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[发明专利]放射线敏感性组合物-CN201711363964.2有效
发明人：越后雅敏;小黑大 -专利权人：三菱瓦斯化学株式会社
申请日： 2007-11-01 - 公布日： 2021-02-09 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供了一种放射线敏感性组合物，该放射线敏感性组合物含有环状化合物B和低分子量溶解促进剂D，低分子量溶解促进剂D的掺合量为使环状化合物B和低分子量溶解促进剂D的总和为固体成分的总量的50‑99.999重量％的量。本发明的放射线敏感性组合物具有高灵敏度、高分辨力、高耐蚀刻性、低逸气量、以及得到的抗蚀图形的形状良好的优点。
放射线敏感性组合

[发明专利]放射线敏感性组合物-CN201410350098.3有效
发明人：越后雅敏;小黑大 -专利权人：三菱瓦斯化学株式会社
申请日： 2007-11-01 - 公布日： 2019-01-22 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供了含有高灵敏度、高分辨力、高耐蚀刻性、低逸气量、以及得到的抗蚀图形的形状良好的抗蚀剂化合物的放射线敏感性组合物；以及使用该放射线敏感性组合物的抗蚀图形的形成方法；以及光学特性和耐蚀刻性良好的、而且实质上无升华物的用于形成新的光刻胶下层膜的组合物及由其形成的下层膜。该放射线敏感性组合物含有具有特定结构的环状化合物和溶剂，所述环状化合物为通过醛类化合物A1和酚类化合物A2的缩合反应而合成的分子量为700‑5000的环状化合物A，其中所述醛类化合物A1为碳原子数为2‑59且具有1‑4个甲酰基的化合物，所述酚类化合物A2为碳原子数为6‑15且具有1‑3个酚羟基的化合物。还提供了用于该组合物的环状化合物。
放射线敏感性组合

[发明专利]1，3-双(羟基苯基)-5-乙基金刚烷化合物及其制造方法以及芳香族聚碳酸酯树脂及其制造方法-CN201480057079.X在审
发明人：中村刚;小黑大;藤田英明;在间文哉;杉山源希 -专利权人：三菱瓦斯化学株式会社
申请日： 2014-10-22 - 公布日： 2016-06-08 - 主分类号： C07C39/17 文献下载
摘要：根据本发明能够提供由下述式(1)所表示的1,3-双(羟基苯基)-5-乙基金刚烷化合物及其制造方法以及包含该化合物而成的芳香族聚碳酸酯树脂及其制造方法。(式中，R表示碳数1～6的烷基、碳数3～6的环烷基或苯基，n表示0～2的整数。)
羟基苯基乙基金刚化合物及其制造方法以及芳香族聚碳酸酯树脂

[发明专利]环氧树脂固化剂-CN201380057269.7在审
发明人：上野修一;小黑大 -专利权人：三菱瓦斯化学株式会社
申请日： 2013-10-21 - 公布日： 2015-07-01 - 主分类号： C08G59/42 文献下载
摘要：本发明的环氧树脂固化剂包含下述式(1)所表示的化合物。(式(1)中，R表示甲基、乙基或羟基，n为1～3的整数。)
环氧树脂固化剂

[发明专利]含三环癸烷骨架的萘酚化合物和酯化合物及其制备方法-CN201210567501.9有效
发明人：北诚二;荻原雅司;北村光晴;小黑大;东原豪 -专利权人：三菱瓦斯化学株式会社
申请日： 2008-12-04 - 公布日： 2013-06-12 - 主分类号： C07C49/83 文献下载
摘要：本发明公开了一种下述式（1）表示的含三环癸烷骨架的萘酚化合物及其制备方法，该方法包括使下述式（2）表示的酯化合物进行弗里斯重排反应的工序；本发明还提供下述式（2）表示的酯化合物及其制备方法，该方法包括在氟化氢的存在下，在20-40℃下使三环[5.2.1.02,6]癸-3-烯与一氧化碳反应，得到下述式（3）表示的酰氟，并在20℃以下使得到的酰氟与1-萘酚进行酯化反应的工序。该含三环癸烷骨架的萘酚化合物能够用于二甲基萘甲醛树脂的改性。
含三环癸烷骨架萘酚化合物酯化及其制备方法

[发明专利]放射线敏感性组合物-CN201210519762.3有效
发明人：越后雅敏;小黑大 -专利权人：三菱瓦斯化学株式会社
申请日： 2007-11-01 - 公布日： 2013-05-15 - 主分类号： C07C39/17 文献下载
摘要：本发明提供了含有高灵敏度、高分辨力、高耐蚀刻性、低逸气量、以及得到的抗蚀图形的形状良好的抗蚀剂化合物的放射线敏感性组合物；以及使用该放射线敏感性组合物的抗蚀图形的形成方法；以及光学特性和耐蚀刻性良好的、而且实质上无升华物的用于形成新的光刻胶下层膜的组合物及由其形成的下层膜。该放射线敏感性组合物含有具有特定结构的环状化合物和溶剂，所述环状化合物为通过醛类化合物A1和酚类化合物A2的缩合反应而合成的分子量为700-5000的环状化合物A，其中所述醛类化合物A1为碳原子数为2-59且具有1-4个甲酰基的化合物，所述酚类化合物A2为碳原子数为6-15且具有1-3个酚羟基的化合物。还提供了用于该组合物的环状化合物。
放射线敏感性组合

[发明专利]改性萘甲醛树脂及含三环癸烷骨架的萘酚化合物以及酯化合物-CN200880119429.5有效
发明人：北诚二;荻原雅司;北村光晴;小黑大;东原豪 -专利权人：三菱瓦斯化学株式会社
申请日： 2008-12-04 - 公布日： 2013-02-13 - 主分类号： C08G10/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种改性二甲基萘甲醛树脂，该改性二甲基萘甲醛树脂的耐热性良好，可用于电绝缘材料、抗蚀剂用树脂、半导体用密封树脂、印刷线路板用粘结剂、装载于电力机械·电子仪器·工业仪器等的电层压板以及预浸渍的基质树脂、组装层压板材料、纤维强化塑料用树脂、液晶显示面板的密封用树脂、涂料、各种涂层剂、粘结剂、在电器、电子器件的层压板、成型品、被膜材料、密封材料等中使用的热固性树脂。所述改性二甲基萘甲醛树脂是通过用选自由下述通式[2]表示的苯酚类、下述通式[3]表示的萘酚类以及下述通式[4]表示的萘酚类组成的组中的至少一种(其中必须含有通式[3]表示的萘酚类或通式[4]表示的萘酚类中的任意一种)对分子内具有下述通式[1]表示的结构单元的多官能度二甲基萘甲醛树脂进行改性而得到的。
改性甲醛树脂含三环癸烷骨架萘酚化合物以及酯化

[发明专利]聚酯树脂和光学透镜-CN201080060421.3有效
发明人：峰崎琢也;广兼岳志;小黑大 -专利权人：三菱瓦斯化学株式会社
申请日： 2010-12-24 - 公布日： 2012-10-03 - 主分类号： C08G63/181 文献下载
摘要：一种聚酯树脂，其含有来自乙二醇和下述通式（I）所示的二元醇的二元醇单元及含有50摩尔%以上来自芳香族二元羧酸的单元的二元羧酸单元，全部二元醇单元中的40～99摩尔%是来自乙二醇的单元，全部二元醇单元中的1～60摩尔%是来自下述通式（I）所示的二元醇的单元（式中，A表示选自苯、萘、蒽、菲和芘中的芳香环。R¹表示碳原子数为1～12的烷基、取代或非取代的碳原子数为6～12的芳基或卤原子，n表示0～4的整数。在存在多个R¹时，多个R¹可以互相相同也可以不同）。
聚酯树脂光学透镜

[发明专利]二环己烷衍生化合物及其制造方法-CN201180006129.8无效
发明人：越后雅敏;小黑大 -专利权人：三菱瓦斯化学株式会社
申请日： 2011-01-13 - 公布日： 2012-10-03 - 主分类号： C07C43/12 文献下载
摘要：公开一种二环己烷衍生物及其生产方法，所述二环己烷衍生物可用于与光致抗蚀剂或医药和农药化合物的中间体有关的技术领域。具体公开一种由通式(II)表示的二环己烷衍生化合物(其中，各Y独立地表示C_1-10烷基、卤素原子、酰氧基、烷氧羰基或羟基，X¹表示卤素原子，m表示0-11的整数和m'表示0-10的整数)。
环己烷衍生化合物及其制造方法

[发明专利]环状化合物、其生产方法、放射线敏感性组合物和抗蚀图案的形成方法-CN201080055311.8无效
发明人：林宏美;越后雅敏;小黑大 -专利权人：三菱瓦斯化学株式会社
申请日： 2010-09-27 - 公布日： 2012-08-22 - 主分类号： C07C39/17 文献下载
摘要：公开的是：在安全溶剂中具有高溶解度、高灵敏度并能够提供具有良好形状抗蚀图案的环状化合物；生产该环状化合物的方法；包含该环状化合物的放射线敏感性组合物；和使用该放射线敏感性组合物形成抗蚀图案的方法。具体公开的是：具有特定结构的环状化合物；包含该化合物的放射线敏感性组合物；和使用该组合物形成抗蚀图案的方法。
环状化合物生产方法放射线敏感性组合图案形成

[发明专利]环状化合物、其制造方法、辐射敏感组合物及抗蚀图案形成方法-CN201080040034.3无效
发明人：林宏美;越后雅敏;小黑大 -专利权人：三菱瓦斯化学株式会社
申请日： 2010-08-30 - 公布日： 2012-07-18 - 主分类号： C07C39/17 文献下载
摘要：下述式(1)所示的环状化合物。(式中，L、R1、R′及m如说明书中所定义的)。式(1)所示的环状化合物由于相对于安全溶剂的溶解性高，灵敏度高，并且可赋予良好的抗蚀图案形状，所以作为辐射敏感组合物的成分是有用的。
环状化合物制造方法辐射敏感组合图案形成

[发明专利]具有二噁烷结构的醇化合物及其制造方法-CN201080006099.6无效
发明人： 小黑大 -专利权人：三菱瓦斯化学株式会社
申请日： 2010-01-28 - 公布日： 2011-12-28 - 主分类号： C07D319/06 文献下载
摘要：本发明提供一种作为涂料、粘接剂、医药品、化妆品、食品添加剂以及表面活性剂等的原料以及中间体有用的醇化合物以及制造该化合物的方法。一种由下述通式(1)所示的醇化合物。(式中，A表示选自苯、萘、蒽、菲以及芘的芳香环。R¹表示碳原子数1～12的烷基、取代或未取代的碳原子数6～10的芳基或卤原子，n表示0～4的整数。其中，当A为苯时，n表示1～4的整数，当n表示2～4的整数时，多个R¹可以互相相同也可以不同。R²表示氢原子、甲基或乙基)。
具有二噁烷结构醇化及其制造方法

[发明专利]具有二噁烷结构的二元醇化合物及其制造方法-CN201080004222.0有效
发明人：峰崎琢也;广兼岳志;小黑大 -专利权人：三菱瓦斯化学株式会社
申请日： 2010-01-07 - 公布日： 2011-12-07 - 主分类号： C07D319/06 文献下载
摘要：本发明提供一种作为合成树脂、合成树脂用添加剂、医药品、化妆品、食品添加剂以及表面活性剂等的原料以及中间体有用的二元醇化合物、以及制造该化合物的方法。由下述通式(1)表示的二元醇化合物。(式中，A表示由选自萘、蒽、菲以及芘的缩合芳香环构成的2价连接基团。R表示碳原子数1～12的烷基、取代或未取代的碳原子数6～10的芳基或卤原子，n表示0～4的整数。当n表示2～4的整数时，多个R可以互相相同也可以不同。)。
具有二噁烷结构二元醇化及其制造方法

[发明专利]具有二噁烷结构的二元醇化合物及其制造方法-CN201080004223.5无效
发明人：峰崎琢也;广兼岳志;小黑大 -专利权人：三菱瓦斯化学株式会社
申请日： 2010-01-07 - 公布日： 2011-12-07 - 主分类号： C07D319/06 文献下载
摘要：本发明提供作为合成树脂、合成树脂用添加剂、医药品、化妆品、食品添加剂和表面活性剂等的原料和中间体有用的二元醇化合物以及制造该化合物的方法。其是下述通式(1)所示的二元醇化合物。(式中，R表示碳原子数为1～12的烷基、取代或未取代的碳原子数为6～10的芳基或卤原子，n表示1～4的整数，当n表示2～4的整数时，多个R相互可以相同也可以不同。)。
具有二噁烷结构二元醇化及其制造方法

[发明专利]用于形成光刻用下层膜的组合物和多层抗蚀图案的形成方法-CN200880119430.8有效
发明人： 小黑大;东原豪;北诚二;北村光晴;荻原雅司 -专利权人：三菱瓦斯化学株式会社
申请日： 2008-12-01 - 公布日： 2010-11-17 - 主分类号： G03F7/11 文献下载
摘要：本发明提供一种赋予光刻用下层膜良好的光学特性和耐蚀刻性的用于形成光刻用下层膜的组合物，以及由该组合物形成的折射率(n)高、消光系数(k)低、透明且耐蚀刻性高、而且升华性成分极其少的下层膜，以及使用了该下层膜的图案形成方法。这样的用于形成下层膜的组合物至少含有使萘和/或烷基萘与甲醛反应而得到的含有特定单元的萘甲醛系聚合物和有机溶剂。
用于形成光刻下层组合多层图案方法

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