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[发明专利]一种高密度清洗设备-CN202211139683.X在审
发明人：邵良武;张福刚;张勋泽;凌龙兴;杨昊;王召波 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;武汉京东方光电科技有限公司
申请日： 2022-09-19 - 公布日： 2022-12-23 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明公开了一种高密度清洗设备，该设备中设置有用于传送基板的清洗通道；清洗通道沿传送方向包括依次连接的液洗段和干燥段；在液洗段设置有液洗组件，在干燥段设置有干燥组件和导流组件；干燥组件被配置为，输出用于干燥基板的第一气流；第一气流的输出方向与基板的传送平面之间呈第一夹角，第一夹角为锐角；第一气流在基板上形成干燥作用区，以干燥液洗组件在基板表面产生的液体；导流组件被配置为，输出用于引导第一气流方向的第二气流；第二气流与第一气流相交，以增加干燥作用区的宽度和/或干燥作用区气流对基板表面液体的剪切应力。本发明的高密度清洗设备能够增强对基板表面的干燥效率，降低了Open类不良的发生率。
一种高密度清洗设备

[发明专利]导轨注油工具-CN201710918952.5有效
发明人：刘欢;张勋泽;宋淦;朱昊;丁冬;王效坤;闻庆亮;王健;张文俊;宣增志;董巍;黄金伟;王虎;王化露 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司
申请日： 2017-09-30 - 公布日： 2020-11-03 - 主分类号： F16N21/02 文献下载
摘要：本发明涉及导轨润滑技术领域，提出了一种导轨注油工具，该导轨注油工具包括：滑动本体、进油口以及涂油槽；滑动本体能够扣设在导轨上并沿导轨滑动，滑动本体朝向导轨的待涂油面的内侧面的垂直于导轨的截面的形状与导轨的待涂油面的截面形状相适配；进油口设置于滑动本体；涂油槽与进油口连通，设于滑动本体的内侧面并围绕导轨的待涂油面，以使滑动本体滑动时能够通过涂油槽向导轨的待涂油面涂油。使用该导轨注油工具能够将润滑油涂覆均匀，而且效率较高。
导轨注油工具

[发明专利]基板承载装置-CN201710833217.4有效
发明人：房伟华;肖亮;张勋泽;蔡登刚;段龙龙;王健;常浩 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司
申请日： 2017-09-15 - 公布日： 2020-06-05 - 主分类号： G02F1/13 文献下载
摘要：本发明涉及一种基板承载装置，包括承载框架，所述承载框架的四周设置有多个基板押元，所述基板押元上设置绝缘支撑件，所述支撑件包括对应于基板的表面的第一部分和对应于基板侧面的第二部分，所述基板押元包括对应于基板表面的第一区域和对应于基板侧面的第二区域，所述第一部分嵌入所述第一区域设置，所述第二部分固定连接于所述第二区域。本发明的有益效果是：支撑件的第一部分与基板押元的第一区域嵌入式安装，消除了支撑件与基板押元之间的安装缝隙，降低了基板插入到该缝隙中造成的破片的风险。
承载装置

[实用新型]一种高温单轴抗压实验岩样防氧化装置-CN201920431825.7有效
发明人：王群;张源;陈立军;王啸林;张勋泽 -专利权人：中国矿业大学
申请日： 2019-04-01 - 公布日： 2020-02-07 - 主分类号： G01N3/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种高温单轴抗压实验岩样防氧化装置，包括空心套筒、底部承压座、夹具、两个喉箍、上压头和岩样。底部承压座的底层为一圆台，在圆台的上表面中间一体设置一含有浅槽的凸台，岩样的一端套设在内，并与凸台的内沿紧密贴合，空心套筒的一端套在凸台的外沿并紧密贴合。夹具包括上夹具和下夹具，下夹具顶部为凸出弧形，岩样的另一端套设在内，并与内沿紧密贴合，空心套筒的另一端套设在下夹具的外沿并保持紧密贴合。上夹具下端为内凹弧形，上夹具内凹弧形与下夹具凸出弧形相契合。喉箍用于紧固空心套筒的上部和下部。本装置结构简洁，易于操作，可有效防止岩样高温氧化。
岩样紧密贴合空心套筒下夹具上夹具凸台夹具内凹弧形凸出弧形承压座喉箍外沿圆台本实用新型防氧化装置高温氧化一体设置装置结构上表面上压头单轴紧固抗压浅槽套在下端契合

[发明专利]一种间隙测量尺-CN201610371316.0有效
发明人：肖亮;丁冬;张勋泽;丁文兵;关召军;宣增志 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司
申请日： 2016-05-30 - 公布日： 2019-10-29 - 主分类号： G01B5/14 文献下载
摘要：本发明涉及测量设备领域，公开一种间隙测量尺，包括主尺身，主尺身具有与其延伸方向平行的底面、和位于其一端且与其延伸方向垂直的第一测量面，主尺身上设有沿其延伸方向分布的主刻度线；副尺身，副尺身的一端形成与其延伸方向垂直的第二测量面，副尺身的延伸方向与主尺身的延伸方向平行；副尺身可沿其延伸方向滑动地安装于主尺身，且副尺身形成第二测量面的一端可自主尺身形成第一测量面的端面伸出主尺身。本发明提供的间隙值测量尺在进行测量作业时，可提高主尺身的延伸方向与待测间隙的宽度方向之间的平行度，降低主观误差，使测量值更为精准，提高测量操作效率。
一种间隙测量

[发明专利]一种靶材余量测量装置-CN201710442063.6有效
发明人：边松林;张勋泽;肖亮;宣增志;关召军;丁文兵;张方馨 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司
申请日： 2017-06-13 - 公布日： 2019-04-02 - 主分类号： G01B5/06 文献下载
摘要：本发明涉及真空磁控镀膜技术领域，公开一种靶材余量测量装置，该靶材余量测量装置包括：主体结构，设有沿第一方向排列的多个测量轨道；每个测量轨道沿第二方向延伸，第二方向垂直于第一方向；多个顶针，与多个测量轨道一一对应；每个顶针沿第二方向延伸，且第一端限位于与其对应的测量轨道内；每个顶针可沿测量轨道自由移动、且可部分伸出测量轨道；多个滑块，与多个测量轨道一一对应；每个滑块可沿与其对应的测量轨道滑动地设置于测量轨道内、且限位于顶针的第一端一侧；每个滑块与测量轨道之间的静摩擦力大于其自身重力；主尺，设置于主体结构上，且设有沿第二方向排列的刻度线。上述靶材余量测量装置的测量步骤很简单，且测量结果比较精确。
一种余量测量装置

[发明专利]一种预溅射基板及其制作方法-CN201810139182.9在审
发明人：房伟华;张勋泽;焦东晟;肖亮;王效坤;蔡登刚;段龙龙;王健;常浩;张文俊;李立;曹金要 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司
申请日： 2018-02-09 - 公布日： 2018-07-31 - 主分类号： C23C14/02 文献下载
摘要：本发明实施例提供一种预溅射基板及其制作方法，该所述预溅射基板包括：主基板，主要采用氧化铝和/或硅化锆材料形成；主基板的溅射侧表面为具有凹凸结构的凹凸吸附面；和/或，主基板的溅射侧表面依次设置有中间层和熔射层；其中，中间层的表面粗糙度大于或等于3μm。
预溅射主基板基板侧表面中间层溅射表面粗糙度凹凸结构材料形成依次设置硅化锆熔射层吸附面氧化铝制作

[发明专利]金属层中小丘的检测方法和装置-CN201610665646.0在审
发明人：肖亮;张勋泽;朴祥秀 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司
申请日： 2016-08-12 - 公布日： 2017-01-25 - 主分类号： G01N21/88 文献下载
摘要：本发明提供一种金属层中小丘的检测方法和装置，属于小丘检测技术领域，其可解决现有的金属层中小丘的检测方法复杂、效率低、难以用于实际生产的问题。本发明的金属层中小丘的检测方法包括采集所述金属层的光学图像；调整所述光学图像的对比度和亮度；将调整后的所述光学图像转换为黑白图像；对所述黑白图像进行分析，以所述黑白图像中的黑色像素作为对应小丘的点。
金属小丘检测方法装置

[实用新型]一种防着板及磁控溅射设备-CN201620728176.3有效
发明人：肖亮;丁冬;张勋泽;朴祥秀;张浩 -专利权人：合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2016-07-11 - 公布日： 2016-12-14 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型提供一种防着板，包括多个防着块，各防着块在成膜腔室内壁同向拼接设置，且相邻防着块之间形成间隙。所述防着块包括阻挡部，所述阻挡部位于所述间隙内，增加了相邻防着块之间的间隙内的附着面积，从而减少了穿过防着块之间间隙到达成膜腔室内壁的等离子体的数量，从而解决成膜腔室内壁的污染问题，延长成膜腔室的使用寿命。而且，相邻防着块之间的最小间隙大于或等于预设的阈值，能够保证相邻防着块受热膨胀时不会相互干涉。
一种防着磁控溅射设备

[发明专利]触摸基板及其制造方法、触摸面板以及显示装置-CN201610014290.4有效
发明人：程贯杰;朴祥秀;张勋泽 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司
申请日： 2016-01-11 - 公布日： 2016-06-15 - 主分类号： G06F3/041 文献下载
摘要：本发明的实施例提供了触摸基板、触摸面板以及包括该触摸面板的显示装置。触摸基板包括：衬底基板；以及，位于衬底基板之上的触摸感应层，所述触摸感应层包括光敏银浆。本发明的实施例还提供了一种触摸基板的制造方法，包括：提供衬底基板；以及，在衬底基板之上形成触摸感应层，所述触摸感应层包括光敏银浆。通过利用光敏银浆材料形成触摸感应层，无需像制作常规的ITO触摸感应层那样额外地形成光刻胶图案。由此，可以简化工艺流程，提高生产效率并且降低生产成本。
触摸及其制造方法面板以及显示装置

[实用新型]板材安装治具-CN201520882117.7有效
发明人：王效坤;朴祥秀;张勋泽;丁冬;沙磊;王化露;王召波;张文俊;闻庆亮;吕雷雷;张卓然 -专利权人：合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2015-11-03 - 公布日： 2016-03-02 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型提供一种板材安装治具，属于半导体技术领域。本实用新型的板材安装治具包括框架，所述框架用于对板材进行吊装固定，还包括至少一个矫正单元，所述矫正单元包括支撑板以及与所述支撑板垂直设置的矫正模块，所述支撑板设置于所述框架内部，所述矫正模块能相对所述支撑板所在的平面垂直往复移动，以对所述板材进行面矫正。本实用新型的板材安装治具能够对安装在磁控溅射镀膜设备上的铜背板进行面矫正，从而使所有安装螺钉均能够与铜背板连接，避免存在未连接固定的安装螺钉碰撞磁铁，造成磁铁损坏。
板材安装

[发明专利]磁控溅射镀膜方法及系统-CN201410828442.5在审
发明人：王效坤;朴祥秀;张勋泽;王召波;沙磊;程贯杰;张文俊;王化露;闻庆亮;吕雷雷 -专利权人：合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2014-12-26 - 公布日： 2015-03-11 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明提供了一种磁控溅射镀膜方法及系统，属于显示技术领域。其中，该磁控溅射镀膜系统包括溅射腔室，还包括设置在所述溅射腔室内的由多条靶材拼接形成的靶材组；与所述靶材组相对设置、用于承载待成膜基板的基板载体；带动所述基板载体沿所述靶材排列方向往复运动的传动装置。本发明的技术方案能够有效提高磁控溅射成膜的均匀性，进而保证显示基板的性能和品质。
磁控溅射镀膜方法系统

[发明专利]校正治具-CN201310652050.3有效
发明人：王召波;朴祥秀;张勋泽;朱昊;张卓然;刘飞;张文俊 -专利权人：合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2013-12-05 - 公布日： 2014-04-02 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明公开了一种校正治具，该校正治具包括：校正架，所述校正架包括：校正基台、支撑架和校正顶针，所述校正基台水平放置，所述校正基台上设置有限位槽，所述支撑架设置于所述校正基台上，所述校正顶针竖直穿过所述支撑架，所述校正顶针位于所述限位槽的正上方，所述限位槽用于固定靶材支撑基座或中间连杆，所述校正顶针竖直向下运动至所述靶材支撑基座的凹槽内以对所述凹槽的异常处进行校正，本发明提供校正治具，其操作简单、校正精确度高，同时校正过程中所耗费的时间短、校正工作量小。
校正

[发明专利]薄膜晶体管及其制备方法、阵列基板、显示装置-CN201310500440.9有效
发明人：张运奇;朴祥秀;张勋泽;彭亮;於刘民;房伟华;申艳蕊;肖亮;黄道伍;董志远;段龙龙;王健 -专利权人：合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2013-10-22 - 公布日： 2014-01-22 - 主分类号： H01L29/786 文献下载
摘要：本发明提供一种薄膜晶体管及其制备方法、阵列基板、显示装置，属于显示装置制造技术领域，其可解决现有的薄膜晶体管的半导体有源区掺杂离子转变为掺杂半导体有源区时，离子杂质破坏半导体材料的晶格，导致薄膜晶体管性能下降的问题。本发明的薄膜晶体管，其包括栅极、栅极绝缘层、半导体有源区以及与半导体有源区连接的源极、漏极，还包括与所述半导体有源区接触的表面电荷转移层，所述表面电荷转移层用于使所述半导体有源区在不改变晶格结构的情况下产生大量的空穴或电子。本发明的半导体有源区的材料将电荷转移到表面电荷转移层材料中，转变成掺杂半导体有源区，进而使得薄膜晶体管的性能明显提高。
薄膜晶体管及其制备方法阵列显示装置

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