专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]对准模块及包括此的基板处理系统-CN202010885072.4在审
  • 刘成真;金娧永;金颍俊 - 圆益IPS股份有限公司
  • 2020-08-28 - 2021-03-05 - H01L21/68
  • 本发明涉及基板处理,更详细地说,涉及用于对准成为基板处理对象的基板的对准模块及包括此的基板处理系统。本发明公开了一种对准模块(100),选择性对准从外部导入的直角四边形形状的单张基板(11)或者将所述单张基板(11)分为2张的2张分割基板(12),包括:对准腔室(110),形成密封的内部空间;基板支撑部(120),设置在所述对准腔室(110)内,以支撑所述单张基板(11)或者所述2张分割基板(12);对准部,向所述对准腔室(110)内导入所述单张基板(11)时,对准所述单张基板(11),在向所述对准腔室(110)内导入所述2张分割基板(12)时,对准所述2张分割基板(12)。
  • 对准模块包括处理系统
  • [发明专利]真空处理装置-CN200910178136.0有效
  • 曺生贤;金娧永 - IPS株式会社
  • 2009-10-09 - 2011-04-27 - H01L21/00
  • 公开了一种真空处理装置,其能够实现关于例如用于液晶显示器(LCD)面板的玻璃基片的基片的真空处理(例如蚀刻处理和沉积处理)。该真空处理装置包括具有处理空间的真空室;具有矩形形状,且安装于该真空室内的基片支承单元,用于支承基片;安装于该基片支承单元的上表面上的静电吸盘;以及至少一个用于覆盖该静电吸盘的边缘的防护元件,其中,由该静电吸盘和防护元件组成的基片支承表面的顶点通过支承表面延伸单元向该真空室的内壁延伸。因此,可以防止发生于基片的顶点的边缘效应,从而提高基片上的蚀刻率或沉积率的一致性。
  • 真空处理装置

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