“冈本知大”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网_中国专利网

首页在售求购查询申请展会资讯专利榜企服商城升级VIP

立即登录免费注册

在售专利
求购专利
查询专利
新闻资讯
技术展会
招商加盟
专利榜

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

专利名称

专利名称
专利号码
专利分类
申请人
公布日期

农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

专利下载VIP

公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

钻瓜专利网为您找到相关结果17个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]抛光层用聚氨酯、抛光层、抛光垫及抛光层的改性方法-CN201980067771.3有效
发明人：砂山梓纱;加藤充;竹越穰;冈本知大;加藤晋哉 -专利权人：株式会社可乐丽
申请日： 2019-11-01 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： C08J7/12 文献下载
摘要：本发明提供具有羧酸酯基的抛光层用聚氨酯，优选使用在侧链、主链末端及主链骨架中的至少一者具有羧酸酯基的聚氨酯。另外，本发明提供一种抛光层的改性方法，该方法包括：准备包含具有羧酸酯基的聚氨酯的抛光层的工序；以及使聚氨酯的羧酸酯基水解而生成羧酸基的工序。
抛光聚氨酯改性方法

[发明专利]抛光层用聚氨酯、抛光层及抛光垫-CN201980075650.3有效
发明人：加藤充;冈本知大;加藤晋哉 -专利权人：株式会社可乐丽
申请日： 2019-09-03 - 公布日： 2023-04-28 - 主分类号： B24B37/24 文献下载
摘要：本发明提供一种抛光层用聚氨酯、使用其的抛光层及抛光垫，所述抛光层用聚氨酯具有由下述式(I)表示的末端基团，R－(OX)n－···(I)[式(I)中，R表示碳原子数1～30的一价烃基，该一价烃基任选被杂原子取代、任选夹杂有杂原子，X表示90～100％为亚乙基的碳原子数2～4的亚烷基，n表示8～120的数]。
抛光聚氨酯

[发明专利]抛光层用聚氨酯、抛光层及抛光垫-CN201980047273.2有效
发明人：门胁清文;加藤充;竹越穰;冈本知大;加藤晋哉 -专利权人：株式会社可乐丽
申请日： 2019-07-19 - 公布日： 2023-02-17 - 主分类号： B24B37/24 文献下载
摘要：本发明使用一种抛光层用聚氨酯，其用作抛光垫的抛光层的原材料，是热塑性聚氨酯，所述热塑性聚氨酯是包含高分子二醇、有机二异氰酸酯、以及扩链剂的聚氨酯原料的反应产物，其中，扩链剂包含含有碳原子数7～12的直链碳骨架的第1扩链剂50质量％以上。
抛光聚氨酯

[发明专利]聚氨酯的改性方法、聚氨酯、抛光垫及抛光垫的改性方法-CN201980031163.7有效
发明人：大下梓纱;加藤充;竹越穣;冈本知大;加藤晋哉 -专利权人：株式会社可乐丽
申请日： 2019-04-26 - 公布日： 2023-01-10 - 主分类号： C08G18/83 文献下载
摘要：本发明使用包括准备具有烯属不饱和键的聚氨酯的工序、以及用含有具有共轭双键的化合物的液体对聚氨酯进行处理的工序的聚氨酯的改性方法，或者使用包括准备具有共轭双键的聚氨酯的工序、以及用含有具有烯属不饱和键的化合物的液体对聚氨酯进行处理的工序的聚氨酯的改性方法。
聚氨酯改性方法抛光

[发明专利]抛光垫及使用了该抛光垫的抛光方法-CN201780043880.2有效
发明人：竹越穣;加藤充;冈本知大;加藤晋哉 -专利权人：株式会社可乐丽
申请日： 2017-07-26 - 公布日： 2023-01-10 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明提供一种具有在pH10.0下的zeta电位为+0.1mV以上的抛光面的抛光垫。优选提供一种含有具有叔胺的聚氨酯的抛光垫。进一步优选具有叔胺的聚氨酯为至少含有具有叔胺的扩链剂的聚氨酯反应原料的反应物。另外，提供一种一边供给使用了这些抛光垫的碱性抛光浆料一边进行的抛光方法。
抛光使用方法

[发明专利]聚氨酯、抛光层、抛光垫及抛光方法-CN202080085452.8在审
发明人：砂山梓纱;高冈信夫;服部和正;林浩一;加藤充;冈本知大;加藤晋哉 -专利权人：株式会社可乐丽
申请日： 2020-12-10 - 公布日： 2022-07-22 - 主分类号： C08G18/34 文献下载
摘要：本发明提供构成能够抑制堵塞、能够抑制损伤的发生并且能够稳定地以长寿命进行抛光的抛光层的聚氨酯、使用了该聚氨酯的抛光层、及抛光垫、以及抛光方法。本发明的聚氨酯具有至少1个以上的来自具有羧基的化合物的结构单元。另外，本发明还提供使用了该聚氨酯的抛光层、抛光垫、以及抛光方法。
聚氨酯抛光方法

[发明专利]抛光层用聚氨酯、包含聚氨酯的抛光层及该抛光层的改性方法、抛光垫及抛光方法-CN201880024840.8有效
发明人：大下梓纱;竹越穰;加藤充;冈本知大;加藤晋哉 -专利权人：株式会社可乐丽
申请日： 2018-04-27 - 公布日： 2022-06-10 - 主分类号： C08G18/65 文献下载
摘要：本发明提供作为具有席夫碱的二醇或其衍生物的含席夫碱的扩链剂，另外，还提供使用其制造的聚氨酯及其改性方法、包含聚氨酯的抛光层、使用了该抛光层的抛光方法。
抛光聚氨酯包含改性方法

[发明专利]研磨垫、研磨垫的制造方法以及研磨方法-CN202080039388.X在审
发明人：加藤充;菊池博文;冈本知大;加藤晋哉 -专利权人：株式会社可乐丽
申请日： 2020-06-04 - 公布日： 2022-04-05 - 主分类号： B24B37/24 文献下载
摘要：一种研磨垫，其包括具有研磨面的研磨层，研磨面具备：深槽区域，其具有由深度0.3mm以上的深槽或孔形成的第一图案；台面区域，其是除深槽区域以外的区域；台面区域具有：深度0.01～0.1mm的浅凹陷，其具有第二图案；多个岛状的台面部，其由浅凹陷包围，且水平方向的最大距离为8mm以下。
研磨制造方法以及

[发明专利]抛光垫-CN201980085424.3在审
发明人：服部和正;加藤晋哉;冈本知大;高冈信夫;林浩一 -专利权人：株式会社可乐丽
申请日： 2019-12-25 - 公布日： 2021-08-06 - 主分类号： B24B37/24 文献下载
摘要：本发明提供在具有抛光稳定性及抛光对象物的平滑性优异的抛光性能、且具有即使长时间持续抛光、抛光性能的变化也小的特征的无纺布类型的抛光垫中抛光速率高的抛光垫。所述抛光垫是将无孔高分子弹性体和多孔高分子弹性体含浸于无纺布中而得到的抛光垫，其中，所述多孔高分子弹性体包含热塑性聚氨酯，所述无孔高分子弹性体的质量相对于所述多孔高分子弹性体的质量之比为0.49以下。
抛光

[发明专利]抛光层用成型体及抛光垫-CN201580062665.8有效
发明人：门胁清文;加藤晋哉;冈本知大;加藤充;竹越穣 -专利权人：株式会社可乐丽
申请日： 2015-11-12 - 公布日： 2019-12-13 - 主分类号： B24B37/24 文献下载
摘要：本发明提供一种抛光层用成型体，其是非多孔性的且包含热塑性聚氨酯，所述热塑性聚氨酯是包含高分子二醇、有机二异氰酸酯、含有碳原子数为4以下的二醇的第1扩链剂、以及含有碳原子数为5以上的二醇的第2扩链剂的单体的聚合物，而且来自于有机二异氰酸酯的异氰酸酯基的氮的含有比例为6.3～7.4质量％。
二醇有机二异氰酸酯热塑性聚氨酯碳原子数扩链剂异氰酸酯基聚合物成型体多孔性抛光层

[发明专利]抛光层用非多孔性成型体、抛光垫及抛光方法-CN201580057176.3有效
发明人：门胁清文;加藤晋哉;冈本知大;加藤充;竹越穰 -专利权人：株式会社可乐丽
申请日： 2015-10-27 - 公布日： 2019-11-19 - 主分类号： B24B37/24 文献下载
摘要：本发明提供一种抛光层用非多孔性成型体，其是热塑性聚氨酯的非多孔性成型体，其中，热塑性聚氨酯在‑70～‑50℃范围的损耗角正切(tanδ)的最大值为4.00×10^‑2以下。优选热塑性聚氨酯通过使数均分子量650～1400的高分子二醇、有机二异氰酸酯和扩链剂聚合而得到，且来自于有机二异氰酸酯的异氰酸酯基的氮的含有比例为5.7～6.5质量％。
抛光层用非多孔成型方法

[发明专利]用于化学机械抛光的浆料和化学机械抛光方法-CN201380037343.9有效
发明人：加藤充;冈本知大;加藤晋哉 -专利权人：可乐丽股份有限公司
申请日： 2013-05-27 - 公布日： 2018-01-23 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明提供用于化学机械抛光的浆料，其包含研磨剂颗粒(a)；具有pKa值大于9的氨基和不少于3个羟基的化合物(b)；和水。
用于化学机械抛光浆料方法

[发明专利]化学机械抛光用浆料以及使用其的基板的抛光方法-CN201080051174.0有效
发明人：竹越穣;加藤充;冈本知大;加藤晋哉 -专利权人：可乐丽股份有限公司
申请日： 2010-11-08 - 公布日： 2012-09-12 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明提供化学机械抛光用浆料和使用该浆料的基板的抛光方法，所述化学机械抛光用浆料包含水溶性包合化合物(a)、具有任选为盐形式的酸性基团作为侧链的高分子化合物(b)、抛光研磨粒料(c)和水(d)，其中，水溶性包合化合物(a)的含量是浆料总量的0.001质量%-3质量%，高分子化合物(b)具有1,000以上且小于1,000,000的重均分子量，并且高分子化合物(b)的含量是浆料总量的0.12质量%-3质量%。
化学机械抛光浆料以及使用抛光方法

[发明专利]金属膜抛光用垫和使用该金属膜抛光用垫的金属膜的抛光方法-CN200880016787.3有效
发明人：加藤充;菊池博文;冈本知大;加藤晋哉 -专利权人：可乐丽股份有限公司
申请日： 2008-03-19 - 公布日： 2010-03-24 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明提供一种抛光垫和使用该抛光垫的金属膜抛光方法，使用所述抛光垫对在半导体基本上等形成的金属膜进行抛光时，可以提高被抛光面的平坦性和平坦化效率，并且，产生的划痕少。所述金属膜抛光用垫在80℃下的储能模量为200～900MPa，且在110℃下的储能模量为40MPa以下。
金属膜抛光使用方法

[发明专利]高分子材料、由其得到的发泡体以及使用它们的研磨垫-CN200680034450.6有效
发明人： 冈本知大;加藤晋哉;金田俊二;菊池博文 -专利权人：可乐丽股份有限公司
申请日： 2006-09-21 - 公布日： 2008-09-17 - 主分类号： C08G18/00 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供可用作可实现被研磨面的平坦性和提高平坦化效率、且划伤发生少的研磨垫的高分子材料。本发明是通过在用50℃的水饱和溶胀后在50℃下的拉伸弹性模量为130－800MPa，50℃下的损耗角正切为0.2以下，与水的接触角为80°以下的高分子材料来解决上述课题的。
高分子材料得到发泡以及使用它们研磨

1
2
下一页»
尾页
共 17 条

友情链接：交换友情链接需要网站权重大于4，网站收录10W以上，如符合条件，请联系QQ：76009968。

关于我们寻求报道投稿须知广告合作版权声明网站地图友情链接企业标识联系我们

在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

版权所有钻瓜科技（天津）有限公司津ICP备15000985号津公网安备 12019202000206号http://www.vipzhuanli.com/公布日期

咨询在线客服

咨询在线客服

tel code back_top