专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种任意自旋指向超衍射极限光焦斑的实现方法-CN202310509339.3有效
  • 曾永西;詹其文;余燕忠;吴平辉;陈木生 - 泉州师范学院
  • 2023-05-08 - 2023-07-21 - G02B27/42
  • 本发明涉及光焦斑的生成技术领域,本发明公开了一种任意自旋指向超衍射极限光焦斑的实现方法,方法包括将一对正交的偶极子对放置在以光学聚焦系统中心点为原点的空间上,且偶极子对的馈电电流相位相差π/2;将正交偶极子对绕原点进行旋转;光学聚焦系统将旋转后的偶极子对产生的辐射场收集并准直到光学聚焦系统的入瞳面,并弯折效应以求得入瞳面的辐射场;基于时间反演技术,反转入瞳面的辐射场,并用相对π相移从光学聚焦系统的入瞳面两侧向两物镜共焦区反向传播汇聚;基于Richard‑Wolf矢量衍射积分理论计算得到聚焦场数据,以能够在两物镜共焦区形成自旋指向任意可调的超衍射极限光焦斑。通过该方法所生成的超衍射极限光焦斑的自旋指向可任意调整。
  • 一种任意自旋指向衍射极限光焦斑实现方法
  • [发明专利]一种产生携带任意指向轨道角动量涡旋焦场的方法-CN202310463408.1有效
  • 曾永西;詹其文;余燕忠;吴平辉;陈木生 - 泉州师范学院
  • 2023-04-26 - 2023-06-23 - G02B27/00
  • 本发明公开了一种产生携带任意指向轨道角动量涡旋焦场的方法,该方法包括由两个具有共焦区的物镜建立光学聚焦系统;在光学聚焦系统的共焦区放置偶极子;计算该偶极子的辐射场,并在此基础上叠加相同空间指向的螺旋位相因子,以获得叠加辐射场;光学聚焦系统将叠加辐射场收集并准直到光学聚焦系统的入瞳面,并根据透镜对光线的弯折效应以求得入瞳面的辐射场;基于时间反演技术,反转此时入瞳面的辐射场,并用相对180度相移从光学聚焦系统的入瞳面两侧向两物镜共焦区方向传播,可在共焦区形成携带指定拓扑荷数的轨道角动量的定向涡旋焦场。通过该方法所构建的涡旋焦场的OAM指向可灵活定制,并且OAM的拓扑荷数亦可定制。
  • 一种产生携带任意指向轨道角动量涡旋方法
  • [发明专利]一种实现任意空间指向光链焦场的方法-CN202211285992.8有效
  • 曾永西;詹其文;余燕忠 - 泉州师范学院
  • 2022-10-20 - 2023-02-28 - G02B27/00
  • 本发明提供一种实现任意空间指向光链焦场的方法,属于光链焦场生成的技术领域;方法包括由两个共焦的高数值孔径的物镜建立光学紧聚焦系统;在光学紧聚焦系统的共焦区放置虚拟组合天线,虚拟组合天线包括虚拟磁流线源天线和虚拟电流线源天线;虚拟组合天线产生的辐射场被光学紧聚焦系统收集并准直到光瞳面,基于时间反演技术,反转虚拟组合天线的辐射场求得光瞳面的入射场;将入射场从光学紧聚焦系统两侧的光瞳面入射,经光学紧聚焦系统传播并在共焦区汇聚,从而形成期望的任意空间指向的光链焦场。通过本发明方法能够灵活定制任意空间指向的光链焦场,且定制的光链焦场具有广泛的应用潜力。
  • 一种实现任意空间指向光链焦场方法
  • [发明专利]一种实现同一光焦斑任意指向直线阵列的方法-CN202211231033.8有效
  • 曾永西;詹其文;余燕忠;林顺达;陈木生;吴平辉 - 泉州师范学院
  • 2022-10-10 - 2023-02-24 - G02B27/00
  • 本发明提供一种实现同一光焦斑任意指向直线阵列的方法,属于光焦斑阵列生成的技术领域;方法包括由两个具有共焦区的物镜建立光学聚焦系统;在光学聚焦系统的共焦区放置虚拟电流线源天线;其中,虚拟电流线源天线可任意指向,载波电流相位分布为均匀同相,幅度分布为周期性余弦渐削分布;光学聚焦系统将所述虚拟电流线源天线产生的辐射场收集并准直到光瞳面;基于时间反演技术,反转虚拟电流线源天线的辐射场求得光瞳面的入射场;将所述入射场从所述光学聚焦系统两侧的光瞳面入射,经所述光学聚焦系统传播并在共焦区汇集,从而形成期望的同一光焦斑直线阵列。通过该方法有利于灵活定制同一光焦斑的任意指向直线阵列。
  • 一种实现同一光焦斑任意指向直线阵列方法
  • [发明专利]一种产生横向光针平面阵的方法-CN202110218274.8有效
  • 曾永西;余燕忠;陈木生;曹璐瑶 - 泉州师范学院
  • 2021-02-26 - 2022-10-14 - G02B27/00
  • 本发明涉及一种产生横向光针平面阵的方法,将两个用于汇聚入射场的高数值孔径物镜共轴放置,建立4π光学聚焦系统;在4π光学聚焦系统的焦平面放置虚拟均匀线源天线阵列,并计算得到所述虚拟均匀线源天线阵列产生的辐射场,所述虚拟均匀线源天线阵列的辐射场被两个物镜完全汇聚并准直到光瞳面,通过时间反演技术,逆转所述虚拟均匀线源天线阵列的辐射场求得光瞳面的入射场;将所述入射场从光瞳面入射,经4π光学聚焦系统传播并在焦区汇聚,在4π光学聚焦系统的焦平面形成光针平面阵。该方法有利于灵活定制横向光针平面阵。
  • 一种产生横向平面阵方法
  • [发明专利]一种空间指向和长度可定制的光管焦场产生方法-CN202110218273.3有效
  • 曾永西;余燕忠;陈木生 - 泉州师范学院
  • 2021-02-26 - 2022-10-14 - G02B27/00
  • 本发明涉及一种空间指向和长度可定制的光管焦场产生方法,由两个高数值孔径物镜建立4Pi光学聚焦系统,在所述4Pi光学聚焦系统的共焦区放置空间指向和几何长度可定制的虚拟均匀磁流线源天线,所述虚拟均匀磁流线源天线产生的辐射场被两个物镜完全收集并准直到光瞳面;基于时间反演技术,逆转虚拟均匀磁流线源天线辐射场求得光瞳面的入射场;实现所述入射场,从光瞳面入射,经4Pi光学聚焦系统传播并在共焦区汇聚,在4Pi光学聚焦系统的共焦区形成期望的光管焦场。该方法有利于灵活定制不同空间指向和长度的光管焦场。
  • 一种空间指向长度定制光管焦场产生方法
  • [发明专利]一种产生任意指向光针立体阵的方法-CN202110218272.9有效
  • 曾永西;余燕忠;陈木生 - 泉州师范学院
  • 2021-02-26 - 2022-10-14 - G02B27/00
  • 本发明涉及一种产生任意指向光针立体阵的方法,将两个用于汇聚入射场的高数值孔径物镜共轴放置,建立4π光学聚焦系统;在4π光学聚焦系统的焦区放置虚拟均匀线源天线立体阵,并计算得到所述虚拟均匀线源天线立体阵产生的辐射场,所述虚拟均匀线源天线立体阵的辐射场被两个物镜完全汇聚并准直到光瞳面,通过时间反演技术,逆转所述虚拟均匀线源天线立体阵的辐射场求得光瞳面的入射场;将所述入射场从光瞳面入射,经4π光学聚焦系统传播并在焦区汇聚,在4π光学聚焦系统的焦区形成指向可控的光针立体阵。该方法有利于灵活定制光针立体阵。
  • 一种产生任意指向立体方法
  • [发明专利]基于旋转场天线的辐射场产生可旋转光学焦场的方法-CN201910352567.8有效
  • 余燕忠;林雪华 - 泉州师范学院
  • 2019-04-29 - 2022-06-07 - G02F1/29
  • 本发明提出一种基于旋转场天线的辐射场产生可旋转光学焦场的方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤S1:两个相互垂直且相位差90°的偶极子组成的虚拟旋转场天线置于4π聚焦系统的焦平面中心,使所述虚拟旋转场天线辐射的电磁场被两个相对的高数值孔径透镜完全会聚并准直到光瞳平面上;步骤S2:所述两个相对的高数值孔径透镜将两束相差180°的入射场聚焦到其光学焦平面上。本发明方法所产生的“8”字型光学焦场的强度分布随着时间在焦平面上围绕光轴以圆频率ω旋转。该旋转光焦场在粒子旋转,粒子加速和近场扫描光学显微镜等方面有重要的应用价值。
  • 基于旋转天线辐射产生光学方法
  • [发明专利]一种基于空间偶极子阵的三维多焦斑阵列的产生方法-CN201811246312.5有效
  • 余燕忠;林雪华 - 泉州师范学院
  • 2018-10-24 - 2021-04-30 - G02B27/00
  • 本发明涉及一种基于空间偶极子阵的三维多焦斑阵列的产生方法,首先采用两个高数值孔径(NA,Numerical Aperture)透镜组成4π聚焦系统;接着在4π聚焦系统的焦区放置一虚拟的空间偶极子阵;然后两个所述高数值孔径透镜将空间偶极子阵的全部辐射场从像空间完全收集并准直到光瞳面,通过求解逆问题得到光瞳面上的电场分布;最后将光瞳面上的场分布视为入射场并逆向传输到焦区,在高数值孔径透镜的焦区附近产生具有预定特性的三维多焦斑阵列。本发明利用空间偶极子阵列的辐射场产生三维多焦斑阵列时无需冗长的迭代优化过程,且每个焦斑外形和强度相同,数量可控,位置和间隔可定制。
  • 一种基于空间偶极子三维多焦斑阵列产生方法
  • [发明专利]一种利用平面天线阵的辐射场产生二维同一焦斑阵列的方法-CN201811246310.6有效
  • 余燕忠;储贻波 - 泉州师范学院
  • 2018-10-24 - 2020-12-29 - G02B27/00
  • 本发明涉及一种利用平面天线阵的辐射场产生二维同一焦斑阵列的方法,本发明首先采用两个高数值孔径透镜组成4π聚焦系统;然后在由两个高数值孔径透镜组成的4π聚焦系统的焦平面中央排列一个虚拟的平面天线阵;该天线阵辐射的电磁场向外传播到达像空间侧的透镜,并被两个所述高数值孔径透镜完全收集,接着继续传播到两个透镜的光瞳面上,得到光瞳面上的场分布;最后将光瞳面上的场分布视为入射场并逆向传输到焦区,在高数值孔径透镜的焦平面上产生具有预定特性的二维同一焦斑阵列。本发明采用无需优化的方法来生成具有预定数量、间距和位置的二维同一焦斑阵列。
  • 一种利用平面天线阵辐射产生二维同一阵列方法

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