 -专利权人： SMC 株式会社
申请日： 2022-09-30 - 公布日： 2023-04-14 - 主分类号： B65G47/91 文献下载
摘要：提升装置(10)具备圆柱状的机体(12)和环状的弹性体(54)。机体在轴向端部具备保持工件的平坦面(16)。弹性体配置于机体的平坦面的外周，具备与机体的平坦面相比沿机体的轴向突出的环状突出部分(58)。环状突出部分具有圆弧状的截面。被供给至机体的空气沿着机体的平坦面和弹性体的环状突出部分流动。
提升装置

[发明专利]吸附装置-CN201910728820.5有效
发明人：中山徹;杉山亨;宫崎则行;斋藤优;后藤幸也 -专利权人： SMC 株式会社
申请日： 2019-08-08 - 公布日： 2022-10-04 - 主分类号： B65G47/90 文献下载
摘要：吸附装置(10)具有在内部具有供给负压流体的供给通路(30)的接合器(12)、与该接合器(12)的前端连结的波纹管(14)以及设置在该波纹管(14)的前端并吸附工件(W)的垫部(16)。并且，吸附装置(10)利用通过供给通路(30)及波纹管(14)向垫部(16)供给的负压流体来吸附所述工件(W)。在该波纹管(14)的内部设置有相对于该波纹管(14)的轴线倾动自如的配件(18)，该配件以其本体部(42)与裙部(40)的吸附面(40a)面对的方式设置，轴部(44)在吸附工件(W)时插入供给通路(30)内。
吸附装置

[发明专利]真空吸盘-CN201910106728.5有效
发明人：中山徹;杉山亨;宫崎则行;斋藤优 -专利权人： SMC株式会社
申请日： 2019-02-02 - 公布日： 2022-03-29 - 主分类号： B25B11/00 文献下载
摘要：本发明提供一种真空吸盘(10)，利用真空压吸附工件(W)，该真空吸盘(10)具有：支承部件(12)，该支承部件在内部具有真空通路(20)；波纹管(14)，该波纹管固定于支承部件；以及限制部件(16)，该限制部件安装于波纹管的内侧，在波纹管的收缩时限制部件进入真空通路。
真空吸盘

[发明专利]具有含氮六元环芳香族结构的化合物、有机EL材料、电子输送材料以及有机EL元件-CN202110239326.X在审
发明人：笹部久宏;城户淳二;丸山朋洋;大和田宰;河野朝哉;斋藤优 -专利权人：株式会社弗莱斯克
申请日： 2021-03-04 - 公布日： 2021-09-14 - 主分类号： C07D409/14 文献下载
摘要：本申请的技术问题是提供具有高电子输送特性及高热稳定性的具有含氮六元环芳香族结构的化合物、由其形成的电子输送材料及使用了其的有机EL元件。本申请涉及被至少三个含氮六元环芳香族基所取代的具有含氮六元环芳香族结构的化合物以及含有上述具有含氮六元环芳香族结构的化合物的有机EL材料及电子输送材料。本申请的有机EL元件由一对电极和至少一层的有机层形成，该一对电极由阳极及阴极形成，该有机层夹持于上述一对电极之间，并且包含发光层，上述有机层中的任一层含有具有含氮六元环芳香族结构的化合物。本发明的具有含氮六元环芳香族结构的化合物具有高电子输送特性及高热稳定性，适合作为有机EL元件材料，特别适合作为电子输送材料。
具有含氮六元环芳香族结构化合物有机 el 材料电子输送以及元件

[发明专利]管构件-CN201880011973.1有效
发明人：北川浩之;斋藤优 -专利权人：日东工器株式会社
申请日： 2018-01-31 - 公布日： 2021-02-26 - 主分类号： G01F1/28 文献下载
摘要：提供一种不需将管构件从流体配管构件拆下就能将管状窗构件拆下的管构件。该管构件(100)装入于流体配管构件之间而构成流体配管的一部分。该管构件(100)包括管构件主体(102)、管状窗构件(104)和保持构件(106)。管状窗构件(104)由透明材料构成，能够从外部视觉确认管状窗构件(104)内侧的流路(112)和叶片构件(108)。管状窗构件(104)通过保持构件(106)被保持在装入于管构件主体(102)的位置。通过使保持构件(106)从保持位置向后方位移而成为释放位置，从而保持构件(106)从管状窗构件(104)离开而解除对管状窗构件(104)的保持。由此，能够从管构件主体(102)经由侧方开口部(130)而拆下管状窗构件(104)。
构件

[外观设计]非接触式搬运用保持工具-CN202030312935.X有效
发明人：中山徹;杉山亨;斋藤优;坂洋明 -专利权人： SMC株式会社
申请日： 2020-06-17 - 公布日： 2021-02-12 - 主分类号： 12-05 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：非接触式搬运用保持工具。2.本外观设计产品的用途：本外观设计产品是，通过负压吸引诸如半导体晶片或者玻璃基板等薄型板状的工件，在不直接接触该工件的情况下，能够将其抬起并保持的非接触式搬运用保持工具。3.本外观设计产品的设计要点：在于整体形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：设计1立体图2。5.指定设计1为基本设计。
接触运用保持工具

[外观设计]流量监视器-CN201830285866.0有效
发明人： 斋藤优 -专利权人：日东工器株式会社
申请日： 2018-06-07 - 公布日： 2021-01-05 - 主分类号： 10-05 文献下载
摘要：1．本外观设计产品的名称：流量监视器。2．本外观设计产品的用途：本外观设计产品用作流量监视器，本外观设计产品可装配在流体管道上，用于观察是否有流体流动。3．本外观设计产品的设计要点：图中所示产品的形状。4．最能表明本外观设计设计要点的图片或照片：主视图。5．立体图中A部示出的材料为透明材料。
流量监视器

[外观设计]非接触式搬运用保持工具-CN202030054584.7有效
发明人：中山徹;杉山亨;斋藤优;坂洋明 -专利权人： SMC株式会社
申请日： 2020-02-19 - 公布日： 2020-10-23 - 主分类号： 12-05 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：非接触式搬运用保持工具。2.本外观设计产品的用途：本外观设计产品是，通过负压吸引诸如半导体晶片或者玻璃基板等薄型板状的工件，在不直接接触该工件的情况下，能够将其抬起并保持的非接触式搬运用保持工具。3.本外观设计产品的设计要点：在于整体形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：设计1立体图2。5.指定设计1为基本设计。
接触运用保持工具

[发明专利]吸垫-CN201910725293.2在审
发明人：中山徹;杉山亨;宫崎则行;斋藤优;后藤幸也 -专利权人： SMC株式会社
申请日： 2019-08-07 - 公布日： 2020-02-21 - 主分类号： B25J15/06 文献下载
摘要：一种吸附装置(10)，包括：具有供给有负压流体的供给通道(28)的适配器(12)，连接到适配器(12)的下端的波纹管(14)，以及形成在波纹管(14)的远端处的垫构件(16)。垫构件(16)在吸附表面上具有多个第一和第二肋(46,48)，吸附表面在吸附下吸引工件(W)。第一肋(46)设置在附接件(36)的外周侧上，附接件设置在垫构件(16)的中心中，并且朝向外周侧延伸。第二肋(48)设置在第一肋(46)的外周侧，并且相对于第一肋(46)以周向偏移的方式设置。另外，在裙部(38)的周向方向上彼此并排设置的各个第一肋(46)之间，形成有供给路径(52)，负压流体从附接件(36)被供给到该供给路径。
吸垫

[外观设计]真空吸附垫-CN201830435831.0有效
发明人：中山徹;杉山亨;宫崎则行;斋藤优;后藤幸也 -专利权人： SMC株式会社
申请日： 2018-08-08 - 公布日： 2019-02-26 - 主分类号： 08-05 文献下载
摘要：1．本外观设计产品的名称：真空吸附垫。2．本外观设计产品的用途：本外观设计产品是用于例如被连接于图中没有显示的真空发生装置，在负压的供给作用下，吸附并搬运工件的真空吸附垫。3．本外观设计产品的设计要点：整体形状。4．最能表明本外观设计设计要点的图片或照片：设计1立体图1。5．本外观设计产品为相似外观设计，设计1是基本设计。
外观设计真空吸附垫真空发生装置搬运工件整体形状负压吸附图片

[其他]磁共振成像装置-CN201490001152.7有效
发明人： 斋藤优;山下聪 -专利权人：株式会社日立制作所
申请日： 2014-10-23 - 公布日： 2016-12-28 - 主分类号： A61B5/055 文献下载
摘要：本实用新型的磁共振成像装置的特征在于，具有：在摄像空间产生静磁场和倾斜磁场的磁铁装置；行走自如地设置于床上并且将横卧的被检测体送入摄像空间的顶板；配置于摄像空间内并具有顶板的行走面的顶板承受部件；支撑顶板承受部件的顶板支撑柱；以及支撑顶板支撑柱的下端的顶板支撑台座，顶板支撑台座设置于经由磁铁支撑脚设置有磁铁装置的地板面上，并且设置成使至少沿地板面方向的移动受磁铁支撑脚限制。
磁共振成像装置

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