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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]直接成像式曝光装置-CN202211114228.4在审
发明人： 德广庆三;水野修;石野裕久 -专利权人：株式会社阿迪泰克工程
申请日： 2022-09-14 - 公布日： 2023-03-17 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：提供一种有效地解决在直接成像式曝光装置中因为高精细化的要求而派生出的生产性下降的问题的直接成像式曝光装置。载置有基板(W)的台(6)通过台移动机构(61)而移动，当基板(W)穿过被具有空间光调制器(3)的各曝光头(1A、1B)照射了曝光图案的光的照射区(EA、EB)时进行曝光。各曝光头(1A、1B)沿着相对于台(6)的移动方向垂直的方向排列为两列，分别设有偏移光学系统(8A、8B)。各偏移光学系统(8A)将光轴向一列的各曝光头(1A)的各照射区(EA)与另一列接近的朝向偏移，各偏移光学系统(8B)将光轴向另一列的各曝光头(1B)的各照射区(EB)与一列接近的朝向偏移。
直接成像曝光装置

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