专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种高纯α-Si3-CN201811399979.9有效
  • 李斌;陈俊红;冯玉岩;李广奇;沈周洲;门佳瑶;李经纬;张志教 - 北京科技大学
  • 2018-11-22 - 2021-01-26 - C04B35/584
  • 一种高纯α‑Si3N4纳米粉体的制备方法,属于纳米材料领域。将含SiO2的原料磨细后加入盛有HNO3、CO(NH2)2、C6H12O6·H2O溶液的容器中,使Si:C摩尔比为2~4。将容器置于马弗炉中,加热到250~450℃,并保温15~45分钟,得到前驱体。将前驱体碾碎,置于刚玉坩埚中,放入气氛炉内,以600~2000ml/min的气体流量通入氮气,以3~5℃/min的升温速率升温至1450~1600℃保温0.5~3小时,再自然冷却。将烧结后的样品置于马弗炉中,在500~700℃空气气氛下保温1~4小时,得到高纯α‑Si3N4纳米粉体。所制备的α‑Si3N4纳米粉体纯度高、粒度均匀,未检测到β‑Si3N4相及其他杂相,其晶粒呈絮状、片状等,氧含量约为1.93at%,粒度为50nm~700nm,比表面积约为4.8m2/g。该方法成本低、产品纯度高、工艺简单,适合工业化生产。
  • 一种高纯sibasesub
  • [发明专利]一种高纯一维SiC纳米材料的制备方法-CN201811330531.1有效
  • 沈周洲;陈俊红;李斌;李广奇;门佳瑶;李经纬;张志教 - 北京科技大学
  • 2018-11-09 - 2020-07-31 - C01B32/97
  • 一种高纯的一维SiC纳米材料的制备方法。属于无机非金属材料领域。制备方法包括原料处理、原料混合、碳热还原和杂质处理四个步骤。其中碳热还原过程,在惰性气体保护下是将混好的原料于1500~1600℃烧结并保温4~6小时,再迅速降温至1250~1350℃保温2~4小时,随炉冷却得到白色棉花状样品。杂质处理是将得到的样品放入马弗炉内,空气气氛下升温至500~700℃保温2~4小时,得到浅绿色棉花状的高纯一维SiC纳米材料。本发明制备出的一维SiC纳米材料具有形貌均一、纯度高、长径比大、尺寸可控等结构优点;具有高强度、耐腐蚀、耐高温、出色的光致发光性能、吸波性能和介电性能等性能优势;且制备工艺简单、成本低、成品率高,可用于工业化生产。
  • 一种纯一sic纳米材料制备方法

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