专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]磁盘装置以及伺服写入方法-CN202010721923.1有效
  • 山下哲;青木隆浩 - 株式会社 东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社
  • 2020-07-24 - 2023-05-26 - G11B5/596
  • 实施方式提供能够提高盘的记录容量的磁盘装置以及伺服写入方法。本实施方式涉及的伺服写入方法应用于磁盘装置,所述磁盘装置具备头和盘,所述头进行数据的写入以及读取,所述盘具有多个螺旋伺服图案,该多个螺旋伺服图案从第1区域向与所述第1区域不同的第2区域,通过速度在所述第1区域和所述第2区域中不同的所述头向第1方向呈螺旋状地被写入,所述伺服写入方法包括:使所述头在与所述第1方向相反的第2方向上进行移动来分别读取所述多个螺旋伺服图案,对在所述第1区域中分别读取所述多个螺旋伺服图案的多个时间间隔进行测定,基于所述多个时间间隔,向所述第1区域写入多个伺服图案。
  • 磁盘装置以及伺服写入方法
  • [发明专利]磁盘装置的制造方法及磁盘装置-CN202210106000.4在审
  • 马笼贵弘;山下哲;青木隆浩 - 株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社
  • 2022-01-28 - 2023-03-24 - G11B21/02
  • 提供用于高效地记录辅助伺服图案的磁盘装置的制造方法及能够高效地记录辅助伺服图案的磁盘装置。制造方法包括进行第1记录面中的磁头的间隙的初始值的分布的推定;和一边进行使用了推定出的间隙的初始值的分布的间隙的控制、一边向第1记录面记录第1螺旋信号。制造方法包括在使用了记录于第1记录面的第1螺旋信号的定位控制下测定第2记录面中的磁头的间隙的初始值的分布。制造方法包括一边使用测定出的第2记录面中的磁头的间隙的初始值的分布来进行间隙的控制、一边向第2记录面记录第1螺旋信号。制造方法包括在使用了记录于第2记录面的第1螺旋信号的定位控制下向第3记录面记录第2螺旋信号。
  • 磁盘装置制造方法
  • [发明专利]流量控制系统和流量测定方法-CN201980043297.0在审
  • 永濑正明;山下哲;河岛将慈;泷本昌彦;西野功二;池田信一 - 株式会社富士金
  • 2019-07-16 - 2021-03-09 - G05D7/06
  • 本发明的流量控制系统(1)的控制部(3),具备:记录压力传感器(P)和温度传感器(T)的测量值的记录部(31);存储与压力传感器(P)的测量值对应的从第一阀(V1)到第二阀(V2)为止的容积的存储部(32);和基于第一压力值(P1)和第一温度值(T1)、第二压力值(P2)和第二温度值(P2)以及与第二压力值(P2)对应的从第一阀(V1)到第二阀(V2)为止的容积值(V)对流量进行运算的运算部(33),其中,第一压力值(P1)和第一温度值(T1)为:将第一阀(V1)和第二阀(V2)打开而让气体流动,在气体流动的状态下将第一阀(V1)和第二阀(V2)同时关闭,此后测量得到的第一压力值(P1)和第一温度值(P2),第二压力值(P2)和第二温度值(T2)为:将第一阀(V1)和第二阀(V2)打开让气体流动,在气体流动的状态下将第二阀(V2)关闭,此后,经过规定时间(Δt)后,将第一阀(V1)关闭后测量得到的第二压力值(P2)和第二温度值(T2)。
  • 流量控制系统测定方法
  • [发明专利]原料气化供给装置-CN201380057690.8在审
  • 日高敦志;永濑正明;山下哲;西野功二;池田信一 - 株式会社富士金
  • 2013-11-20 - 2015-08-05 - C23C16/448
  • 本发明涉及原料气化供给装置,无论是固体原料还是液体原料,都是使几乎全部原料气体不发生热分解地成为期望的高温、高蒸气压的原料气体,从而能够将高纯度且达到期望浓度的原料气体以高精度进行流量控制同时向处理腔稳定地供给。本发明的原料气化供给装置由原料收纳罐、对从液体收纳罐压送而来的液体进行气化的气化器、对来自气化器的原料气体的流量进行调整的流量控制装置、以及对气化器、高温型压力式流量控制装置及与气化器和高温型压力式流量控制装置连接的流路的期望部分进行加热的加热装置构成,至少针对所述原料收纳罐、气化器、流量控制装置、将所述各设备装置之间加以连结的流路以及介设于流路中的开闭阀中的任一个的金属表面的各液体接触部或气体接触部,实施了Al2O3钝化处理或Cr2O3钝化处理或FeF2钝化处理。
  • 原料气化供给装置
  • [发明专利]读写头控制装置、存储装置和接触检测方法-CN200710160021.X无效
  • 山下哲;齐藤俊二;阿部幸雄;柳茂知 - 富士通株式会社
  • 2007-12-20 - 2008-08-06 - G11B5/60
  • 本发明涉及读写头控制装置、存储装置和接触检测方法。该读写头控制装置通过加热器的热膨胀来控制用于从存储介质读数据和向存储介质写数据的读写头的位置,该读写头控制装置包括:加热器控制单元,其逐级地增加提供给加热器的电流;以及外力抽样获取单元,其获取分别表示沿读写头支撑机构的运动方向作用于读写头上的外力的大小的信号的抽样值。该读写头控制装置还包括:外力评价单元,每当加热器控制单元增加电流时,外力评价单元计算由外力抽样获取单元获取的抽样值的代表值,以评价外力的大小;以及接触检测单元,其通过将由外力评价单元得到的各个评价结果与预定的阈值进行比较,来检测读写头与存储介质之间的接触。
  • 读写控制装置存储接触检测方法
  • [发明专利]光学存储装置以及光学存储介质的读取方法-CN02829499.8无效
  • 山下哲 - 富士通株式会社
  • 2002-08-30 - 2005-08-03 - G11B7/005
  • 一种光学存储装置具有:信号检测部(29,30),其从光学存储介质的返回光中检测由相位凹坑调制的光强度作为ROM信号,并检测所述返回光被所述记录膜调制的RAM信号,其中所述光学存储介质具有相位凹坑和记录层,可以同时再生ROM和RAM;反馈电路(31),其将所述ROM信号反馈到所述激光元件的激光器驱动电流中,以减少所述记录膜的RAM信号的所述相位凹坑的串扰;调整电路(52),其进行调整,以实现与所述激光元件的温度变化无关的预定串扰抑制效果。由于根据激光器温度变化而改变用于减小相位凹坑串扰的反馈增益,所以可以设定使得MO信号不会随激光器温度变化而劣化的RF反馈增益。
  • 光学存储装置以及介质读取方法

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