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[发明专利]激光转印膜-CN202010461517.6有效
发明人：李广会;李惠利;朴埈佑;严相烈 -专利权人：东丽尖端素材株式会社
申请日： 2020-05-27 - 公布日： 2022-08-19 - 主分类号： B41M5/26 文献下载
摘要：本发明公开一种激光转印膜。所述激光转印膜依次包括基材层、热膨胀性光吸收层和粘合层，其中，所述热膨胀性光吸收层在550nm的波长下具有70％以上的透光率，吸收780nm至1500nm波长范围内的光，并且由下述数学式1表示的可见光透射率和近红外透射率之间的差为9％至75％:【数学式1】可见光透射率和近红外透射率之差＝透光率(@550nm)‑透光率(@1064nm)。
激光转印膜

[发明专利]有机-无机粘合剂组合物、包含其的气体阻挡膜及其生产方法-CN201680078174.7在审
发明人：陈尚佑;朴埈佑;李广会;严相烈;李志勋 -专利权人：东丽先端素材株式会社
申请日： 2016-12-30 - 公布日： 2018-08-31 - 主分类号： C09D201/10 文献下载
摘要：本发明涉及有机‑无机粘合剂组合物、包含其的气体阻挡膜及用于生产其的方法。更具体地，本发明可以提供有机‑无机粘合剂组合物、气体阻挡膜及其生产方法，所述有机‑无机粘合剂组合物能够改善构成装置的无机材料气体阻挡层和各种有机材料之间的粘合性；所述气体阻挡膜即使在基底上具有无机层和有机‑无机粘合层的简单双层结构而没有表面处理或底涂层的情况下也具有优异的阻气性，并且其中有机‑无机粘合层改善了构成装置的气体阻挡膜的无机层和有机材料之间的粘合性，由此表现出优异的粘合特性。
气体阻挡膜无机粘合剂组合物构成装置有机材料无机层粘合层粘合性粘合剂组合物气体阻挡层有机-无机双层结构无机材料粘合特性底涂层阻气性基底生产表现

[发明专利]抗反射膜和包括其的偏振板-CN200910177139.2无效
发明人：崔圭夏;李文馥;徐正泰;严相烈 -专利权人：东丽先端素材株式会社
申请日： 2009-09-27 - 公布日： 2010-12-01 - 主分类号： G02B1/11 文献下载
摘要：本发明总体上涉及抗反射膜和包括其的偏振板，且更具体而言，涉及通过使反射光谱的振幅减小而具有优异的彩虹效应和非常低的反射率的抗反射膜和包括其的偏振板。根据本发明的抗反射膜包括：用于保护聚乙烯醇(PVA)偏振片的三醋酸纤维素(TAC)透明基底；涂覆在所述透明基底上的高折射率的高硬度层，所述高折射率的高硬度层具有1.50～1.60的折射率和抗静电功能；和涂覆在所述高折射率的高硬度层上的低折射率层，所述低折射率层具有1.31～1.40的折射率并且是湿法涂覆的，其中所述抗反射膜在480～680nm波长范围内在5°入射角下具有0.1～0.4％的平均镜面反射率。
反射包括偏振

[发明专利]低反射膜-CN200910160718.6有效
发明人：崔光辉;李文馥;徐正泰;严相烈 -专利权人：东丽先端素材株式会社
申请日： 2009-07-17 - 公布日： 2010-10-13 - 主分类号： G02B1/11 文献下载
摘要：本发明涉及低反射膜。更具体地，本发明提供包括在基底膜上的高折射率的硬涂覆层和低折射率层这两层结构的低反射膜。通过降低硬涂覆层和低折射率层的表面粗糙度，与常规的低反射膜相比，本发明的低反射膜改善了表面硬度、抗刮伤性和指纹污迹除去能力。为此，根据本发明的低反射膜的特征在于，其设有至少在基底膜(10)的一侧上顺次设置的高折射率的硬涂覆层(20)和低折射率层(30)，其中低折射率层(30)的表面具有算术平均粗糙度为0.0001μm～0.005μm的细小的凸出和凹入部分。低折射率层(30)的特征在于其包括3～15重量份的空心二氧化硅，基于100重量份的粘结剂树脂。
反射

[发明专利]控制光泄漏的粘合组合物及涂覆有其的显示装置用光学膜-CN200910008228.4无效
发明人：崔圭夏;李文馥;徐正泰;严相烈 -专利权人：东丽世韩有限公司
申请日： 2009-02-19 - 公布日： 2010-06-16 - 主分类号： C09J133/06 文献下载
摘要：本发明涉及用于控制光泄漏的粘合组合物和涂覆有该组合物的显示装置用光学膜。该粘合组合物可减轻粘合剂的收缩应力以补充光泄露性质并使由于光学膜的基底与粘合剂的尺寸变化产生的残余应力最小化。为此，该粘合组合物包含：(A)重均分子量为2,000,000～2,500,000的反应性高分子量丙烯酸类共聚物；(B)重均分子量为1,500,000～2,000,000的反应性中间分子量丙烯酸类共聚物；(C)重均分子量为100,000～500,000的反应性低分子量丙烯酸类共聚物；和(D)交联剂，且其特征在于所述高分子量、中间分子量和低分子量丙烯酸类共聚物为用以下物质聚合的反应性共聚物：(a)90～99.9重量份的具有其中碳数为4～12的烷基的丙烯酸烷基酯；和(b)0.1～10重量份的具有能与所述交联剂交联的官能团的乙烯基单体。
控制泄漏粘合组合涂覆有显示装置用光

[发明专利]具有优异反射外观和抗指纹的显示用硬涂层膜-CN200810178219.5无效
发明人：崔淳旭;严相烈;李文馥;徐正泰 -专利权人：东丽世韩有限公司
申请日： 2008-11-17 - 公布日： 2010-01-13 - 主分类号： G02B1/10 文献下载
摘要：本发明涉及具有优异反射外观的显示用硬涂层膜，且更具体地说涉及这样的显示用硬涂层膜：具有优异反射外观和有防污染效果的防污染功能，且同时通过技术上控制彩虹效应而显著地降低彩虹效应。为此，根据本发明的具有优异反射外观和防污染功能的显示用硬涂层膜包括用于硬涂层的预置层和在该预置层上用于防止污染的涂布有硬涂层组合物的硬涂布层，该硬涂层组合物包括具有1～30μm平均粒径的颗粒，其中所述用于硬涂层的预置层具有500±50μm的最小反射波长段，且具有1.58±0.1的折射率。
具有优异反射外观指纹显示涂层

[发明专利]具有优异的耐刮擦性和表面滑移性质的抗反射膜-CN200810176077.9无效
发明人：崔光辉;赵荣镐;严相烈;李文馥;徐正泰 -专利权人：东丽世韩有限公司
申请日： 2008-11-11 - 公布日： 2009-11-18 - 主分类号： G02B1/11 文献下载
摘要：本发明涉及具有优异的耐刮擦性和表面滑移性质的抗反射膜，并且更具体地，涉及具有优异的耐刮擦性和表面滑移性质的抗反射膜，其中表面摩擦系数降低，使得耐刮擦性提高且表面滑移性质优异，由此防止当移动显示器的位置时的嘎吱声，并有效地防止从显示器表面的光反射且降低生产成本。本发明的特征在于具有优异的耐刮擦性和表面滑移性质的抗反射膜，其中含有(甲基)丙烯酸酯化合物的硬涂层110、含有粘合剂树脂和导电颗粒的高折射层120、以及含有氟化合物的低折射层130顺序堆叠在基底膜100的至少一侧上，其中该低折射层130的表面是细微粗糙的，并且在该低折射层130侧上的静摩擦系数等于或小于0.5且动摩擦系数等于或小于0.7。
具有优异耐刮擦性表面滑移性质反射

[发明专利]用于光学应用的叠层膜-CN200810082043.3有效
发明人：崔光辉;李文馥;徐基奉;严相烈;金相弼;赵荣镐 -专利权人：东丽世韩株式会社
申请日： 2008-02-28 - 公布日： 2009-05-27 - 主分类号： G02B1/11 文献下载
摘要：本发明涉及用于光学应用的叠层膜，更具体地，涉及具有优良抗反射性能和耐磨性能、以及能够成本有效地生产的用于光学应用的叠层膜。为此目的，本发明的叠层膜的特征在于它包括：衬底膜；在所述衬底膜的至少一侧上提供的高折射率层，其包含具有含氟化合物的树脂、金属氧化物和光聚合引发剂，该层具有1.58～1.70的折射率和30～100nm的厚度；以及在所述高折射率层上提供的低折射率硬质涂层，其包含(甲基)丙烯酸酯化合物、在主链中具有乙烯基酯结构的含氟共聚物、以及金属氧化物，该层还具有1.38～1.48的折射率和0.05～10.0μm的厚度。
用于光学应用叠层膜

[发明专利]使用具有双刀片的辊的涂布装置和使用所述装置制造光学膜的方法-CN200810082044.8无效
发明人：郑智薰;李文馥;徐基奉;严相烈;金相弼;崔光辉 -专利权人：东丽世韩株式会社
申请日： 2008-02-28 - 公布日： 2009-05-13 - 主分类号： B05C1/12 文献下载
摘要：本发明涉及使用具有双刀片的辊的涂布装置和使用所述装置制造光学膜的方法，其为了减少产品的损失和缺陷比，通过在通常的凹版式涂布装置中安装另外的后刀片以除去在长时间连续生产中产生的转移到凹版式辊上的涂布液气泡，从而长时间保持生产过程的稳定性，并得到均匀的涂层和良好的外观。根据本发明的所述涂布装置包含：用于将在液体盘中的涂布液转移到膜上的凹版式涂布液转移辊，在所述辊的三分之一浸在所述液体盘中的涂布液中的同时，旋转所述辊；安装在所述凹版辊前面的前刀片，用于刮下多余的涂布液，同时留下给定量的待被所述凹版辊转移的涂布液；和安装在所述凹版辊的后侧的后刀片，用于防止在所述凹版辊表面上产生气泡。
使用具有双刀装置制造光学方法

[发明专利]具有优异反射外观的显示器用硬涂膜-CN200810003199.8无效
发明人：金相弼;李文馥;徐基奉;严相烈;崔淳旭 -专利权人：东丽世韩株式会社
申请日： 2008-01-15 - 公布日： 2009-04-08 - 主分类号： G02B1/10 文献下载
摘要：本发明涉及具有优异反射外观的显示器用硬涂膜，并更具体地涉及其中通过技术控制彩虹效应而使彩虹效应显著降低的具有优异反射外观的显示器用硬涂膜。为此，包含用于硬涂层的预层和在预层上用硬质涂料组合物涂敷的硬涂层的、具有优异反射外观的显示器用硬涂膜，其特征在于该预层具有500nm±50nm的最小反射波长段，并且还具有1.58±0.05的折射率。所述硬涂膜的特征还在于预层是基底膜或是施涂在基底膜上的涂底层。
具有优异反射外观显示器用硬涂膜

[发明专利]用于硬涂布层的组合物、使用该组合物的硬涂布膜以及包含该硬涂布膜的抗反射膜-CN200810003196.4无效
发明人：金相弼;李文馥;徐基奉;严相烈;崔淳旭 -专利权人：东丽世韩株式会社
申请日： 2008-01-15 - 公布日： 2009-02-25 - 主分类号： C08J7/06 文献下载
摘要：本发明涉及用于形成硬涂布层的组合物、采用该组合物形成的硬涂布膜以及包含该硬涂布膜的抗反射膜。特别地，本发明涉及用于形成硬涂布层的组合物、采用该组合物形成的硬涂布膜以及包含该硬涂布膜的抗反射膜，其中有可能以比常规方式更为简单的方式获得所需水平的紫外线透射率并对内部组分防护紫外线，而且易于控制紫外线的吸收水平。为此，为了实现上述目标，根据本发明的第一方面的用于形成硬涂布层的组合物，其特征在于，基于组合物的总重量而言，其包含(a)35至50重量％的二季戊四醇六丙烯酸酯(DPHA)、(b)35至40重量％的二季戊四醇五丙烯酸酯(DPPA)、(c)3至10重量％的N－乙烯基吡咯烷酮、(d)9至50重量％的多异氰酸酯和(e)1至5重量％的UV吸收剂。根据本发明另一实施方案的、包含基底膜和硬涂布层的硬涂布膜，其特征在于，其是采用形成硬涂布层的组合物形成的。根据本发明又一实施方案的抗反射膜，其特征在于，抗反射(AR)膜包含按顺序施加到硬涂布层上的高折射率层(B)和低折射率层(A)。
用于硬涂布层组合使用硬涂布膜以及包含反射

[发明专利]虹现象减少且具有优化的抗反射效果的抗反射膜-CN200710307601.7有效
发明人：金相弼;李文馥;徐基奉;严相烈;郑智薰;崔光辉 -专利权人：东丽世韩株式会社
申请日： 2007-12-29 - 公布日： 2008-12-03 - 主分类号： G02B1/11 文献下载
摘要：本发明涉及抗反射膜，更具体而言，涉及通过在可见光(380至780nm)波长范围内降低最大反射率与最小反射率之比，制备的虹现象减少且具有优化的抗反射效果的抗反射膜，该膜具有低反射率。为达到本发明的目的，本发明包括这样的叠置膜，其在基底膜100的至少一侧上依次包括含有(甲基)丙烯酸酯化合物的硬涂布层110、包含粘结剂树脂和导电粒子的导电层120以及包含氟化物的树脂层130，其特征在于，树脂层130的表面是微细粗糙的，且特征在于，在树脂层130侧的叠置膜表面的表面上，于380nm至780nm的波长范围内，最大反射率与最小反射率之比等于或小于20。优选的是，叠置膜的最大反射率小于4％，最小反射率大于0.2％。
现象减少具有优化反射效果

[发明专利]用于显示器件的光学材料的保护膜-CN200710196137.9无效
发明人：金相弼;李文馥;徐基奉;严相烈;崔圭夏;崔淳旭 -专利权人：东丽世韩株式会社
申请日： 2007-11-28 - 公布日： 2008-11-05 - 主分类号： C09J133/20 文献下载
摘要：本发明涉及用于显示器件中光学材料的保护膜。更具体而言，本发明涉及一种保护膜，其可以使出现微小污迹的问题得以减少或几乎消除，所述微小污迹的出现是由于保护层中粘合剂层的耐热性和耐潮湿性较差，因而保护膜中的粘合剂层转移到显示器件光学材料的基底上所致，由此根据本发明可改善抗污能力的降低。为此目的，在显示器件中光学材料用的保护膜(其中粘合剂组合物施加到基底上)中，所述保护膜的特征在于，粘合剂组合物包含100重量份的丙烯酸共聚物树脂和0.1至20重量份的硬化剂，所述丙烯酸共聚物树脂的重均分子量是300，000至2，000，000，分子量分布为1至4。优选的是，本发明的特征在于，丙烯酸共聚物树脂的玻璃化转变温度为－50℃至－20℃。更优选的是，本发明的特征在于，粘合剂组合物的硬化度(凝胶分数)为60％至99％。本发明的特征在于不使用异氰酸酯硬化剂作为硬化剂。
用于显示器件光学材料保护膜

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