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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]气体分配器及基板处理装置-CN201610467573.4在审
发明人： 徐映水;闵昔基;李埈爀;韩泳琪;卞亨锡;李奎尚 -专利权人：灿美工程股份有限公司
申请日： 2016-06-24 - 公布日： 2017-12-05 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明提供一种气体分配器及基板处理装置，所述气体分配器包含分配部，具备彼此结合的多个板，在内部形成可收容气体及气体的等离子体中的至少一种的空间；及喷射孔，贯通分配部的下部而形成多个，且出口部的面积小于入口部的面积；且在对基板进行处理时，可在使喷射孔的出口部与基板间的间隔变窄的状态下，将气体的等离子体均匀地扩散到基板上。
气体分配器处理装置

[发明专利]基板处理方法-CN201610467283.X在审
发明人： 徐映水;闵昔基;李埈爀;韩泳琪;卞亨锡;李奎尚 -专利权人：灿美工程股份有限公司
申请日： 2016-06-24 - 公布日： 2017-12-05 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：本发明提出一种基板处理方法，其包含准备在一面形成有第一膜及汽缸孔的基板；将基板安置于腔室内部，腔室内部具备可分别以等离子体状态供给多个气体的多个簇射头；利用多个簇射头在第一膜的一面及汽缸孔的内部面形成第二膜；对利用多个簇射头形成在汽缸孔的入口部的第二膜的一部分进行蚀刻；及依序反复进行多次形成第二膜的过程与对第二膜的一部分进行蚀刻而对第二膜的厚度进行控制；且在制造汽缸结构的电容器时，可在使基板与簇射头间的间隔变窄的状态下，将制程气体的等离子体均匀地扩散到基板上，顺利地去除形成在汽缸孔的入口部的薄膜的突出物。
处理方法

[发明专利]气体分配装置及包含所述气体分配装置的基板加工装置-CN201510242245.X有效
发明人：韩泳琪;徐映水;闵昔基;李埈爀;李奎尙 -专利权人：灿美工程股份有限公司
申请日： 2015-05-13 - 公布日： 2017-08-08 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种气体分配装置及包含其的基板加工装置，所述气体分配装置包括在垂直方向上分隔开的第一区与第二区。在第一区中，注入自外部供应至第一区的第一工艺气体，且接着将其激发至等离子体状态，且在第二区中，注入自外部被激发至等离子体状态后供应的第二工艺气体，且接着容置所述第二工艺气体。由于通过互不相同的方法来激发工艺气体，因此可提高基板上的工艺均匀性。
气体分配装置包含加工

[发明专利]衬垫组合件和具有衬垫组合件的衬底处理设备-CN201410108752.X有效
发明人： 徐映水;韩泳琪;李埈爀;辛宇植;明鲁善 -专利权人：灿美工程股份有限公司
申请日： 2014-03-21 - 公布日： 2017-04-12 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明提供一种衬垫组合件和一种包含所述衬垫组合件的衬底处理设备。所述衬垫组合件包含侧面衬垫、中间衬垫和下部衬垫。所述侧面衬垫具有圆柱形形状，并且上部部分和下部部分是敞开的。所述中间衬垫安置在所述侧面衬垫下方，并且具有在垂直方向中穿过其中的多个第一孔。所述下部衬垫安置在所述中间衬垫下方。这里，所述多个第一孔在多个区中形成为不同尺寸和数目。
衬垫组合具有衬底处理设备

[发明专利]衬底支撑器以及包含所述衬底支撑器的衬底处理设备-CN201410086935.6有效
发明人： 徐映水;韩泳琪;李埈爀;李奎尙 -专利权人：灿美工程股份有限公司
申请日： 2014-03-11 - 公布日： 2016-11-23 - 主分类号： C23C16/458 文献下载
摘要：本发明提供一种衬底支撑器以及包含所述衬底支撑器的衬底处理设备。所述衬底处理设备，包含：腔室，设有反应空间且在底部的中央形成有排气开口；衬底支撑器，设置在所述腔室中且支撑衬底；气体注入组件，设置为与所述衬底支撑器相对，注入处理气体且产生其等离子体；以及排气机，连接到所述排气开口且设置在所述腔室下方以将所述腔室的内部排气，其中所述衬底支撑器包括支撑所述衬底的衬底支撑件以及支撑所述衬底支撑件的外部的多个支撑柱，所述支撑柱将所述排气开口安置于其之间。
衬底支撑以及包含处理设备

[发明专利]衬底固持器，衬底支撑设备，衬底处理设备以及使用所述衬底处理设备的衬底处理方法-CN200980102163.8有效
发明人：韩泳琪;徐映水;金亨源;尹致国;李庠勋 -专利权人：索绍股份有限公司
申请日： 2009-01-15 - 公布日： 2010-12-15 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：提供一种衬底固持器、衬底支撑设备、衬底处理设备以及衬底处理方法。明确地说，提供一种适于改进处理效率和衬底的背表面处的蚀刻均匀性的衬底固持器、衬底支撑设备、衬底处理设备以及衬底处理方法。
衬底固持器支撑设备处理以及使用方法

[发明专利]用于处理衬底的设备和方法-CN200880123434.3有效
发明人：韩泳琪;徐映水 -专利权人：索绍股份有限公司
申请日： 2008-12-10 - 公布日： 2010-12-08 - 主分类号： H01L21/205 文献下载
摘要：本发明提供一种用于处理衬底的设备和方法。通过使用所述设备和方法，可在单个腔室中在衬底的边缘区和后部区中的每一者上个别执行等离子处理。所述设备包含：腔室，其提供反应空间；平台，其安装在所述腔室中；等离子屏蔽单元，其在所述腔室中是与所述平台相对地安装着；支撑单元，其用于在所述平台与所述等离子屏蔽单元之间支撑衬底；第一供应管，其提供于所述平台处以将反应气体或非反应气体供应到所述衬底的一个表面；以及第二和第三供应管，其提供于所述等离子屏蔽单元处，所述第二供应管将反应气体供应到所述衬底的另一表面，所述第三供应管将非反应气体供应到所述另一表面。
用于处理衬底设备方法

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