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[发明专利]记录介质处理装置以及图像形成系统-CN202211167485.4在审
发明人：松本匡史;上兼拓巳;内山隆幸;中村光宏;府中太一 -专利权人：富士胶片商业创新有限公司
申请日： 2022-09-23 - 公布日： 2023-09-22 - 主分类号： B42B5/00 文献下载
摘要：本公开的记录介质处理装置以及图像形成系统与用于装订处理的齿的移动速度不发生变化的情况相比，抑制装订处理的生产性的下降。记录介质处理装置包括：第一齿，被用于记录介质捆的装订处理；第二齿，朝向所述第一齿移动，对位于与所述第一齿之间的所述记录介质捆进行按压；以及移动部件，包含丝杠移动部件，并且使所述第二齿相对于所述第一齿而移动，所述丝杠移动部件使与联动于所述第二齿的联动部分咬合的丝杠沿周向旋转而使所述第二齿移动。通过所述移动部件而移动的所述第二齿的移动速度发生变化。
记录介质处理装置以及图像形成系统

[发明专利]半导体器件和制造方法-CN201910066184.4有效
发明人：永井孝一;中村亘;中村光宏;伊藤昭男 -专利权人：富士通半导体存储方案股份有限公司
申请日： 2019-01-24 - 公布日： 2023-07-04 - 主分类号： H10B51/00 文献下载
摘要：一种半导体器件，包括：衬底；晶体管，形成在衬底的表面上；第一绝缘膜，形成在晶体管上方；第二绝缘膜，形成在第一绝缘膜上；第三绝缘膜，形成在第二绝缘膜上；第四绝缘膜，形成在第三绝缘膜上；以及铁电电容器，形成在第四绝缘膜上，其中第三绝缘膜的氢气渗透率高于第一绝缘膜的氢气渗透率，第二绝缘膜和第四绝缘膜的氢气渗透率和氧气渗透率高于第一绝缘膜和第三绝缘膜的氢气渗透率和氧气渗透率。
半导体器件制造方法

[发明专利]试样支架、膜间距离调整机构以及带电粒子束装置-CN201980101094.2在审
发明人：波田野道夫;中村光宏;小椋俊彦 -专利权人：株式会社日立高新技术;国立研究开发法人产业技术综合研究所
申请日： 2019-10-10 - 公布日： 2022-05-27 - 主分类号： H01J37/20 文献下载
摘要：本发明可靠地利用试样支架对液体状或凝胶状的试样进行保持，提高利用带电粒子束装置进行观察的合格率。试样支架(101)具有：第一部件(102)，其具有盖部件(111)和具备形成有包括第一绝缘性薄膜(104)在内的层叠膜的第一窗口(123)的第一芯片(105)；以及第二部件(103)，其具有形成有第一底部密封面(203)及第二底部密封面(200)的母材(127)、配置于母材的电极(108)以及第二芯片(107)，该第二芯片(107)具备形成有第二绝缘性薄膜(106)的第二窗口(124)，且以使第二窗口与电极对置的方式经由第二密封件(119)保持在第二底部密封面上，第一部件与第二部件组合，第一密封件在第一底部密封面以及盖部件的上部密封面之间被压扁，由此比第一密封件靠内部的区域相对于第一密封件的外部的区域保持为气密。
试样支架间距调整机构以及带电粒子束装置

[发明专利]无针装订部的制造方法-CN202110749507.7在审
发明人：松本匡史;中村光宏;内山隆幸;上兼拓巳;物江智子 -专利权人：富士胶片商业创新有限公司
申请日： 2021-07-01 - 公布日： 2022-05-17 - 主分类号： B42B5/00 文献下载
摘要：本发明提供一种无针装订部的制造方法，所述无针装订部具备具有复数个凹凸的第1装订部和具有与所述第1装订部对置地配置且与所述第1装订部的凹凸嵌合的凹凸的第2装订部，利用所述第1装订部和所述第2装订部在媒体的厚度方向上夹住媒体来装订媒体彼此，所述无针装订部的制造方法中执行：形成工序，利用模具形成所述装订部；第1调整工序，调整利用模具形成且从模具中取出的所述装订部的凸出部分的中心位置；及第2调整工序，调整经中心位置调整的凸出部分的外形形状。
装订制造方法

[发明专利]装订部及装订装置-CN202110754984.2在审
发明人：松本匡史;内山隆幸;上兼拓巳;中村光宏;物江智子 -专利权人：富士胶片商业创新有限公司
申请日： 2021-07-01 - 公布日： 2022-05-17 - 主分类号： G03G15/00 文献下载
摘要：本发明提供一种装订部及装订装置。装订部，其具有复数个凹凸且用于在媒体束的厚度方向上夹住媒体来装订媒体彼此的无针装订，在复数个凸起中，凸起的排列方向上的中央部的凸出部分的前端比配置于与所述中央部不同的位置的凸出部分的前端更突出。
装订装置

[发明专利]屏蔽罩及电子电路模块-CN202110320934.3在审
发明人： 中村光宏 -专利权人：拉碧斯半导体株式会社
申请日： 2021-03-25 - 公布日： 2021-09-28 - 主分类号： H05K9/00 文献下载
摘要：本发明提供一种屏蔽罩及电子电路模块，能够改善屏蔽罩剥落或电子电路模块剥落的不良情况。与搭载有电子零件的电路基板接合而覆盖电子零件的屏蔽罩包括：覆盖电子零件的顶板部、以及自顶板部的周缘部向与顶板部交叉的方向突出而形成的多个端子脚部。多个端子脚部的每一个包括：自顶板部拉伸的脚部、自脚部的前端向与脚部交叉的方向延伸存在而与电路基板接合的端子部；以及扩张端子部，通过使端子部的每一个的前端部沿电路基板的端面弯曲而形成，且具有超过电路基板的厚度的长度。
屏蔽电子电路模块

[发明专利]测量装置和观测条件的设定方法-CN201780082429.1有效
发明人：荒木亮子;津野夏规;中村洋平;笹岛正弘;中村光宏;扬村寿英 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2017-05-12 - 公布日： 2021-07-30 - 主分类号： H01J37/22 文献下载
摘要：本发明提供一种照射带电粒子束来观察试样的测量装置，其特征在于，包括：输出带电粒子束的粒子源；使带电粒子束聚焦的透镜；对从照射了带电粒子束的试样发射的发射电子的信号进行检测的检测器；和基于观测条件对带电粒子束的输出和发射电子的信号的检测进行控制的控制装置，作为所述观测条件，控制装置设定用于控制带电粒子束的照射周期的第1参数、用于控制脉冲状的带电粒子束的脉冲宽度的第2参数、用于在脉冲状的带电粒子束的照射时间内控制发射电子的信号的检测时刻的第3参数，第3参数是基于从带电粒子束的照射位置发射的多个发射电子的信号各自的强度之差而决定的。
测量装置观测条件设定方法

[发明专利]记录材料处理装置及图像形成系统-CN202010499401.1在审
发明人：松本匡史;小泽秀明;野辺裕;内山隆幸;深町昂志;牧田拓也;寺尾尚人;加藤大志;中村光宏 -专利权人：富士施乐株式会社
申请日： 2020-06-04 - 公布日： 2021-05-04 - 主分类号： B42B5/00 文献下载
摘要：一种记录材料处理装置及图像形成系统，与齿沿着曲线状路径移动并抵压于记录材料束的结构相比，能够提高对记录材料束进行的装订质量。记录材料处理装置具备：第1齿，使用于记录材料束的装订处理；第2齿，沿着直线状路径向所述第1齿移动，并挤压位于与该第1齿之间的所述记录材料束；及引导部，沿着所述直线状路径配置，并引导向所述第1齿移动的所述第2齿。
记录材料处理装置图像形成系统

[发明专利]带电粒子线装置-CN201680086434.5有效
发明人： 中村光宏;板桥洋宪;佐藤博文;斋藤勉;笹岛正弘;津野夏规;中村洋平 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2016-06-23 - 公布日： 2020-08-14 - 主分类号： H01J37/28 文献下载
摘要：为了提供即使相对于高真空环境下的非导电性试料也能检测稳定的二次粒子(23)、电磁波(24)并能进行良好的观察、分析的带电粒子线装置，使带电粒子线装置具有：带电粒子枪(12)；使带电粒子线(20)在试料(21)上进行扫描的扫描偏转器(17、18)；检测从外部向扫描偏转器输入的扫描控制电压的检测部(40、41)；基于检测到的扫描控制电压来计算带电粒子线(20)的照射像素坐标的运算部(42)；以及根据照射像素坐标控制向试料(21)的带电粒子线(20)的照射的照射控制部(45)。
带电粒子线装

[发明专利]多元醇组合物-CN201480057232.9有效
发明人： 中村光宏;君塚新一 -专利权人：日本曹达株式会社
申请日： 2014-10-21 - 公布日： 2019-08-06 - 主分类号： C08G63/87 文献下载
摘要：本发明提供一种多元醇组合物，含有具有聚酯链的多元醇，实质上不含有金属系聚合催化剂且来自聚合催化剂的磷元素的含量为1～1000ppm。此外，本发明提供一种多元醇组合物的制造方法，包括不使用金属系聚合催化剂而使具有活性氢的化合物与具有选自羧基、酯基和酰卤基中的至少一者的化合物在相对于上述具有活性氢的化合物1摩尔份为0.0001～0.05摩尔份的磷化合物的存在下进行反应。
多元组合

[发明专利]聚氨酯-CN201380017627.1有效
发明人：白井昭宏;宫下康典;君塚新一;中村光宏 -专利权人：日本曹达株式会社
申请日： 2013-05-23 - 公布日： 2017-05-31 - 主分类号： C08G18/66 文献下载
摘要：使在两末端具有羟基的聚丁二烯与ε‑己内酯等内酯化合物反应，得到式(I)所示的聚合物多元醇，使该聚合物多元醇与非对称二异氰酸酯反应，得到氨基甲酸酯预聚物，使该氨基甲酸酯预聚物与扩链剂反应，得到聚氨酯，式(I)HO‑X1‑Y‑X2‑OH(X1和X2各自独立地表示聚酯成分，Y表示聚丁二烯成分)。
聚氨酯

[发明专利]带电粒子束装置、带电粒子束装置的控制方法-CN201480053931.6有效
发明人：青木贤治;斋藤勉;细谷幸太郎;中村光宏;重藤训志 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2014-10-07 - 公布日： 2017-05-24 - 主分类号： H01J37/28 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种识别反射电子检测元件与试样之间的位置关系、试样周围的真空状态，自动地选择适合获取目的图像的反射电子检测元件的带电粒子束装置。本发明的带电粒子束装置在试样室内的真空度高试样与反射电子检测器离开时选择全部的反射电子检测元件，在试样室内的真空度高试样与反射电子检测器接近时选择适合于获取组成图像或凹凸图像的反射电子检测元件。在试样室内的真空度低时选择全部的反射电子检测元件(参照图7)。
带电粒子束装置控制方法

[发明专利]介质收容容器和图像形成设备-CN201310168203.7有效
发明人： 中村光宏;由井肇 -专利权人：富士施乐株式会社
申请日： 2013-05-09 - 公布日： 2017-05-03 - 主分类号： B65H1/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种介质收容容器和图像形成设备。该介质收容容器包括堆叠构件，该堆叠构件允许介质堆叠在形成于其上表面上的堆叠表面上；对齐构件，该对齐构件与堆叠在所述堆叠表面上的介质的端部接触并将所述介质的端部对齐；和送风构件，该送风构件被布置成与所述堆叠表面的不能上下移动到的位置对应，并将气体吹送到堆叠在该堆叠表面上的介质的端部，其中设置有通道部分，该通道部分形成在所述堆叠表面上，并且形成为沿着所述气体的吹送方向延伸的凹槽的形状，所述气体流过该通道部分。
介质收容容器图像形成设备

[发明专利]片材供给装置、片材容纳装置以及图像形成设备-CN201310005561.6有效
发明人：由井肇;中村光宏 -专利权人：富士施乐株式会社
申请日： 2013-01-08 - 公布日： 2017-05-03 - 主分类号： B65H1/00 文献下载
摘要：本发明涉及片材供给装置、片材容纳装置以及图像形成设备。所述片材供给装置包括装载部，在所述装载部上装载有片材；传送部，所述传送部从装载在所述装载部上的具有侧表面的纸张堆叠的顶部顺序地传送所述纸张；送风部，所述送风部具有送风开口，所述送风开口相对于装载在所述装载部上的所述纸张堆叠的所述侧表面敞开，所述送风部借助所述送风开口朝向所述纸张堆叠的所述侧表面送风；倾斜部，所述倾斜部使得装载在所述装载部上的所述纸张堆叠根据装载在所述装载部上的所述纸张的数量而倾斜；以及设定部，所述设定部根据由所述倾斜部倾斜的所述纸张堆叠的倾斜量来设定所述送风部的所述送风开口的位置。
供给装置容纳以及图像形成设备

[发明专利]多羟基不饱和烃系聚合物氢化物的制造方法-CN201380069385.0有效
发明人：桥本裕辉;早川佳男;中村光宏 -专利权人：日本曹达株式会社
申请日： 2013-12-25 - 公布日： 2015-09-16 - 主分类号： C08F8/04 文献下载
摘要：本发明提供一种多羟基不饱和烃系聚合物氢化物的制造方法，该多羟基不饱和烃系聚合物氢化物能够抑制末端羟基的氢解反应等副反应且以短的反应时间得到高的氢化率。通过包括如下工序的方法得到多羟基不饱和烃系聚合物氢化物：将多羟基不饱和烃系聚合物在氢化催化剂和反应溶剂的存在下，(I)在80℃～130℃的温度范围内进行氢化反应直到氢化率达到30mol％以上，(II)然后，在高于130℃的温度下进行氢化反应直到氢化率达到98mol％以上。
羟基不饱和聚合物氢化物制造方法

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