专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种半导体结构及制备方法与应用-CN202210097167.9在审
  • 吕振兴;齐胜利;刘亚柱;赵耀;张丽 - 宁波安芯美半导体有限公司
  • 2022-01-27 - 2022-05-13 - H01L33/24
  • 本发明提出了一种半导体结构及制备方法与应用,所述制备方法,至少包括以下步骤:提供一衬底;在所述衬底上形成半导体外延层,且所述半导体外延层包括依次设置的第一类型半导体层、量子阱层和第二类型半导体层;通入第一类型气体,刻蚀所述半导体外延层一侧的第二类型半导体层、量子阱层以及预设厚度的第一类型半导体层;通入第二类型气体,刻蚀修复刻蚀后的所述第一类型半导体层,形成修复层;在所述修复层上形成第一电极;以及在所述第二类型半导体层上形成第二电极。本发明提供的一种半导体结构及制备方法与应用,能有效改善半导体结构电极的欧姆接触困难的问题。
  • 一种半导体结构制备方法应用
  • [发明专利]图形化氮化铝复合衬底、深紫外LED外延结构及制备方法-CN202110002544.1有效
  • 齐胜利;郭丽彬;刘亚柱 - 宁波安芯美半导体有限公司
  • 2021-01-04 - 2022-03-08 - H01L33/12
  • 本发明涉及半导体器件技术领域,具体涉及一种图形化氮化铝复合衬底、由该复合衬底制备的深紫外LED外延结构及该深紫外LED外延结构的制备方法。所述图形化氮化铝复合衬底由蓝宝石衬底、图形化氮化铝层组成,且图形化氮化铝层为表面压印有孔型图案的氮化铝层;所述深紫外LED外延结构结构从下到上依次由图形化氮化铝复合衬底、外延氮化铝层、n型AlGaN接触层、AlxGa1‑xN/AlyGa1‑yN多量子阱有源层、p型AlGaN层和p型GaN外延层。本发明通过匹配溅射氮化铝退火温度和纳米压印图形周期尺寸可以控制复合衬底上外延氮化铝的应力状态,制备几乎无应力的氮化铝薄膜,在此基础上的深紫外LED裂纹面积小、晶体质量高,因此良率高、光电性能优越。
  • 图形氮化复合衬底深紫led外延结构制备方法
  • [实用新型]一种翻板式沉降观测点保护工具-CN202121348723.2有效
  • 孙健;齐胜利;袁帅;董晋峰 - 山西建筑工程集团有限公司
  • 2021-06-17 - 2022-02-11 - G01C5/00
  • 本实用新型属于建筑沉降测量技术领域,具体为一种翻板式沉降观测点保护工具;采用的技术方案为:包括沉降观测点、固定组件和通过固定组件设置于墙体上的维护组件,所述维护组件用于保护沉降观测点;所述维护组件包括支撑杆、支架和转轴,所述支架设置于支撑杆的一侧,所述支撑杆上设置有外螺纹,所述支撑杆与支架为一体式,所述支架内设置有遮板,所述遮板通过转轴设置于支架上,所述支架的两侧均设置有保护板;本实用新型有效的解决了沉降观测点被人为碰撞、变形和损坏的问题。
  • 一种板式沉降观测保护工具

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