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[发明专利]一种单层二维碳化硅晶体制备方法-CN202211114433.0在审
发明人：秦朋;孙韬;梅大江 -专利权人： 宁波日晟新材料有限公司
申请日： 2022-09-14 - 公布日： 2023-01-03 - 主分类号： C01B32/984 文献下载
摘要：本发明公开了一种单层二维碳化硅晶体制备方法，包括以下步骤：S1、采用过渡金属作为衬底材料，将衬底材料清洗干净，去除衬底材料表面的氧化层后，置于反应炉内；S2、将气相含碳化合物和气相含硅化合物作为原料通入密闭的反应炉内，将反应炉抽真空至真空度为1×10‑5Pa‑1×10‑4Pa，然后向反应炉内通入保护气体；S3、将反应炉升温到100℃‑1000℃，保温10‑100min，使得气相含碳化合物和气相含硅化合物在衬底材料上生长；S4、以1℃/min‑10℃/min的速率将反应率冷切到室温，得到单层二维碳化硅晶体材料。采用本发明所述的单层二维碳化硅晶体制备方法，能够解决现有的单层二维SiC材料制备温度要求高、条件苛刻，收率低的问题。
一种单层二维碳化硅晶体制备方法

[发明专利]一种无味氮化铝抛光液及其制备方法和应用-CN202210372295.X在审
发明人：钟培杰 -专利权人： 宁波日晟新材料有限公司
申请日： 2022-04-11 - 公布日： 2022-06-28 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种无味氮化铝抛光液，其由以下质量浓度的原料组成：0.1～40％研磨剂颗粒、0.5～5％醇醚、0.5～20％氧化剂、0.2～5％pH稳定剂，余量为去离子水；且所述氮化铝抛光液pH值为2.5～4.5。本发明的氮化铝抛光液，不仅具有切削率高，表面质量稳定，循环使用寿命长的优点，而且无挥发性和重金属污染问题，易于长期储存；尤其适用于超精密光学器件或半导体功率器件的氮化铝表面抛光。本发明还公开了一种无味氮化铝抛光液的制备方法和应用。
一种无味氮化抛光及其制备方法应用

[发明专利]一种醇醚碳化硅抛光液及其制备方法和应用-CN202210372821.2在审
发明人：陈瑞儿 -专利权人： 宁波日晟新材料有限公司
申请日： 2022-04-11 - 公布日： 2022-06-03 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种醇醚碳化硅抛光液，其由以下质量浓度的原料组成：0.1～40％研磨剂颗粒、50～97％醇醚、2～30％非水稀释剂、0.5～20％氧化剂和0.2～5％pH调节剂，且所述碳化硅抛光液pH值为2～12。本发明的碳化硅抛光液，不仅具有切削率高，表面质量稳定，循环使用寿命长的优点，而且无挥发性和重金属污染问题，易于长期储存，尤其适用于难加工的含硅表面的超精密光学器件或半导体功率器件的表面抛光。本发明还公开了一种醇醚碳化硅抛光液的制备方法和应用。
一种碳化硅抛光及其制备方法应用

[发明专利]一种碳化硅抛光液及其应用-CN202010541121.2有效
发明人：胡静泉;刘和欣 -专利权人： 宁波日晟新材料有限公司
申请日： 2020-06-15 - 公布日： 2022-04-05 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明提供了一种碳化硅抛光液及其应用，属于碳化硅抛光液领域。本发明提供了一种碳化硅抛光液，使用非水溶剂，利用非水溶剂代替水，避免了抛光液中各组分的反应活化能、配位性能和氧化还原电位等特性都受制于水性溶液的束缚的问题，本发明提供的碳化硅抛光液具有良好的金刚石悬浮性，能够提高抛光效率，且无挥发性问题，易于长期储存，是理想的半导体化合物晶圆制造亚纳米级光洁度的抛光液。
一种碳化硅抛光及其应用

[发明专利]一种单晶硅化学机械抛光液及其制备方法-CN202110749762.1在审
发明人：万旭军;王磊 -专利权人： 宁波日晟新材料有限公司
申请日： 2021-07-02 - 公布日： 2021-11-09 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种单晶硅化学机械抛光液，所述抛光液由以下重量百分比的原料组成：磨料0.1％wt‑40％wt、电解质0.05％wt‑5％wt、表面活性剂1％wt‑35％wt、余量去离子水；并采用pH调节剂将所述抛光液的pH值调节至8.5‑11.5。本发明还公开了一种单晶硅化学机械抛光液的制备方法，首先将磨料加入到去离子水中，搅拌均匀，再加入电解质和表面活性剂，进一步搅拌均匀，加入pH调节剂，调整混合液的pH值，充分搅拌均匀后，得到抛光液。采用本发明所述的单晶硅化学机械抛光液及其制备方法，能够解决现有的抛光液效率低，易在硅片表面留下损伤的问题，具有制备方法简单、易于操作、生产成本低的优点。
一种单晶硅化学机械抛光及其制备方法

[发明专利]一种核壳结构纳米磨料抛光液及其制备方法-CN201911012893.0有效
发明人：孙韬 -专利权人： 宁波日晟新材料有限公司
申请日： 2019-10-23 - 公布日： 2021-10-01 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种核壳结构纳米磨料抛光液，所述抛光液由以下原料组成：核壳结构磨料、表面活性剂、水溶性载体、离子液体和去离子水，且所述抛光液的pH值为7.5‑9.0。本发明的抛光液，解决了现有技术中纳米磨料悬浮性能低、流动性差、易分层等问题，以及抛光工件存在的抛光效率低、表面质量差等问题，从而提高了抛光液的使用寿命和循环使用次数，且本发明的抛光液更加环保安全，具有大规模推广应用的前景。本发明还公开了一种核壳结构纳米磨料抛光液的制备方法。
一种结构纳米磨料抛光及其制备方法

[发明专利]一种用于氧化锌晶体氧面抛光的抛光液及其制备方法-CN201911012859.3有效
发明人：孙韬 -专利权人： 宁波日晟新材料有限公司
申请日： 2019-10-23 - 公布日： 2021-08-27 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于氧化锌晶体氧面抛光的抛光液，所述抛光液由以下原料组成：磨料、电解质、表面活性剂和去离子水；并采用pH调节剂将所述抛光液的pH值调节至2.5‑6.0。本发明的抛光液，解决了氧化锌晶体的含氧晶面抛光效率低和表面容易出现橘皮现象的技术问题；同时，抛光表面无坑点、无划伤，完全满足后道电子元器件的生产要求。本发明还公开了一种用于氧化锌晶体氧面抛光的抛光液的制备方法。
一种用于氧化锌晶体抛光及其制备方法

[发明专利]一种玻璃自由曲面表面抛光液及其制备方法和应用-CN201811081091.0有效
发明人：孙韬 -专利权人： 宁波日晟新材料有限公司
申请日： 2018-09-17 - 公布日： 2021-07-30 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明提供了一种玻璃自由曲面表面抛光液，属于抛光液的制备领域。本发明提供的玻璃自由曲面表面抛光液，通过引入20～50份液相载体、0.1～20份分散剂、1～30份增稠添加剂、80～120份摩擦剂、1～20份流变改性剂和0.1～20份表面活性物质，各组分之间相互协调，共同作用，在保证了抛光液持续抛光效果的同时解决了现有技术中因抛光液在抛光过程中，粘度随抛光体系温度的升高而降低，导致抛光效率降低的技术问题。同时本发明提供的玻璃自由曲面表面抛光液的制备方法简易、便于操作，能耗较低，大幅度降低了抛光成本，且在抛光过程中无需采用传统抛光工艺中必备的抛光垫，可实现大批量玻璃部件抛光。
一种玻璃自由曲面表面抛光及其制备方法应用

[发明专利]一种金属自由曲面表面抛光液及其制备方法和应用-CN201811081283.1有效
发明人：孙韬 -专利权人： 宁波日晟新材料有限公司
申请日： 2018-09-17 - 公布日： 2021-07-06 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明提供了一种金属自由曲面表面抛光液，属于抛光液的制备领域。本发明提供的金属自由曲面表面抛光液，通过引入20～50份液相载体、0.1～20份分散剂、1～30份增稠添加剂、80～120份摩擦剂、1～20份氧化剂和0.1～20份表面活性物质，各组分之间相互协调，共同作用，在保证了抛光液持续的抛光效果的同时解决了现有技术中因抛光液在抛光过程中，粘度随抛光体系温度的升高而降低，导致抛光效率降低的技术问题。同时本发明提供的金属自由曲面表面抛光液的制备方法简易、便于操作，能耗较低，大幅度降低了抛光成本，可实现大批量抛光金属自由曲面部件。
一种金属自由曲面表面抛光及其制备方法应用

[发明专利]一种不易结晶易清洗的高效硅溶胶抛光液及其制备方法-CN201911012192.7有效
发明人：孙韬 -专利权人： 宁波日晟新材料有限公司
申请日： 2019-10-23 - 公布日： 2021-04-20 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种不易结晶易清洗的高效硅溶胶抛光液，所述硅溶胶抛光液由以下重量份数的原料组成：氧化硅抛光剂20‑40重量份、降低抛光液挥发性的水溶性载体5‑15重量份、助清洗的络合剂3‑8重量份、氧化剂1‑5重量份和去离子水50‑80重量份。本发明的抛光液，解决了传统硅溶胶抛光液在使用过程中易于干燥结晶，工件难以清洗的技术问题；同时，本发明的抛光液具有悬浮性能强，长期存储不分层，便于使用和抛光效率高等优异性能。本发明还公开了一种不易结晶易清洗的高效硅溶胶抛光液的制备方法。
一种不易结晶清洗高效硅溶胶抛光及其制备方法

[实用新型]一种用于蓝宝石加工的双面抛光机-CN201921990282.9有效
发明人：孙韬 -专利权人： 宁波日晟新材料有限公司
申请日： 2019-11-18 - 公布日： 2020-10-27 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于蓝宝石加工的双面抛光机，使用时，首先启动伸缩气缸带动收缩块向上端移动，进而使得收缩杆带动嵌设块向内侧移动，在嵌设块移动的同时夹持杆和夹持端会随着嵌设块的移动而移动进而将蓝宝石晶片进行夹持，在启动驱动电机带动驱动齿轮转动进一步的带动啮合齿轮和上转动杆进行转动，在通过连接皮带带动下转动杆转动，在下转动杆转动的同时，抛光轮和抛光齿会随着转动进而对蓝宝石晶片的两端面同时进行抛光打磨，这种双面抛光相对传统的单面抛光具有更高的抛光效率，大大提高企业的生产效率，一次加工可以同时对蓝宝石晶片的两面进行抛光，大大提高了抛光效率，降低生产成本。
一种用于蓝宝石加工双面抛光机

[实用新型]一种用于硅片加工的抛光机-CN201921991593.7有效
发明人：孙韬 -专利权人： 宁波日晟新材料有限公司
申请日： 2019-11-18 - 公布日： 2020-10-27 - 主分类号： B24B7/22 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于硅片加工的抛光机，使用时，将硅片放置在安装基座上，在启动升降气缸带动升降杆向下移动，进而带动第一交叉杆和第二交叉杆向下移动，上端板和下端板不仅能够将打磨盘调节到适当的位置，其本身也具有很好为稳定性，便于装置本体的使用；将下端板下端的打磨盘调节到合适的位置处后，在启动驱动电机带动安装基座在稳固座上进行转动，然后硅片自身也转动，通过稳固座上的嵌设柱能够使得安装基座稳固转动，使得硅片在打磨盘的下端稳定转动，便于提高硅片打磨的稳固性，此时将抛光液通过出液管和喷头进行喷洒，在安装基座转动的同时，能够带动硅片沿着打磨盘进行转动打磨，提高了打磨抛光的效率，经济实用，便于推广。
一种用于硅片加工抛光机

[发明专利]一种含高铁酸盐的碳化硅抛光液及其制备方法和应用-CN202010570937.8在审
发明人：孙韬;陈腾飞;张泽芳 -专利权人： 宁波日晟新材料有限公司;上海工程技术大学
申请日： 2020-06-22 - 公布日： 2020-10-09 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种含高铁酸盐的碳化硅抛光液，所述碳化硅抛光液由研磨剂颗粒、高铁酸盐、双氧水、硝酸和去离子水组成，且所述碳化硅抛光液pH值为1～7。本发明的碳化硅抛光液，具有切削率高，表面质量稳定，循环使用寿命长的优点，尤其适用于难加工的含硅表面的超精密光学器件或半导体功率器件的表面抛光。本发明还公开了一种含高铁酸盐的碳化硅抛光液的制备方法和应用。
一种含高铁酸盐碳化硅抛光及其制备方法应用

[发明专利]一种含还原剂的碳化硅抛光液及其制备方法和应用-CN202010570947.1在审
发明人：孙韬;陈腾飞;张泽芳 -专利权人： 宁波日晟新材料有限公司;上海工程技术大学
申请日： 2020-06-22 - 公布日： 2020-08-25 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种含还原剂的碳化硅抛光液，所述碳化硅抛光液由研磨剂颗粒、还原剂、硝酸和去离子水组成，且所述碳化硅抛光液pH值为1～7。本发明的碳化硅抛光液，不仅具有切削率高，表面质量稳定，循环使用寿命长的优点，而且无挥发性和重金属污染问题，易于长期储存，尤其适用于难加工的含硅表面的超精密光学器件或半导体功率器件的表面抛光。本发明还公开了一种含还原剂的碳化硅抛光液的制备方法和应用。
一种还原剂碳化硅抛光及其制备方法应用

[实用新型]一种用于化学机械抛光机抛光液的供给装置-CN201921849443.2有效
发明人：孙韬 -专利权人： 宁波日晟新材料有限公司
申请日： 2019-10-30 - 公布日： 2020-08-25 - 主分类号： B24B57/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于化学机械抛光机抛光液的供给装置，包括料液箱、循环泵、进料组件和支撑架；料液箱位于抛光装置的下方；料液箱顶部与从抛光装置引出的回流管相连，回流管上设有回流阀；循环泵进口与料液箱相连，出口与进料组件相连；进料组件包括旋转盘、进料盘、电机和挡板；进料盘位于旋转盘的上方，进料盘开设有贯穿进料盘的进料通道，进料通道进口与循环管路相连，出口靠近旋转轴设置；进料盘外缘还连接有环形挡板；旋转盘通过旋转轴与电机相连。本实用新型的用于化学机械抛光机抛光液的供给装置，抛光液供给质量稳定，抛光液浓度和pH值波动小，抛光液中的研磨颗粒分布均匀，抛光料液在抛光装置中分布均匀，且无气泡产生。
一种用于化学机械抛光机抛光供给装置

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