专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果8个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [发明专利]屏蔽栅沟槽型场效应晶体管及其制作方法-CN202210195669.5在审
  • 姜怡雯;宋金星 - 绍兴中芯集成电路制造股份有限公司
  • 2022-03-01 - 2022-05-31 - H01L29/423
  • 本申请涉及一种屏蔽栅沟槽型场效应晶体管及其制作方法,其中,屏蔽栅沟槽型场效应晶体管包括:提供基底,并于基底内形成初始沟槽;于初始沟槽的侧壁形成第一牺牲保护层;对基底继续进行刻蚀,以于初始沟槽底部形成第一沟槽;于第一沟槽的槽壁表面形成屏蔽栅介质层;去除第一牺牲保护层,且对基底继续进行刻蚀,以将初始沟槽扩展而形成第二沟槽;形成屏蔽栅极、隔离结构、控制栅介质层以及控制栅极,屏蔽栅极形成于第一沟槽内,控制栅极形成于第二沟槽内,隔离结构形成于屏蔽栅极与控制栅极之间,控制栅介质层形成于控制栅极与第二沟槽的侧壁之间。本申请可以在进行良好的多晶硅填充的同时,有效保证屏蔽栅极的屏蔽功能。
  • 屏蔽沟槽场效应晶体管及其制作方法
  • [发明专利]一种Mn-Ni-Sn-Co合金薄带及其制备方法-CN201610615859.2有效
  • 李宗宾;姜怡雯;李振庄;杨波;赵骧;左良 - 东北大学
  • 2016-07-29 - 2018-10-23 - C22C30/00
  • 一种Mn‑Ni‑Sn‑Co合金薄带及其制备方法,属于新材料技术领域。Mn‑Ni‑Sn‑Co合金薄带中元素的摩尔数之和为100,元素的摩尔比为Mn:Ni:Sn:Co=(49.5~50.5):(33.5~38.5):(7.5~8.5):(3.5~8.5);制备方法为:(1)真空电弧熔炼多次反复熔炼;(2)甩带法制备厚度为90~120μm合金薄带。本发明合金薄带在升温过程,呈现出磁性转变与结构转变的协同发生,具有磁场诱发马氏体逆相变的特征。本发明合金薄带通过Co添加,提高了铁磁奥氏体的饱和磁化强度,扩大了奥氏体与马氏体之间的磁性差别,显著提高多晶合金薄带的磁热性能,在1T磁场下,磁熵变化为2.4~7.6Jkg‑1K‑1,在1.5T磁场下,磁熵变化为3.5~11.0Jkg‑1K‑1
  • 一种mnnisnco合金及其制备方法
  • [发明专利]背照式图像传感器及其制造方法-CN201711056829.3在审
  • 姜怡雯;李志伟;黄仁德 - 德淮半导体有限公司
  • 2017-10-27 - 2018-04-06 - H01L27/146
  • 本发明提供一种背照式图像传感器及其制造方法,包括支撑衬底;布线层,包括金属布线层以及包围所述金属布线层的介质层,所述金属布线层包括用于图像传感器互连的互连金属层以及用于电引出的引出金属层;金属塞,包括与所述互连金属层相连的互连金属塞,以及与所述引出金属层相连的引出金属塞;背照式图像传感器芯片,其正面的电路通过所述互连金属塞与所述互连金属层电性连接;凹槽,形成于所述背照式图像传感器芯片中且露出有所述引出金属塞;以及金属衬垫,形成于所述凹槽中并与所述引出金属塞电连接。本发明只需通过一次光刻工艺便可实现背照式图像传感器芯片的电性引出,本发明工艺比较简单,可大大降低制造成本。
  • 背照式图像传感器及其制造方法

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top