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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]环保剥锡液-CN201810212583.2有效
发明人：冯献超;冯泽宪;唐瑞泽 -专利权人：昆山长优电子材料有限公司
申请日： 2018-03-15 - 公布日： 2021-04-27 - 主分类号： C23F1/30 文献下载
摘要：本发明公开了一种环保型剥锡液，包括以下各组分且各组分重量百分含量为：硫酸：5～50％；氧化剂：1～20％；络合剂：1～20％；加速剂：1～20％；表面活性剂：1～10％；水：余量。本发明可替代硝酸对电镀锡及化学镀锡退镀及清洗，减少因使用硝酸所产生的含氮废水排放、一氧化氮及二氧化氮毒气排放，避免使用硝酸带来的安全隐患等问题。
环保剥锡液

[发明专利]用于PCB图形转移前处理制程的铜面键合溶液-CN201810212582.8有效
发明人：冯献超;冯泽宪;唐瑞泽 -专利权人：昆山长优电子材料有限公司
申请日： 2018-03-15 - 公布日： 2020-12-29 - 主分类号： H05K3/10 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于PCB图形转移前处理制程的铜面键合溶液，包括以下各组分且各组分重量百分含量为：无机酸：1～30％；络合剂：0.1～10％；有机溶剂：1～15％；缓蚀剂：0.1～10％；表面活性剂：0.1～5％；水：余量。该铜面键合溶液不腐蚀铜面，避免因铜厚不足造成异常报废板出现，减少污染环境及废水处理负担。
用于 pcb 图形转移处理铜面键合溶液

[发明专利]低损铜纳米粗化剂-CN201810212563.5在审
发明人：冯献超;冯泽宪;唐瑞泽 -专利权人：昆山长优电子材料有限公司
申请日： 2018-03-15 - 公布日： 2018-08-21 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：本发明公开了一种低损铜纳米粗化剂，包括以下各组分且各组分重量百分含量为：无机酸：1～10％；氧化剂：1～10％；表面活性剂：0.1～2％；络合剂：0.1～5％；水：余量。本发明可大大降低粗化剂对铜面的咬噬量，铜面微蚀量达到200纳米即可保证铜面与干膜、阻焊膜结合力，可提高制程品质和可靠性，减少对铜的损耗量及药液排放量，降低镀铜成本及药水成本，减轻废水处理压力。
粗化铜面氧化剂表面活性剂废水处理结合力络合剂排放量损耗量无机酸阻焊膜药水镀铜干膜微蚀制程保证

[发明专利]有机剥膜液-CN201810212590.2在审
发明人：冯献超;冯泽宪;唐瑞泽 -专利权人：昆山长优电子材料有限公司
申请日： 2018-03-15 - 公布日： 2018-07-24 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明公开了一种有机剥膜液，包括以下各组分且各组分重量百分含量为：有机碱：1～15％；无机碱：0.4～6％；有机溶剂：1～5％；表面活性剂：0.1～5％；缓蚀剂：0.1～5％；水：余量。本发明有机剥膜液可将干膜进行粉碎，避免产生干膜残留现象，该有机剥膜液剥膜速度快，大大提升产能并保证产品良率，有效保护金属在剥膜过程中不受攻击。
剥膜液剥膜表面活性剂产品良率干膜残留有机溶剂缓蚀剂无机碱有机碱产能干膜金属攻击保证

[发明专利]显影辅助剂-CN201810212622.9在审
发明人：冯献超;冯泽宪;唐瑞泽 -专利权人：昆山长优电子材料有限公司
申请日： 2018-03-15 - 公布日： 2018-06-29 - 主分类号： G03F7/32 文献下载
摘要：本发明公开了一种显影辅助剂，包括以下各组分且各组分重量百分含量为：有机碱：0.01～5％；无机碱：0.01～5％；有机溶剂：0.1～10％；表面活性剂：0.01～5％；水：余量。本发明显影辅助剂可防止干膜显影过程中残渣的产生，减少金属面污染，提升产品良率；还可以提升溶膜量，进而减少显影液用量，降低显影液废水处理量及生产成本。
辅助剂显影表面活性剂显影液用量产品良率显影过程有机溶剂废水处理金属面无机碱显影液有机碱干膜溶膜生产成本污染

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