专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]利用方孔型液晶透镜提高成像分辨率的方法及系统和透镜-CN202210091700.0有效
  • 陈信慈;徐律涵;叶茂 - 电子科技大学
  • 2022-01-26 - 2023-04-25 - G02F1/29
  • 本发明提供一种利用方孔型液晶透镜提高成像分辨率的方法及系统和透镜,系统包括相机、玻璃主透镜、方孔型液晶透镜、偏振片、目标物体;方法包括:(1)利用方孔型液晶透镜的光轴移动获取图像序列;(2)基于图像序列利用图像重建算法获得高分辨率图像。相较于现有技术,本发明在无机械移动的基础上实现了对物体的超分辨率采样,降低了系统的复杂程度,提升了可靠性,节约了成本。本发明省略了图像配准这一步骤,在保证图像重建效果的同时,提升了图像计算的效率。本发明所使用的方孔型液晶透镜相比于以前的圆孔型光轴可移动透镜更加稳定,在光轴移动后透镜特性变化更小,故而获取的图像序列更为清晰,后续分辨率提升效果更佳。
  • 利用孔型液晶透镜提高成像分辨率方法系统
  • [发明专利]无掩模光刻方法和无掩模光刻设备-CN202110645560.2在审
  • 陈晓西;徐律涵;陈松泽;叶茂 - 电子科技大学
  • 2021-06-09 - 2022-12-09 - G03F7/20
  • 本发明属于光刻技术领域,尤其涉及一种无掩模光刻方法和无掩模光刻设备,所述方法包括以下步骤:S1:获取目标物的待曝光区域;S2:根据所述待曝光区域产生焦点控制信号,所述焦点控制信号用于控制曝光光束聚焦的焦点的移动轨迹;S3:根据所述焦点控制信号控制曝光光束聚焦的焦点在所述目标物的表面移动以使所述待曝光区域曝光。所述设备包括光源,控制器和焦点移动装置。本发明的无掩模光刻方法和设备不需要使用掩模版,因此节约了制作掩模版的时间和成本。
  • 无掩模光刻方法设备
  • [发明专利]基于液晶透镜和液晶微透镜阵列的光束偏转装置及方法-CN202011032662.9有效
  • 陈晓西;徐律涵;叶茂 - 电子科技大学
  • 2020-09-27 - 2022-04-22 - G02F1/29
  • 基于液晶透镜和液晶微透镜阵列的光束偏转装置及方法,设置第一透镜和第二透镜构成光束偏转装置,第一透镜与第二透镜的透光区域形状和孔径一致,第一透镜和第二透镜的尺寸比等于其焦距比;第一透镜与第二透镜之间相隔第一透镜和第二透镜的焦距之和放置,当出射光束与入射光束之间不发生偏转时,第一透镜和第二透镜的光轴位于同一直线上;第二透镜为电压控制的液晶透镜,通过施加不同幅值、相位和频率的控制电压能够控制第二透镜的光轴移动,使得第一透镜和第二透镜的光轴之间发生偏移,不需要透镜在空间上的移动即可实现出射光束与入射光束之间的偏转;且第二透镜采用矩孔液晶透镜构成透镜阵列时能够实现无缝拼接,提高光能利用率。
  • 基于液晶透镜阵列光束偏转装置方法
  • [发明专利]拼接液晶透镜、电子设备及驱动拼接液晶透镜的方法-CN202011038356.6在审
  • 陈晓西;徐律涵;黄振豪;叶茂 - 电子科技大学
  • 2020-09-28 - 2022-04-05 - G02F1/29
  • 本发明属于光学成像技术领域,提供了一种拼接液晶透镜、电子设备及驱动拼接液晶透镜的方法。该拼接液晶透镜包括:至少两个矩形通光孔液晶透镜单元和驱动电路,各所述矩形通光孔液晶透镜单元呈阵列排布拼接成一大口径液晶透镜,所述矩形通光孔液晶透镜单元包括:第一电极、第二电极、第三电极和第四电极,以及由所述第一电极、第二电极、第三电极和第四电极围出的一个在通光方向的矩形通光孔,所述驱动电路输出驱动电压至各个矩形通光孔液晶透镜单元的第一电极、第二电极、第三电极和第四电极,以将各个矩形通光孔液晶透镜单元的光轴调整至相互重合的位置。本发明的拼接液晶透镜具有口径大、厚度薄、响应速度快的优点。
  • 拼接液晶透镜电子设备驱动方法
  • [发明专利]光束偏转器及其控制方法、激光雷达、光镊和电子装置-CN202111518225.2在审
  • 徐律涵;王滨 - 成都微晶景泰科技有限公司
  • 2021-12-13 - 2022-03-15 - G02F1/29
  • 本发明属于光束偏转技术领域,具体是一种光束偏转器及其控制方法、激光雷达、光镊和电子装置。本发明的光束偏转器,包括依次层叠设置的第一基板、第一电极层、第一高阻抗膜层、第一取向层、液晶层、第二取向层、第二高阻抗膜层、第二电极层和第二基板,所述第一电极层包括第一电极和第二电极,所述第一电极、第二电极、第三电极和第四电极围成矩形的通光孔;设加载在第一电极、第二电极、第三电极和第四电极上的电压分别为v1、v2、v3、v4,设液晶线性工作区间内的最小电压为Vmin,最大电压为Vmax,则min(v1,v2)max(v3,v4),Vmin≤min(v1,v2)‑max(v3,v4)≤Vmax,或者min(v3,v4)max(v1,v2),Vmin≤min(v3,v4)‑max(v1,v2)≤Vmax。本发明结构简单,相位分布连续性好。
  • 光束偏转及其控制方法激光雷达电子装置
  • [实用新型]一种基于液晶光学特性的静电测量装置-CN202120528283.2有效
  • 谢飞;陈晓西;周心晨;徐律涵;王耀强;张豪;陈思佃 - 电子科技大学
  • 2021-03-15 - 2021-10-26 - G01R29/12
  • 一种基于液晶光学特性的静电测量装置,从上至下依次设置光源、液晶盒和图像采集处理模块,液晶盒从上至下依次设置有N个上基板和一个下基板,下基板和每个上基板有且只有一面涂有透明导电膜,且N个上基板涂有透明导电膜的一面朝下,下基板涂有透明导电膜的一面朝上;将下基板与设置在最下面的上基板重合区域的四周进行封接,并在重合区域内部注入液晶;这样每相邻两个上基板构成一个电容,下基板与设置在最下面的上基板构成一个电容,共N个电容串联;下基板设置一个电极导线端接地,N个上基板设置N个电极导线端分别连接到N个档位的测试端;图像采集处理模块采集光源发出的光透过液晶盒后的图像,并提取图像的灰度数据判断静电大小。
  • 一种基于液晶光学特性静电测量装置
  • [实用新型]拼接液晶透镜和电子设备-CN202022164779.4有效
  • 陈晓西;徐律涵;黄振豪;叶茂 - 电子科技大学
  • 2020-09-28 - 2021-09-24 - G02F1/29
  • 本实用新型属于光学技术领域,提供了一种拼接液晶透镜和电子设备。该拼接液晶透镜包括至少两个矩形通光孔液晶透镜单元和驱动电路,各所述矩形通光孔液晶透镜单元呈阵列排布拼接成一大口径液晶透镜,所述驱动电路与各个矩形通光孔液晶透镜单元的电极电连接,所述驱动电路用于独立调节各个矩形通光孔液晶透镜单元的光轴的位置。本实用新型的拼接液晶透镜具有口径大,厚度薄,响应速度快的优点。
  • 拼接液晶透镜电子设备
  • [发明专利]一种基于液晶光学特性的静电测量装置及方法-CN202110273455.0在审
  • 张豪;陈晓西;徐律涵;王耀强;谢飞;陈思佃 - 电子科技大学
  • 2021-03-15 - 2021-05-25 - G01R29/12
  • 一种基于液晶光学特性的静电测量装置及方法,从上至下依次设置光源、液晶盒和图像采集处理模块,液晶盒从上至下依次设置有N个上基板和一个下基板,下基板和每个上基板有且只有一面涂有透明导电膜,且N个上基板涂有透明导电膜的一面朝下,下基板涂有透明导电膜的一面朝上;将下基板与设置在最下面的上基板重合区域的四周进行封接,并在重合区域内部注入液晶;这样每相邻两个上基板构成一个电容,下基板与设置在最下面的上基板构成一个电容,共N个电容串联;下基板设置一个电极导线端接地,N个上基板设置N个电极导线端分别连接到N个档位的测试端;图像采集处理模块采集光源发出的光透过液晶盒后的图像,并提取图像的灰度数据判断静电大小。
  • 一种基于液晶光学特性静电测量装置方法

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