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[发明专利]一种基于刻蚀坑可控生长的原子级抛光系统和方法-CN202310708869.0在审
发明人：刘国兴;崔维杰;叶子心;叶璟天;张鑫泉 -专利权人：上海交通大学
申请日： 2023-06-15 - 公布日： 2023-09-12 - 主分类号： C25F7/00 文献下载
摘要：一种电化学抛光领域的基于刻蚀坑可控生长的原子级抛光系统和方法，抛光系统包括抛光槽、清洗槽、送料机构、电化学抛光单元；其中抛光槽包括公转运动电机、公转电机基座、支撑杆旋转基座和“照度反馈”装置；清洗槽可容纳清洗液；送料机构包括水平驱动推杆，竖直驱动推杆，抓手机构，主要夹持电化学抛光单元进行空间位置转移；电化学抛光单元包括支撑杆、待抛光工件、自转电机、电解反应阴极板、自转电机控制器、上连接杆、下连接杆，负责夹持工件进行抛光或清洗，并且可以实现工件的自转运动。本发明还公开基于本抛光系统的电化学抛光方法，包括：抛光工艺设计，工件的运动形式，在线测量方法等；本发明可实现光学微结构元件的超精密原子级抛光。
一种基于刻蚀可控生长原子抛光系统方法

[发明专利]基于行星运动形式的全表面均匀抛光装置及其使用方法-CN202310709002.7在审
发明人： 叶子心;崔维杰;刘国兴;叶璟天;张鑫泉 -专利权人：上海交通大学
申请日： 2023-06-15 - 公布日： 2023-08-11 - 主分类号： C25F3/16 文献下载
摘要：一种高精度加工技术领域的基于行星运动形式的全表面均匀抛光装置及其使用方法，包括支撑杆、待抛光工件、自转电机、电解反应阴极板、自转电机控制器、公转电机、公转电机基座、支撑杆旋转基座、连接杆，支撑杆由绝缘抗腐蚀材料制成，可带动抛光部分器件同步转动；待抛光工件位于电解反应阴极板的下方，两者高度均可以上下调节；公转电机位于整个装置的最下方，通过上部平面与公转电机基座固定，上部转轴与支撑杆旋转基座固定，由此实现抛光部分器件和公转电机上部转轴同步转动。本发明通过工件的公转运动，加速反应产物离开工件表面，使得反应物在时间尺度上相对均匀。本发明结构简单、易于实现，成本较低，具有广泛的应用前景。
基于行星运动形式表面均匀抛光装置及其使用方法

[发明专利]基于可变电感的无人潜航器高抗偏移无线充电系统-CN202310349536.3在审
发明人：纪君逸;叶子心;许易成 -专利权人：上海交通大学
申请日： 2023-04-04 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： H02M7/06 文献下载
摘要：一种无线充电技术领域的基于可变电感的无人潜航器高抗偏移无线充电系统，包括可变电感、谐振电容、副边线圈、整流桥、滤波电容、电池、定额电流信号、PI控制器、限制器、电压可控电流源、功率线、信号线，整流桥与滤波电容、电池并联连接，可变电感、谐振电容、副边线圈依次串接在功率线上，PI控制器、限制器、电压可控电流源依次串接在信号线上。本发明采用接收端电路失谐设计实现了无线充电功率随偏移距离增加非线性变化，实现了一定偏移范围内充电功率的稳定性；通过可变电感调控失谐电路，进一步扩大抗偏移的范围。通过该可变电感失谐电路设计，无人潜航器可在±60％线圈尺寸范围内维持充电效率在88％以上，满足实际应用标准。
基于可变电感无人潜航器高抗偏移无线充电系统