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[发明专利]基于等离子体的反应器的冷却-CN202080027205.2有效
发明人：约翰·斯蒂芬·德雷维瑞;尼尔·马丁·保罗·本杰明 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2020-04-07 - 公布日： 2023-01-17 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：在一实施方案中，被公开的装置是热管冷却系统，该系统包含具有被截断的上部分的锥形结构。该锥形结构被配置以形成在介电窗上且该锥形结构被配置以冷凝来自位于或形成于在该介电窗和该锥形结构之间所形成的容积中的传热流体的蒸气。至少一个冷却线圈形成在该锥形结构的外部部分上。其他装置和系统被公开。
基于等离子体反应器冷却

[发明专利]包括法拉第笼的静电卡盘和相关的操作、监控和控制方法-CN201911064571.0有效
发明人： 尼尔·马丁·保罗·本杰明;亨利·波沃尼;安东尼·J·里奇 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2017-10-16 - 公布日： 2022-12-13 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明涉及包括法拉第笼的静电卡盘和相关的操作、监控和控制方法。将陶瓷组件附接到具有碗形状的下支撑结构。陶瓷组件具有构造成支撑衬底的顶表面。至少一个夹持电极位于陶瓷组件的上部区域内。主射频(RF)功率输送电极位于陶瓷组件内在至少一个夹持电极的竖直下方的位置处，使得陶瓷组件的在主RF功率输送电极与至少一个夹持电极之间的区域基本上没有其他导电材料。多个RF功率输送连接模块以基本均匀的方式围绕陶瓷组件的周边分布。RF功率输送连接模块中的每一个被配置为在其相应位置处形成从下支撑结构到主RF功率输送电极的电连接件。
包括法拉第静电卡盘相关操作监控控制方法

[发明专利]基于增强的闭环气体的热交换-CN202180029878.6在审
发明人： 尼尔·马丁·保罗·本杰明;约翰·斯蒂芬·德雷维瑞 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2021-04-19 - 公布日： 2022-12-06 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：一种温度控制系统，其包括具有进气孔和排气孔的外壳。空气放大器设置在外壳内。气体供应管线通过进气孔连接到空气放大器。气体供应管线向空气放大器供应第一气体流。空气放大器在外壳内将第一气体流放大为第二气体流。第二气体流通过排气孔排出。
基于增强闭环气体热交换

[发明专利]高功率射频螺旋线圈滤波器-CN201880084322.5有效
发明人：肖恩·凯利·奥布莱恩;赫马·斯沃普·莫皮迪维;赛义德·贾法·雅法良-特哈妮;尼尔·马丁·保罗·本杰明;杰森·奥古斯蒂诺 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2018-12-14 - 公布日： 2022-07-19 - 主分类号： H01F17/04 文献下载
摘要：各种实施方式包含一种用于过滤基于等离子体的处理设备中的射频的装置。在各种实施方式中，RF滤波器装置包含以间隔开的布置彼此电耦合并基本平行的多个基本平面的螺旋滤波器。在一个实施方式中，基于接连螺旋的布置，平面螺旋滤波器中的每一个作为内部到内部的电连接或外部到外部的电连接被耦合到平面螺旋滤波器中的一个相邻螺旋滤波器，以便增加总电感值。公开了其他方法、装置、设备和系统。
功率射频螺旋线圈滤波器

[发明专利]含形成法拉第笼的部分的夹持组件的静电卡盘和相关方法-CN201710957305.5有效
发明人： 尼尔·马丁·保罗·本杰明;亨利·波沃尼;安东尼·J·里奇 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2017-10-16 - 公布日： 2021-08-17 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明涉及含形成法拉第笼的部分的夹持组件的静电卡盘和相关方法。使用接合层将陶瓷层附接到基板的顶表面。陶瓷层具有构造成支撑衬底的顶表面。夹持电极组件位于陶瓷层的上部区域内。该夹持电极组件用于将衬底夹持到陶瓷层的顶表面上，并且用作主射频(RF)功率输送电极。多个RF功率输送连接模块以基本均匀的方式围绕陶瓷层的周边分布。RF功率输送连接模块中的每一个被配置为在其相应位置处形成从基板到夹持电极组件的电连接件。
形成法拉第部分夹持组件静电卡盘相关方法

[发明专利]维护模式电源系统-CN201980049063.7在审
发明人： 尼尔·马丁·保罗·本杰明;约翰·皮斯 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2019-07-25 - 公布日： 2021-03-09 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：公开了一种用于控制到等离子体处理装置的电压电平的双模式电源设备。该双模式电源设备包括电源连接器和控制电路。该电源连接器连接到第一电压电源或第二电压电源。该控制电路连接在该电源连接器的输出与该等离子体处理装置的第一和第二电压子系统之间。在该等离子体处理装置的第一操作模式下，该控制电路基于该第一电压电源将第一电压提供给该第一电压子系统。在该等离子体处理装置的第二操作模式下，该控制电路基于第二电压电源将第二电压提供给该第二电压子系统。
维护模式电源系统

[发明专利]包括法拉第笼的静电卡盘和相关的操作、监控和控制方法-CN201710975318.5有效
发明人： 尼尔·马丁·保罗·本杰明;亨利·波沃尼;安东尼·J·里奇 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2017-10-16 - 公布日： 2019-11-29 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明涉及包括法拉第笼的静电卡盘和相关的操作、监控和控制方法。将陶瓷组件附接到具有碗形状的下支撑结构。陶瓷组件具有构造成支撑衬底的顶表面。至少一个夹持电极位于陶瓷组件的上部区域内。主射频(RF)功率输送电极位于陶瓷组件内在至少一个夹持电极的竖直下方的位置处，使得陶瓷组件的在主RF功率输送电极与至少一个夹持电极之间的区域基本上没有其他导电材料。多个RF功率输送连接模块以基本均匀的方式围绕陶瓷组件的周边分布。RF功率输送连接模块中的每一个被配置为在其相应位置处形成从下支撑结构到主RF功率输送电极的电连接件。
陶瓷组件电极夹持下支撑结构法拉第笼静电卡盘输送连接位置处导电材料电连接件功率输送上部区域周边分布顶表面碗形状主射频监控衬底竖直配置支撑

[发明专利]等离子体点燃和维持的方法及装置-CN201510937447.6在审
发明人： 尼尔·马丁·保罗·本杰明;安德莱斯·费舍 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2011-10-03 - 公布日： 2016-05-11 - 主分类号： H05H1/30 文献下载
摘要：一种用于产生等离子体的装置，其包括等离子体产生容器以及线圈，所述线圈具有线圈长度以及第一组部分封闭的、纵向取向的导电(PELOC)指状件和第二组PELOC指状件。PELOC指状件组沿着容器的纵轴线取向，使得每个PELOC指状件组部分地封闭容器的周边。两组PELOC指状件被定向为指状件尖端朝向指状件尖端并且相隔组间距离，该组间距离小于线圈长度。
等离子体点燃维持方法装置

[发明专利]等离子体处理室中的同步且缩短的主从式射频脉冲-CN201280033591.1有效
发明人： 尼尔·马丁·保罗·本杰明;亚瑟·H·萨托 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2012-07-06 - 公布日： 2014-05-21 - 主分类号： C23C16/00 文献下载
摘要：用于处理衬底的等离子体处理装置和技术，其包括对第一RF信号和延时且缩短的第二RF信号的同步RF脉冲的使用。第一RF信号可以是主等离子体产生RF信号而第二RF信号可以是RF偏置信号，反之亦然。作为选择地或另外地，第一RF信号可以是高频RF信号而第二RF信号可以是低频RF信号。第一RF信号或者第二RF信号可作为主信号，同时另一个作为从信号。作为选择地，可采用外部电路作为主器件来控制第一RF信号和第二RF信号二者。跟踪和保持技术和电路被提供来确保用于工艺控制和其它目的的精确测量。
等离子体处理中的同步缩短主从射频脉冲

[发明专利]用于点燃和维持等离子体的方法和装置-CN201180050356.0有效
发明人：安德莱斯·费舍;尼尔·马丁·保罗·本杰明 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2011-10-19 - 公布日： 2013-06-19 - 主分类号： H01J17/10 文献下载
摘要：一种大气电感耦合等离子体炬，其包括在其内产生等离子体的容器和缠绕该容器的外周的线圈。该线圈具有至少两个间隔开的绕组层。该线圈被构造成使得在缠绕相邻的多匝之前缠绕给定的多匝的所有绕组层。该线圈的第一端部耦合到地，并且所述线圈的第二端部被耦合以接收RF驱动信号，该RF驱动信号被配置为点燃等离子体以便处理。
用于点燃维持等离子体方法装置

[发明专利]等离子体点燃和维持的方法及装置-CN201180050020.4有效
发明人： 尼尔·马丁·保罗·本杰明;安德莱斯·费舍 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2011-10-03 - 公布日： 2013-06-12 - 主分类号： B23K9/00 文献下载
摘要：一种用于产生等离子体的装置，其包括等离子体产生容器以及线圈，所述线圈具有线圈长度以及第一组部分封闭的、纵向取向的导电（PELOC）指状件和第二组PELOC指状件。PELOC指状件组沿着容器的纵轴线取向，使得每个PELOC指状件组部分地封闭容器的周边。两组PELOC指状件被定向为指状件尖端朝向指状件尖端并且相隔组间距离，该组间距离小于线圈长度。
等离子体点燃维持方法装置

[发明专利]用于等离子体处理系统的感应线圈设备的方法和装置-CN201180019808.9无效
发明人： 尼尔·马丁·保罗·本杰明 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2011-04-19 - 公布日： 2012-12-26 - 主分类号： H05H1/46 文献下载
摘要：提供了一种用于在基板处理过程中在整个基板上提供等离子体均匀性的等离子体操作系统中的天线设备。该设备包括多个圆形天线组件。该多个圆形天线组件的每个圆形天线组件包括非圆形线圈组。该非圆形线圈组的每个非圆形线圈在方位角方向上偏转预定的角度。该设备还包括用于给所述多个圆形天线组件提供功率的功率发生器组。
用于等离子体处理系统感应线圈设备方法装置

[发明专利]用于功率电路的射频绝缘-CN201080047804.7有效
发明人： 尼尔·马丁·保罗·本杰明 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2010-10-19 - 公布日： 2012-07-11 - 主分类号： H05H1/46 文献下载
摘要：一种提供绝缘功率到还受制于成套RF信号的部件的系统和方法，该成套RF信号至少包括具有第一RF频率的第一RF信号。本发明包括提供直流电压信号并使用绝缘变压器将直流电压信号调制为绝缘功率信号。绝缘功率信号具有高于60Hz且低于第一RF频率的中间频率。本发明包括将直流电压信号提供到初级绕组以及从次级绕组获取绝缘功率信号；并使用绝缘功率信号将绝缘功率传送到组件。
用于功率电路射频绝缘

[发明专利]等离子体处理系统中的电流控制-CN201080043983.7有效
发明人：龙茂林;赛义德·贾法·雅法良-特哈妮;亚瑟·萨托;尼尔·马丁·保罗·本杰明;诺曼·威廉姆斯 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2010-10-19 - 公布日： 2012-07-11 - 主分类号： H05H1/46 文献下载
摘要：用于产生等离子体以处理至少晶片的等离子体处理系统。所述等离子体处理系统包括线圈，用以传导用于保持等离子体的至少一部分的电流。所述等离子体处理系统还包括与所述线圈耦合的传感器，用以测量所供应的电流的强度以提供强度测量结果，而无需测量所供应的电流的任何相位角。所述所供应的电流是所述电流或用于提供多个电流(例如，包括所述电流)的总电流。所述等离子体处理系统还包括与所述传感器耦合的控制器，用以利用所述强度测量结果和/或用所述强度测量结果得出的信息而无需利用与相位角测量有关的信息来产生命令，并且用以提供所述命令以控制所述所供应的电流的强度和/或所述总电流的强度。
等离子体处理系统中的电流控制

[发明专利]用于等离子体处理工具原位工艺监控和控制的方法和装置-CN201080029444.8有效
发明人：维甲压库马尔·C·凡尼高泊;尼尔·马丁·保罗·本杰明 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2010-06-29 - 公布日： 2012-05-23 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：本发明提供了用于在方案的执行过程中实施自动的原位工艺控制模式的装置。所述装置包括被配置为至少在方案执行过程中收集传感器数据的第一集合以便于监控设定点的控制环路传感器，其中所述控制环路传感器是工艺控制环路的一部分。所述装置也包括被配置为至少收集传感器数据的第二集合的独立传感器，所述独立传感器不是工艺控制环路的一部分。所述装置还包括被配置为至少接收传感器数据的第一集合和传感器数据的第二集合中的至少一者的中心。所述装置还进一步包括与所述中心可通信地耦合的分析计算机，且所述分析计算机被配置为对传感器数据的第一集合和传感器数据的第二集合中的至少一者执行分析。
用于等离子体处理工具原位工艺监控控制方法装置

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