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[发明专利]实验要点推荐装置、实验要点推荐方法及半导体装置制造系统-CN202180004737.9在审
发明人：王禹尧;森靖英;惠木正史;大森健史;酒井哲;松田航平 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2021-03-01 - 公布日： 2022-11-01 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：针对将半导体处理装置的控制参数作为输入并输出表现由半导体处理装置加工过的半导体样品的加工形状的形状参数的机器学习模型，推荐获得学习数据的实验要点。根据机器学习模型的学习所使用的学习数据的控制参数的值即特征量数据，评价每个控制参数对机器学习模型的预测的贡献度，基于将根据贡献度选定的控制参数作为轴展开的空间中的机器学习模型所进行的预测的稳定性评价、不确定性评价，来推荐实验要点。
实验要点推荐装置方法半导体制造系统

[发明专利]行走形态显示方法、行走形态显示系统以及行走形态分析装置-CN201980025909.3在审
发明人：福井大辅;惠木正史;中川弘充;田中毅;三宅贤稔;小野贵司;堀越伸也;野口稔 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2019-04-15 - 公布日： 2020-11-24 - 主分类号： A61B5/11 文献下载
摘要：选择行人的测量和与行人比较对照的参照行人的测量，显示将行人的1步量的行走显示为动画的第1行走模型(604)，显示将参照行人的1步量的行走显示为动画的第2行走模型(603)，以能够比较的方式显示与行人的测量相关的预定的特征量数据的大小和与参照行人的测量相关的预定的特征量数据的大小(607)。
行走形态显示方法系统以及分析装置

[发明专利]区域内环境控制系统以及区域内环境控制方法-CN201010528469.4有效
发明人：鸟羽美奈子;森靖英;直野健;惠木正史;樱井隆雄 -专利权人：株式会社日立制作所
申请日： 2010-10-21 - 公布日： 2011-05-04 - 主分类号： G05B19/418 文献下载
摘要：本发明涉及区域内环境控制系统以及区域内环境控制方法。提出一种具有下述功能的环境控制系统。(1)通过监控办公人员的工作状况，通过适合于状况地进行细致的控制来提高舒适性。(2)定义评价节电效果以及舒适性(生产效率)的指标，通过画面提示该推移。(3)通过脚本设定细致的控制策略。本发明涉及的环境控制系统是通过监控工作状况以及行动状况，并适合于状况地进行细致的控制，从而提高舒适性的环境设备控制系统，具有：通信单元；环境检测单元，检测环境；工作状况检测单元，检测工作状况；取得单元，取得耗电；决定单元，决定设备的控制；以及发送单元，发送控制信号，并可进行适合于工作的细致的控制。
区域内环境控制系统以及控制方法