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[发明专利]一种红外光学系统的消色差方法及其红外光学系统-CN202310423134.3在审
发明人：吴立军;魏亚壮;吴欣恩;陈浩瀚;刘佳鑫;赫明磊;王浩;王昀炜;黄杨;詹逸瑜;李强 -专利权人：华南师范大学
申请日： 2023-04-19 - 公布日： 2023-08-08 - 主分类号： G02B13/14 文献下载
摘要：本发明涉及一种红外光学系统的消色差方法及其红外光学系统。本发明所述消色差方法，其中，红外光学系统包括从物方至像方依次设置的一折射透镜和一超构透镜，所述方法包括如下步骤：获取在纳米原子的尺寸变化范围内的所述纳米原子的相位分布和光透过率分布；确定超构透镜的二元面型的相位轮廓曲线，进而获取超构透镜的纳米原子的设置参数，并且在获取所述超构透镜的纳米原子的设置参数后，进行FDTD仿真实验，获取红外光学系统的聚焦效率，并利用该聚焦效率对红外光学系统进行参数的优化以提高红外光学系统的消色差效果。本发明所述的红外光学系统的消色差方法，其聚焦效率提高、成像质量好，能够实现8‑12um波段的良好聚焦成像。
一种红外光学系统色差方法及其

[发明专利]一种轻型混合式超构红外镜头及其设计方法-CN202210646912.0有效
发明人：吴立军;魏亚壮;吴欣恩;陈浩瀚;吴杰鹏;刘佳鑫;陈俪赟;赫明磊;王浩;朱彦霖;李强 -专利权人：华南师范大学
申请日： 2022-06-08 - 公布日： 2023-08-01 - 主分类号： G02B13/14 文献下载
摘要：本发明公开了一种轻型混合式超构红外镜头及其设计方法，该方法包括如下步骤：选择球面镜作为轻型混合式超构红外镜头的第一透镜，选择超构表面作为轻型混合式超构红外镜头的第二透镜；超构表面包括三种具有C4对称性的纳米柱，三种具有C4对称性的纳米柱作为三种超构原子，三种超构原子包括圆环柱型超构原子、圆柱型超构原子和方柱型超构原子；确定三种超构原子的相位突变与透过率信息和第二透镜的相位轮廓，基于相位轮廓以及透过率要求对三种不同尺寸的超构原子进行匹配得到超构表面的结构放置信息；将若干三种超构原子阵列按结构放置信息放置于基底上，与第一透镜组合形成轻型混合式超构红外镜头。最终实现成像系统重量显著降低。
一种轻型混合式红外镜头及其设计方法

[发明专利]利用正负可调光刻胶特性一步制备微纳结构的系统及方法-CN202210868589.1在审
发明人：吴立军;王浩;朱彦霖;李强;陈俪赟;魏亚壮;刘佳鑫;陈浩瀚;黄巍巍 -专利权人：华南师范大学
申请日： 2022-07-22 - 公布日： 2022-11-18 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种利用正负可调光刻胶特性一步制备微纳结构的系统及方法，该系统包括沿光路设置的连续激光器、扩束系统、衰减片、半波片、光快门、分光装置、油浸物镜和正负性可调光刻胶样品；还包括三维高精度纳米定位平移台、透镜、CCD相机和计算机；分光装置将入射到正负性可调光刻胶样品表面的激光一部分反射到分光装置上进而照射到第三透镜上；油浸物镜将激光束聚焦在样品上，一步制备多种形状的微纳结构，然后采用显影液进行显影或采用除胶液进行除胶。本发明通过简单地用连续激光直写来制造一种正性和负性共存的新型聚合物结构，可以一步完成多种聚合物微纳结构的制备，有助于低成本设计亚微米级复杂图案，具有良好的发展前景。
利用正负可调光刻特性一步制备结构系统方法

[发明专利]一种基于激光直写一步制备双环形结构的系统及方法-CN202210868958.7在审
发明人：吴立军;朱彦霖;王浩;李强;陈俪赟;魏亚壮;刘佳鑫;陈浩瀚;黄巍巍 -专利权人：华南师范大学
申请日： 2022-07-22 - 公布日： 2022-11-18 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于激光直写一步制备双环形结构的系统及方法，该系统包括沿光路设置的连续激光器、扩束系统、衰减片、半波片、光快门、分光装置、油浸物镜和正负性可调光刻胶样品；还包括三维高精度纳米定位平移台、透镜、CCD相机和计算机；分光装置将入射进来的连续波激光束经油浸物镜聚焦到正负性可调光刻胶样品表面，入射到样品表面的激光一部分反射到分光装置上进而照射到第三透镜上；油浸物镜将激光束聚焦在样品上，一步制备双环形结构。本发明能够通过在较低成本的同时通过单次加工一步得到双环形结构，而不是通过两次或更多次的繁琐步骤获得；还可以通过改变功率密度以及直写时间来灵活地改变所需双环形结构的内外径。
一种基于激光一步制备环形结构系统方法

[发明专利]一种提高激光图案化加工均匀性的方法及系统-CN202210871721.4在审
发明人：吴立军;王浩;陈俪赟;朱彦霖;魏亚壮;刘佳鑫;李强 -专利权人：华南师范大学
申请日： 2022-07-22 - 公布日： 2022-11-11 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种提高激光图案化加工均匀性的方法及系统，该包括如下步骤：采用物镜将不敏感的波段激光聚焦在光刻胶样品上，使散斑噪声对应区域因低于光刻胶于曝光阈值而难以出现在目标图案周围，使用多张拥有不同散斑噪声的相位图对样品表面进行连续曝光，将散斑噪声进一步平均化从而达到抑制噪声的效果。本发明采用光刻胶不敏感的波段激光进行加工，结合多相位图连续曝光的方法，使散斑噪声对应区域因低于光刻胶于曝光阈值而难以出现在目标图案周围的同时，进一步通过多相位图连续曝光平均化从而达到抑制噪声的效果。该方法适用于各种图形光场并且可以有效抑制散斑噪声带来的边缘毛刺现象实现高质量的图形结构曝光。
一种提高激光图案加工均匀方法系统