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[发明专利]窄带化气体激光装置和电子器件的制造方法-CN202080103984.X在审
发明人：斋藤雄介;八代将德;古里博志;渡边阳介;寺尾季伦 -专利权人：极光先进雷射株式会社
申请日： 2020-09-09 - 公布日： 2023-04-25 - 主分类号： H01S3/137 文献下载
摘要：窄带化气体激光装置具备：窄带化装置，其包含波长色散元件；输出耦合镜；激光腔室，其配置在由窄带化装置和输出耦合镜构成的光谐振器的光路上；第1保持架，其支承输出耦合镜；第2保持架，其将第1保持架支承为能够绕第1保持架的旋转轴进行旋转；以及调整装置，其支承于第2保持架，通过与第1保持架接触来使第1保持架绕旋转轴进行旋转。窄带化装置具有以下特性：当窄带化装置的内部的温度上升时，使朝向输出耦合镜射出的光的射束指向向第1方向变化。第2保持架和调整装置构成为，通过第2保持架和调整装置在它们的温度上升时发生热膨胀，使第1保持架沿对从输出耦合镜输出的激光的射束指向向第1方向变化进行抑制的方向旋转。
窄带气体激光装置电子器件制造方法

[发明专利]激光气体精制系统和激光系统-CN201580083635.5有效
发明人：铃木夏志;八代将德;若林理 -专利权人：极光先进雷射株式会社
申请日： 2015-11-13 - 公布日： 2021-01-12 - 主分类号： H01S3/036 文献下载
摘要：提供了激光气体精制系统和激光系统。激光气体精制系统是对从激光装置排出的激光气体进行精制，并使精制后的激光气体返回到激光装置的激光气体精制系统，该激光气体精制系统可以具有：第一配管，其导入从激光装置排出的激光气体；精制装置，其与第一配管连接，对从激光装置排出的激光气体进行精制；第二配管，其与精制装置连接，使被精制装置精制后的激光气体返回到激光装置；以及排气装置，其设置在第一配管、精制装置以及第二配管中的至少一个上。
激光气体精制系统

[发明专利]激光气体再生系统和激光系统-CN201680089883.5有效
发明人： 八代将德;对马弘朗;若林理 -专利权人：极光先进雷射株式会社
申请日： 2016-11-29 - 公布日： 2021-01-12 - 主分类号： H01S3/03 文献下载
摘要：激光气体再生系统用于准分子激光装置，该准分子激光装置包含构成为能够向激光腔供给第1激光气体的第1配管、构成为能够向激光腔供给卤素气体浓度比第1激光气体高的第2激光气体的第2配管、构成为能够供从激光腔排出的气体通过的第3配管，其中，激光气体再生系统具有：气体精制部，其对通过了第3配管的气体进行精制；分支部，其使流入气体精制部而被精制后的气体分支到第4配管和第5配管；第1再生气体供给部，其向第1配管供给分支到第4配管的气体；以及第2再生气体供给部，其在分支到第5配管的气体中添加卤素气体，并向第2配管供给添加卤素气体而得的气体。
激光气体再生系统

[发明专利]激光气体精炼系统-CN201580082797.7在审
发明人：铃木夏志;八代将德;若林理 -专利权人：极光先进雷射株式会社
申请日： 2015-10-27 - 公布日： 2018-04-17 - 主分类号： H01S3/036 文献下载
摘要：激光气体精炼系统作为将从使用包括氙气的激光气体的ArF准分子激光装置排出的排出气体精炼而供给到ArF准分子激光装置的激光气体精炼系统，具备氙捕捉器，其降低排出气体的氙气浓度；及氙添加装置，其向通过了氙捕捉器的排出气体添加氙气。
激光气体精炼系统