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专利名称

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申请人
公布日期

农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]组装设备及其控制方法-CN201680070671.2有效
发明人：小堀雄司;利根川诚;高柳秀树 -专利权人：索尼公司
申请日： 2016-11-29 - 公布日： 2021-02-02 - 主分类号： B23P21/00 文献下载
摘要：根据本技术的实施方式的组装设备包括工作基座、第一机器人、第二机器人和控制器。工作基座具有放置表面，在所述放置表面上放置有多个工件，并使多个工件各自每隔一定时间循环到沿着圆周设置的多个工作区域。第一机器人设置在圆周内侧并且能够访问多个工作区域。第二机器人设置在圆周的外侧并且能够访问多个工作区域中的至少一个工作区域。控制器使第一机器人在所述一定时间内对于在所述多个工作区域中的多个预定工作区域上的每个工件执行预定处理，并且使第二机器人执行辅助第一机器人对于在所述多个预定工作区域中的至少一个工作区域上的工件的处理的操作。
组装设备及其控制方法

[发明专利]用于将液体从基板保持件的密封件除去的方法-CN201911293312.5在审
发明人：关正也;高柳秀树;铃木洁;佐竹正行;藤方淳平 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2019-12-16 - 公布日： 2020-06-30 - 主分类号： C25D17/06 文献下载
摘要：本发明提供一种通过将液体从基板保持件的密封件除去，从而能够防止液体与电触点的接触的方法。在本方法中，在使基板保持件(24)的密封件(48)以及电触点(50)与基板W接触的状态下，使基板W浸渍于镀覆液，在存在镀覆液的情况下，在基板W与阳极(26)之间施加电压对基板W进行镀覆，将被镀覆的基板W从镀覆液中拉起，使密封件(48)与被镀覆的基板W分离，在被镀覆的基板W与密封件(48)之间的间隙G1形成从基板保持件(24)的内部朝向外部的气流。
用于液体保持密封件除去方法

[发明专利]基板支架以及电镀装置-CN201910532201.9在审
发明人：关正也;高柳秀树;铃木洁;佐竹正行;藤方淳平 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2019-06-19 - 公布日： 2019-12-31 - 主分类号： C25D17/08 文献下载
摘要：本发明减少附着于基板支架的电镀液的量。提供一种构成为保持基板的基板支架。该基板支架具有：第一保持部件；第二保持部件，构成为与上述第一保持部件一起夹住上述基板；密封部件，构成为在上述基板支架的内部形成被密封的空间；销，固定于上述第一保持部件和上述第二保持部件中的一方；环，设置于上述第一保持部件和上述第二保持部件中的另一方，与上述销卡合；以及移动机构，构成为使上述环沿周向移动。通过将上述销和上述环相互卡合上述第一保持部件与上述第二保持部件被相互固定。上述销以及上述环设置于上述被密封的空间的内部。
保持部件基板支架基板密封密封部件移动机构周向移动电镀液附着环沿夹住卡合销卡

[发明专利]基片抛光机-CN02813831.7无效
发明人：户川哲二;野路郁太郎;并木计介;安田穗积;儿岛俊市朗;樱井邦彦;高田畅行;锅谷治;福岛诚;高柳秀树 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2002-07-10 - 公布日： 2004-09-01 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：一种基片抛光机，该抛光机包括：抛光表面；基片托架，其保持基片并使其与抛光表面接触。基片托架包括：托架体；基片保持元件，其保持基片，使基片的被抛光表面直接朝向抛光表面。基片保持元件在托架体上的安装方式，使基片保持元件既可以趋向抛光表面运动也可以远离抛光表面运动。基片抛光机还包括基片保持元件定位装置，该装置设置在基片保持元件的侧面，该侧面与基片保持元件保持基片的侧面相反。基片保持元件定位装置具有一种柔性元件，此元件限定了一种室，此室一经引入不可压缩流体，便朝向抛光表面方向扩展。
抛光机

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