专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种Bi2S3量子点制备方法-CN201910530542.2有效
  • 唐利斌;项金钟;古月;袁绶章;铁筱滢;魏虹;左大凡;王燕 - 昆明物理研究所
  • 2019-06-19 - 2022-03-22 - C01G29/00
  • Bi2S3量子点制备方法,涉及量子点的制备,尤其是一种合成步骤简单,合成时间短的Bi2S3量子点制备方法。本发明的Bi2S3量子点制备方法,其特征在于该制备方法包括:1)配制Bi3+、2)S2‑的先驱体溶液、3)得到最后的反应溶液、4)离心洗涤、5)量子点干燥表征。本发明的Bi2S3量子点制备方法,相对于传统制备量子点的方法,本发明所使用的方法药品使用量少,合成简单,装置简便,无污染,成本低廉,而且在制备过程中可以通过调整前提的浓度反应比例来实现Bi2S3量子点产量的控制。
  • 一种bi2s3量子制备方法
  • [发明专利]一种红外偏振焦平面器件结构及其制备方法-CN201710529967.2有效
  • 李东升;杨超伟;韩福忠;郭建华;王向前;姚志健;封远庆;左大凡;王琼芳;李京辉 - 昆明物理研究所
  • 2017-06-30 - 2019-10-08 - H01L31/09
  • 本发明涉及一种红外偏振焦平面器件结构及其制备方法,该器件结构包括去除半导体衬底的红外焦平面器件和亚波长金属线栅;红外焦平面器件中,金属微柱分布在读出电路衬底正面的外围,形成了由具有一定中心距的金属微柱组成的矩形圈或方形圈;亚波长金属线栅中,金属线栅可以对中波红外和长波红外波段的光实现偏振,而且,金属线栅衬底正面的外围有一个由具有一定中心距的铟柱组成的矩形圈或方形圈,并和读出电路上的金属微柱组成的矩形圈或方形圈一一对应,铟柱之间的中心距和读出电路上的金属微柱之间的中心距相同;通过将带有铟柱的亚波长金属线栅和去除半导体衬底的红外焦平面器件进行倒装互连,使得读出电路上的金属微柱插入到亚波长金属线栅上的铟柱内,进而形成稳定结构的红外偏振焦平面器件。
  • 一种红外偏振平面器件结构及其制备方法
  • [发明专利]一种铟凸点器件结构及其制备方法-CN201610316689.8在审
  • 杨超伟;李京辉;韩福忠;王琼芳;封远庆;左大凡;杨毕春;周连军;吴圣娟 - 昆明物理研究所
  • 2016-05-12 - 2016-08-03 - H01L31/09
  • 本发明涉及一种铟凸点器件结构及其制备方法,属于铟凸点器件制备技术领域。该器件结构包含半导体衬底、焊盘、第一钝化层、第二钝化层、UBM金属层和铟凸点;UBM金属层包括粘附层、阻挡层、缓冲层和浸润层;在该器件结构中,粘附层覆盖了部分第一钝化层,第二钝化层又覆盖了部分粘附层,这种堆叠结构提供了较高的结构强度,当器件受到热冲击时,可防止由于热应力而导致的铟凸点和UBM组成的结构沿着粘附层和第一钝化层界面而脱落的情况。此外,缓冲层的设置缓和了衬底和UBM之间在回流时内应力的变化,进而防止由于内应力变化过大而导致的铟凸点从浸润层上脱落的情况。所以本发明器件结构具有更高的稳定性,更长的使用寿命。
  • 一种铟凸点器件结构及其制备方法

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