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[发明专利]多孔质二氧化硅颗粒的制造方法、防反射膜用树脂组合物、具有防反射膜的物品以及防反射薄膜-CN201280006154.0无效
发明人：所宽树;山科洋三;高野圣史;下垣知代;田渊穰;出口朋枝 -专利权人： DIC株式会社
申请日： 2012-01-19 - 公布日： 2013-09-25 - 主分类号： C01B33/18 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种粒径小、而且在制造中相对于反应溶液的容量的产量高的多孔质二氧化硅颗粒的制造方法，为了达成该目的，提供了一种在表面具有细孔的多孔质二氧化硅颗粒的制造方法，其特征在于，其包括如下工序：在含有氨、醇以及水的混合溶液（B液）中加入含有四烷氧基硅烷、烷基胺以及醇的混合溶液（A液），进行四烷氧基硅烷的水解和缩合反应，从而得到二氧化硅颗粒的工序；和从该二氧化硅颗粒去除烷基胺的工序。
多孔二氧化硅颗粒制造方法反射树脂组合具有物品以及薄膜

[发明专利]有机半导体墨组合物和使用其的有机半导体图案形成方法-CN201080014970.7无效
发明人：高武正义;笠井正纪;米原祥友;高野圣史;所宽树 -专利权人： DIC株式会社
申请日： 2010-03-30 - 公布日： 2012-03-14 - 主分类号： C09D11/00 文献下载
摘要：本发明提供一种最适合于微接触印刷法、反转印刷法等使用防液性的转印用基版来转印图案从而形成有机晶体管的方法的墨，即，提供一种能够在防液性的转印用基版表面形成均匀的墨涂膜、且墨干燥膜或半干燥膜能够容易通过转印基版而转印到被转印基材上的有机半导体墨组合物。此外，提供使用了上述有机半导体墨组合物的有机晶体管的有机半导体图案的形成方法。本发明涉及一种有机半导体墨组合物，其特征在于，其为用于将在防液性的转印用基版上形成的墨层转印到印刷基材上从而得到所期望的图案的有机半导体墨组合物，其含有有机半导体、有机溶剂和氟系表面活性剂。
有机半导体组合使用图案形成方法

[发明专利]含氟自由基聚合性共聚物及其制造方法、使用了该共聚物的活性能量射线固化型树脂组合物-CN201010104738.4有效
发明人：铃木秀也;甲斐英知;小池展行;笹本茜;冈康孝;高野圣史;松枝宏尚 -专利权人： DIC株式会社
申请日： 2010-01-28 - 公布日： 2010-08-04 - 主分类号： C08G18/63 文献下载
摘要：本发明提供含氟自由基聚合性共聚物，其特征在于，如下得到：使具有碳原子数1～6的氟代烷基(所述烷基也包括具有基于氧原子的醚键的氟代烷基)的自由基聚合性不饱和单体(a1)与具有反应性基的自由基聚合性不饱和单体(a2)作为必须的单体成分而进行共聚合来得到共聚物(A)，使具有可与所述反应性基反应而形成键的官能团及自由基聚合性不饱和基的化合物(B)，对应于所述共聚物(A)所具有的反应性基的一部分或全部来与共聚物(A)进行反应而得到；并且，所述含氟自由基聚合性共聚物的重均分子量(Mw)与数均分子量(Mn)的比即分散度(Mw/Mn)为1.5以下。该含氟自由基聚合性共聚物可用作发挥高防水性和高防油性的表面改性剂。
自由基聚合共聚物及其制造方法使用活性能量射线固化树脂组合

[发明专利]含氟酚醛清漆型树脂、氟系表面活性剂、氟系表面活性剂组合物以及树脂组合物-CN200880005668.8有效
发明人：铃木秀也;笹本慎;高野圣史 -专利权人： DIC株式会社
申请日： 2008-05-21 - 公布日： 2010-01-20 - 主分类号： C08G8/28 文献下载
摘要：本发明涉及用下述通式(I)表示的含氟酚醛清漆型树脂、使用该树脂的氟系表面活性剂以及树脂组合物。添加有所述含氟酚醛清漆型树脂等的材料，在加工工序中或者作为加工后的制品使用时，即使暴露于加热、加湿、酸或碱等化学试剂的环境中，也可以适宜地发挥流平性、润湿性、浸透性、防污性等(式中，R表示含有氟化烷基的取代基，R’表示氢原子或甲基，R”表示氢原子或者非氟化取代基，-X-表示上述4种连接基中的任一种，-X’表示上述3种取代基中的任一种。另外，n表示0或1以上的整数，m表示1以上的整数。其中，n+m为2以上的整数)。
酚醛清漆树脂表面活性剂组合以及

[发明专利]光致抗蚀剂组合物、其涂布方法及抗蚀剂图形的形成方法-CN200710153550.7有效
发明人：池本准;岛仓纯一;高野圣史;松尾二郎 -专利权人： AZ电子材料（日本）株式会社;大日本油墨化学工业株式会社
申请日： 2007-09-21 - 公布日： 2008-04-02 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供涂布时不形成条斑等的LCD－TFT基板制造用排出喷嘴式涂布法光致抗蚀剂组合物、光致抗蚀剂组合物的涂布方法及抗蚀剂图形的形成方法。排出喷嘴式涂布法光致抗蚀剂组合物含有：(A)碱可溶性树脂、(B)感光剂、以及(C)由含以通式(1)：CH₂＝CR¹COOCH₂CH₂C₈F₁₇(式中，R¹是氢原子或者甲基)表示的氟代烷基单体(m1)和含以通式(2)：CH₂＝CR²COO(C₃H₆O)nH(式中，R²是氢原子或者甲基，n作为分布的平均值是4～7)表示的聚氧丙烯单体(m2)构成的单体混合物(m)进行聚合而得到的共聚物(P)，上述单体混合物(m)中的上述单体(m1)和(m2)的混合比(m1)/(m2)是25/75～40/60(重量比)，而且上述共聚物(P)的重均分子量是3000～10000的氟系表面活性剂。
光致抗蚀剂组合方法抗蚀剂图形形成

[发明专利]防反射涂层用组合物及使用该组合物的图案形成方法-CN200580021579.9无效
发明人：松尾二郎;高野圣史;高野祐辅;秋山靖 -专利权人：大日本油墨化学工业株式会社;日本AZ电子材料株式会社
申请日： 2005-06-29 - 公布日： 2007-09-05 - 主分类号： G03F7/11 文献下载
摘要：本发明提供一种维持作为防反射膜的性能并具有特别优异的涂布特性的防反射涂层用组合物以及使用该组合物的图案形成方法。一种防反射涂层用组合物，其至少含有下述(A)、(B)、(C)、(D)和(E)成分：(A)下述通式(1)所示的全氟烷基·亚烷基磺酸；C_nF_2n+1(CH₂CH₂)_mSO₃H(1)(式中，n表示1～20的整数、m表示0～20的整数)(B)有机胺；(C)水溶性聚合物；(D)下述通式(2)所示的含有全氟烷基乙基的化合物；C_kF_2k+1CH₂CH₂－X－Y(2)(式中，k表示1～20的整数、X表示单键或2价的连接基团、Y表示阴离子性基团或非离子性基团。其中，该化合物具有与上述(A)成分不同的结构)(E)水。
反射涂层组合使用图案形成方法

[发明专利]涂覆用树脂组合物-CN200580001586.2有效
发明人：铃木秀也;高野圣史 -专利权人：大日本油墨化学工业株式会社
申请日： 2005-02-23 - 公布日： 2007-01-31 - 主分类号： C09D127/12 文献下载
摘要：一种涂覆用树脂组合物，其特征在于，该组合物含有：由含氟代烷基的乙烯类聚合物(A)组成的氟类表面活性剂，所述含氟代烷基的乙烯类聚合物(A)具有氟代烷基(a1)、芳香环(a2)和酸性基团(a3)；以及具有芳香环(b1)和酸性基团(b2)的粘合剂树脂(B)。
涂覆用树脂组合

[发明专利]含氟光固化性组合物-CN200480034075.6有效
发明人：太田黑庸行;木下宏司;高野圣史;山口博文 -专利权人：大日本油墨化学工业株式会社
申请日： 2004-11-18 - 公布日： 2006-12-20 - 主分类号： C08F20/24 文献下载
摘要：提供了一种包含含氟化烷基的(甲基)丙烯酸酯和光聚合引发剂、且可以用作光学材料等的含氟光固化性组合物。该丙烯酸酯具有下述通式(1)所表示的基团和2个或更多个(甲基)丙烯酰基，且氟原子含有率为25重量％或以上，分子量为500～4000。(1)[R为氢原子或者碳原子数为1～4的烷基，X为可具有杂原子的亚烷基、或者下述通式(2)所表示的基团，Rf为氟化烷基]。(2){Y为氧原子或硫原子，m和n为1～4的整数，Rf¹为氟化烷基}。
光固化组合

[发明专利]抗反射涂层组合物-CN99800881.8无效
发明人：高野祐辅;田中初幸;高野圣史;桥本丰 -专利权人：克拉瑞特国际有限公司;大日本油墨化学工业株式会社
申请日： 1999-05-27 - 公布日： 2000-11-08 - 主分类号： C09D5/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种减少反射涂层组合物,其包含(A)由通式CnF2n+1SO3H表示的全氟烷基磺酸,其中,n为整数4～8,(B)有机胺,(C)水溶性聚合物,(D)由通式CnF2n+1SO2NH2表示的全氟烷基磺酰胺,其中,n为整数1～8和(E)水,组合物的pH值为1.3～3.3。通过在基片上形成的光致抗蚀剂膜上涂敷所述组合物而获得抗蚀剂图案以形成减少反射的涂层,然后进行曝光和显影。这种用于减少反射涂层的组合物可均匀涂敷于光致抗蚀剂膜上,而与抗蚀剂的类型及基片的表面形状无关,可采用该组合物以提供不存在曝光后随时间变化而引起的驻波影响、多重反射作用和T型图案及尺寸变化等缺陷的抗蚀剂图案。
反射涂层组合

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