专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]溶液制备氧化物界面电子气的方法-CN201810570321.3有效
  • 金克新;李铭 - 西北工业大学
  • 2018-06-05 - 2020-09-08 - H01L21/34
  • 本发明公开了一种溶液制备氧化物界面电子气的方法,用于解决现有方法制备氧化物界面电子气质量差的技术问题。技术方案是首先对单晶衬底进行预处理,再配置氧化物前驱体溶液,进而通过化学旋涂和高真空退火工艺的控制,形成氧化物与钛酸锶衬底的异质结构,并在界面产生二维电子气效应。通过调节薄膜材料结构、结晶度以及薄膜与衬底间界面性质,实现了高电子迁移率的二维电子气的制备。所制备的氧化物界面电子气质量高,其霍尔迁移率在190cm2V‑1s‑1~5113cm2V‑1s‑1范围内。本发明采用溶液旋涂方法制备氧化物界面电子气,具有质量高、耗能低、操作简单的特点。
  • 溶液制备氧化物界面电子方法
  • [发明专利]锰氧化物异质薄膜及其制备方法-CN200610041607.X无效
  • 金克新;陈长乐;赵省贵 - 西北工业大学
  • 2006-01-06 - 2006-08-23 - H01L43/08
  • 本发明公开了一种锰氧化物异质薄膜,包括硅单晶基片、铁薄膜和银电极,其特征在于:还包括La0.7Sr0.3MnO3薄膜,在边长为1~2mm硅单晶基片对称线位置是一层宽为0.8~1mm、长与硅单晶基片边长相等的铁薄膜,铁薄膜长边上的对称线与硅单晶基片对称线重合,在铁薄膜上面中心位置是0.5~1×0.5~1mm、厚度为30~50nm的La0.7Sr0.3MnO3薄膜,在La0.7Sr0.3MnO3薄膜上面是一层与底层铁薄膜位置垂直、大小薄厚相同的铁薄膜,在两层铁薄膜的两端是银电极。还公开了上述锰氧化物异质薄膜的制备方法,采用磁控溅射方法在硅单晶基片上依次溅射铁薄膜/La0.7Sr0.3MnO3薄膜/铁薄膜,使La0.7Sr0.3MnO3薄膜处于铁薄膜之间,利用隧道磁电阻的形式,使磁场灵敏度达到60%/T。
  • 氧化物薄膜及其制备方法
  • [发明专利]钙钛矿锰氧化物异质薄膜及其制备方法-CN200510043069.3无效
  • 金克新;陈长乐;赵省贵 - 西北工业大学
  • 2005-08-08 - 2006-03-29 - H01L31/00
  • 本发明公开了一种钙钛矿锰氧化物异质薄膜,包括硅单晶基片(1)、LSMO薄膜(2)、银电极(3)和Fe薄膜(4),在硅单晶基片(1)是一层Fe薄膜(4),在Fe薄膜(4)的上面与Fe薄膜(4)垂直是LSMO薄膜(2),LSMO薄膜(2)的两端是银电极(3),电极(3)上有引出线;Fe薄膜(4)的长度大于LSMO薄膜(2)的宽度,Fe薄膜(4)的宽度为LSMO薄膜(2)的一半,Fe薄膜(4)的面积大于LSMO薄膜(2)的面积。还公开了上述锰氧化物异质薄膜的制备方法,采用磁控溅射方法在硅单晶基片上依次沉积Fe和LSMO薄膜。本发明利用铁薄膜的强氧化性,使LSMO薄膜处于高度氧缺陷状态,从而使光电导改变值从400%上升为1660%;另外,用Si作基片制备的LSMO异质薄膜,造价低廉。
  • 钙钛矿锰氧化物薄膜及其制备方法
  • [发明专利]用于薄膜制备的加热控温装置及方法-CN03134334.1无效
  • 陈长乐;金克新 - 西北工业大学
  • 2003-06-27 - 2004-02-04 - C23C14/24
  • 本发明公开了一种用于薄膜制备的加热控温装置及方法。加热控温装置包括加热控制电路和石墨加热体(1)。石墨加热体(1)为扁平立方体块状石墨,其横断面等距离分布着若干个有若干个通孔的陶瓷管(2),每两个孔可穿绕一根电阻丝(3)。加热控温装置的方法是根据所要制备薄膜的大小选择适当的基体—石墨加热体(1),按照要求固定好陶瓷管(2),按照设计温度要求穿入电阻丝(3);将电阻丝(3)并联后接入加热电路,使电阻丝(3)一端接低电压大电流供端的负极,电阻丝(3)的另一端通过负载电阻(4)以及继电器(6)的常闭端触点接低电压大电流供端的正极;电路工作就可达到测温、控温目的,可使基体上温度分布均匀,提高薄膜的质量。
  • 用于薄膜制备加热装置方法

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