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[发明专利]护目镜-CN202080011308.X有效
发明人：内森·汤姆林森;克里斯·约翰逊;汤姆·奥斯曼 -专利权人：速比涛国际有限公司
申请日： 2020-01-29 - 公布日： 2023-03-21 - 主分类号： A63B33/00 文献下载
摘要：防护眼镜，包括一对目镜，每个所述目镜限定由鼻梁件隔开的两个相对内侧面中的一个。所述内侧面中的至少一个包括用于可滑动和可释放地接合设置在所述鼻梁件上的定位肋的槽。所述槽包括槽锁定元件，所述鼻梁件包括鼻梁件锁定元件。在所述鼻梁件的所述定位肋接合在所述槽内的使用配置中，所述槽锁定元件和所述鼻梁件锁定元件在所述槽内配合以可释放地将所述定位肋固定在槽内。
护目镜

[发明专利]用于对基板进行等离子切割的方法-CN201510187553.7有效
发明人： 克里斯·约翰逊;大卫·约翰逊;鲁塞尔·韦斯特曼;林内尔·马丁内斯;大卫·佩斯-沃拉德;戈登·格里夫纳 -专利权人：等离子瑟姆有限公司
申请日： 2012-03-12 - 公布日： 2019-12-17 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于对基板进行等离子切割的方法，包括：提供具有壁的处理室；提供与所述处理室的壁相邻的等离子源，该等离子源在所述处理室中产生等离子；在所述处理室内提供工件支架；将基板放置到框架上的支撑膜上以形成工件；在工件支架内提供升降机构；使用所述升降机构将工件放置到工件支架上，所述升降机构接触工件的与所述框架重叠的部分；在等离子源与工件之间提供导电屏蔽网，该导电屏蔽网减少了所述基板上的离子轰击，该导电屏蔽网减少了所述基板的加热；通过所述等离子源产生等离子；以及，在所述导电屏蔽网位于等离子源下方且所述导电屏蔽网位于工件上方的情况下，通过从所述等离子源产生的等离子来蚀刻所述工件。
用于进行等离子切割方法

[发明专利]游泳衣-CN201580053023.1有效
发明人：凯伦·弗洛克昂;本·哈德曼;蒂姆·夏普;克里斯·约翰逊;道恩·尼克松;约瑟夫·桑特里 -专利权人：速比涛国际有限公司
申请日： 2015-08-14 - 公布日： 2019-07-09 - 主分类号： A41D7/00 文献下载
摘要：一种由可拉伸弹性织物形成的游泳衣，在使用中，所述可拉伸弹性织物覆盖穿着者的大腿、臀部和胯部的至少一部分。所述泳衣包括至少两个张力带，所述张力带具有比所述可拉伸弹性织物的相邻区域更高的弹性模量，使得在使用中，所述张力带提供比所述相邻区域更大的抗拉伸性。所述张力带中的第一张力带沿着一条路径，所述路径沿所述泳衣的左大腿区域的外侧延伸至所述泳衣的左臀部区域并且朝向所述泳衣的中线从所述左臀部区域向内延伸跨过所述泳衣的左上胯部区域。所述张力带中的第二张力带沿着一条路径，所述路径沿所述泳衣的右大腿区域的外侧延伸至所述泳衣的右臀部区域并且朝向所述泳衣的中线从所述右臀部区域向内延伸跨过所述泳衣的右上胯部区域。
游泳衣

[发明专利]用于对半导体晶圆进行等离子切片的方法和设备-CN201480012801.8有效
发明人：林内尔·马丁内斯;大卫·佩斯-沃拉德;克里斯·约翰逊;大卫·约翰逊;鲁塞尔·韦斯特曼;戈登·M·格里夫纳 -专利权人：等离子瑟姆有限公司
申请日： 2014-03-03 - 公布日： 2018-09-11 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于对衬底进行等离子切片的方法。该方法包括：提供具有壁的处理室；邻近处理室的所述壁提供等离子体源；在处理室内提供工件支撑件；将衬底放置到框架上的支撑膜上以形成工件；将工件装载到工件支撑件上；提供夹持电极以用于将工件静电夹持到工件支撑件；提供在等离子体源和工件之间的机械隔板；通过等离子体源来产生等离子体；以及，通过所产生的等离子体来蚀刻工件。
用于对半导体进行等离子切片方法设备

[发明专利]用于对半导体晶圆进行等离子体切片的方法和设备-CN201480015370.0有效
发明人：德瓦拉卡纳特·吉尔普拉姆;大卫·佩斯-沃拉德;林内尔·马丁内斯;克里斯·约翰逊;大卫·约翰逊;鲁塞尔·韦斯特曼 -专利权人：等离子瑟姆有限公司
申请日： 2014-03-05 - 公布日： 2018-04-03 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于对衬底进行等离子体处理的方法。该方法包括提供具有壁的处理室；邻近处理室的所述壁提供等离子体源；在处理室内提供工件支撑件；将工件装载到工件支撑件上，该工件具有支撑膜、框架和衬底；在工件上方提供盖环，该盖环具有至少一个穿孔区域和至少一个未穿孔区域；使用等离子体源来产生等离子体；以及，使用所产生的等离子体来处理工件。
用于对半导体进行等离子体切片方法设备

[发明专利]用于对半导体晶片进行等离子体切片的方法和设备-CN201480006389.9有效
发明人：里什·高尔丁;克里斯·约翰逊;大卫·约翰逊;林内尔·马丁内斯;大卫·佩斯-沃拉德;鲁塞尔·韦斯特曼;戈登·M·格里夫纳 -专利权人：等离子瑟姆有限公司
申请日： 2014-02-12 - 公布日： 2018-04-03 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：本发明提供一种用于对衬底进行等离子体切片的方法，所述方法包括提供具有壁的处理室；邻近所述处理室的壁提供等离子体源；在所述处理室内提供工件支撑件；将工件放置到所述工件支撑件上，所述工件具有支撑膜、框架和衬底；将所述工件装载到所述工件支撑件上；将张力施加到所述支撑膜；将所述工件夹持到所述工件支撑件；使用所述等离子体源产生等离子体；以及使用所产生的等离子体来蚀刻所述工件。
用于对半导体晶片进行等离子体切片方法设备

[发明专利]用于对基板进行等离子切割的方法-CN201510187545.2有效
发明人： 克里斯·约翰逊;大卫·约翰逊;鲁塞尔·韦斯特曼;林内尔·马丁内斯;大卫·佩斯-沃拉德;戈登·格里夫纳 -专利权人：等离子瑟姆有限公司
申请日： 2012-03-12 - 公布日： 2018-02-06 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于对基板进行等离子切割的方法。所述方法包括提供具有壁的处理室；提供与所述处理室的壁相邻的等离子源；在所述处理室内提供升降机构；在所述处理室内提供工件支架，所述工件支架具有静电吸盘，所述静电吸盘具有外径，所述静电吸盘的所述外径延伸到所述升降机构；将基板放置到框架上的支撑膜上以形成工件；将所述工件放置到所述处理室内的所述升降机构上；通过所述等离子源产生等离子；使用所产生的等离子来蚀刻所述工件；以及，在所述蚀刻步骤期间，使用所述静电吸盘来静电吸附所述支撑膜的一部分。另外，还提供了一种用于对基板进行等离子切割的方法。
用于进行等离子切割方法

[发明专利]用于对基板进行等离子切割的方法-CN201510186312.0有效
发明人： 克里斯·约翰逊;大卫·约翰逊;鲁塞尔·韦斯特曼;林内尔·马丁内斯;大卫·佩斯-沃拉德;戈登·格里夫纳 -专利权人：等离子瑟姆有限公司
申请日： 2012-03-12 - 公布日： 2017-11-07 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于对基板进行等离子切割的方法。所述方法包括提供转移臂；提供具有壁的处理室；提供与所述处理室的壁相邻的等离子源；在所述处理室内提供工件支架；在所述工件支架内提供升降机构；将基板放置到所述框架上的支撑膜上以形成工件；使用所述转移臂将工件转移至处理室中并放到所述升降机构上，所述升降机构接触所述工件的框架，所述升降机构不接触所述工件的基板；通过所述等离子源产生等离子；以及，通过所产生的等离子蚀刻所述工件。
用于进行等离子切割方法

[发明专利]具有DUT数据流送的半导体器件测试器-CN201480080064.5在审
发明人：詹姆斯·尼布;维尼特·潘乔里;杰拉德·麦克斯威尼;谢尔比·罗林斯;克里斯·约翰逊;南森·布莱克威尔;布拉德利·L·英曼;史蒂文·利尔;罗德尼·J·克里斯特纳;菲利普·巴恩斯 -专利权人：英特尔公司
申请日： 2014-07-28 - 公布日： 2017-04-12 - 主分类号： G01R31/26 文献下载
摘要：本文描述的方法包括用相应的信息配置半导体器件测试器的多个测试单元，其中相应的信息指示该测试器的卸载处理单元和中央控制单元中的一者或二者内的相应存储空间。方法还包括从测试单元向它们在卸载处理单元和中央控制单元中的至少一者内的相应存储空间流送DUT数据，以使得测试单元持续地向它们的相应存储空间发起对它们相应DUT数据的传送。
具有 dut 数据流半导体器件测试

[发明专利]用于对半导体晶圆进行等离子体切片的方法和设备-CN201480048001.1在审
发明人：蒂埃里·拉泽兰德;大卫·佩斯-沃拉德;林内尔·马丁内斯;克里斯·约翰逊;鲁塞尔·韦斯特曼;戈登·格里夫纳 -专利权人：等离子瑟姆有限公司
申请日： 2014-08-07 - 公布日： 2016-04-13 - 主分类号： H01L21/78 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于对衬底进行等离子体处理的方法，该方法包括：提供具有壁的处理室；提供与处理室的所述壁相邻的等离子体源；在处理室内提供工件支撑件；将工件加载到工件支撑件上，该工件具有支撑膜、框架和所述衬底；在衬底上提供至少两个切割区域，所述切割区域位于衬底上的所有相邻的器件结构之间；使用等离子体源产生等离子体；以及，使用所产生的等离子体处理所述工件。
用于对半导体进行等离子体切片方法设备

[发明专利]活动监视器-CN201510157916.2在审
发明人：蒂姆·夏普;迪普斯·帕特尔;克里斯·约翰逊 -专利权人：速比涛国际有限公司
申请日： 2015-04-03 - 公布日： 2015-11-11 - 主分类号： A61B5/11 文献下载
摘要：一种活动监视器，由使用者佩戴以监视水中活动。活动监视器包括至少一个动作传感器、水传感器、存储器及处理器。处理器可操作用于运行算法以根据来自动作传感器的输出来计算活动数据，并将活动数据储存到存储器。处理器可以通过来自水传感器的指示监视器浸入水中的输出，从而被触发以操作计算活动数据及将活动数据储存到存储器。
活动监视器

[发明专利]用于对基板进行等离子切割的方法-CN201510187572.X在审
发明人： 克里斯·约翰逊;大卫·约翰逊;鲁塞尔·韦斯特曼;林内尔·马丁内斯;大卫·佩斯-沃拉德;戈登·格里夫纳 -专利权人：等离子瑟姆有限公司
申请日： 2012-03-12 - 公布日： 2015-11-11 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于对基板进行等离子切割的方法。所述方法包括：提供具有壁的处理室；提供与所述处理室的壁相邻的等离子源；在所述处理室内提供工件支架；提供基板，所述基板被安装在框架上的支撑膜上以形成工件；在所述工件支架内提供静电吸盘；将所述工件放置到所述工件支架上；提供RF功率源，所述RF功率源被耦合到所述工件支架；通过所述等离子源产生等离子；通过所产生的等离子蚀刻所述工件；在所述等离子蚀刻步骤期间，随着接近所述基板与所述支撑膜之间的界面，使RF功率在低频率下跳动；以及在所述等离子蚀刻步骤期间，使用所述静电吸盘来静电吸附所述工件。
用于进行等离子切割方法

[发明专利]用于对基板进行等离子切割的方法-CN201510186311.6在审
发明人： 克里斯·约翰逊;大卫·约翰逊;鲁塞尔·韦斯特曼;林内尔·马丁内斯;大卫·佩斯-沃拉德;戈登·格里夫纳 -专利权人：等离子瑟姆有限公司
申请日： 2012-03-12 - 公布日： 2015-08-05 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本发明提供一种用于对基板进行等离子切割的方法。所述方法包括：提供基板；提供具有壁的处理室；提供与所述处理室的壁相邻的等离子源；在所述处理室内提供工件支架；将基板放置到框架上的支撑膜上以形成工件；将所述工件加载到所述工件支架上；通过所述等离子源产生等离子；通过所产生的等离子蚀刻所述工件的基板；以及，在所述等离子蚀刻步骤期间，提供位于工件上方的盖环，所述盖环不接触所述工件的框架，并且所述盖环在所述等离子蚀刻步骤期间与所述框架重叠但不与所述基板重叠。
用于进行等离子切割方法

[发明专利]用于对半导体晶圆进行等离子切割的方法和设备-CN201280013642.4有效
发明人： 克里斯·约翰逊;大卫·约翰逊;鲁塞尔·韦斯特曼;林内尔·马丁内斯;大卫·佩斯-沃拉德 -专利权人：等离子瑟姆有限公司
申请日： 2012-03-12 - 公布日： 2013-12-18 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：本发明提供一种用于对基板进行等离子切割的方法。所述方法包括：提供具有壁的处理室；提供与所述处理室的壁相邻的等离子源；在所述处理室内提供工件支架；将基板放置到所述框架上的支撑膜上以形成工件；将所述工件加载到所述工件支架上；提供布置在所述工件上方的盖环；通过所述等离子源产生等离子；以及，通过所产生的等离子来蚀刻所述工件。
用于对半导体进行等离子切割方法设备

[发明专利]用于在移动装置上接收广播多媒体的系统及方法-CN200880108294.2无效
发明人：乌萨马·阿尔沙克;克里斯·约翰逊;史蒂文·K·罗西;尼丁·索纳瓦尼;詹姆斯·J·科斯马奇;里查德·琼 -专利权人：培基维帝亚股份有限公司
申请日： 2008-09-26 - 公布日： 2010-08-18 - 主分类号： H04N7/173 文献下载
摘要：本发明揭示一种在移动装置上接收广播多媒体的系统及方法。所述系统及所述方法可使用可连接到移动装置的广播接收器附件。所述系统及所述方法可在所述广播接收器附件与所述移动装置之间具有双向数据连接。所述广播接收器附件可将内容翻译、重定格式及/或重新打包成可在所述移动装置上观看的形式。所述广播接收器附件可具有调谐器组件、应用程序处理器、音频再现元件及/或存储器。
用于移动装置接收广播多媒体系统方法

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