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- [实用新型]一种靶材底柱与底柱接头-CN201320090934.X有效
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郎文昌
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温州职业技术学院
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2013-02-28
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2013-07-17
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C23C14/34
- 本实用新型涉及表面防护涂层制备领域，具体地说是一种用于离子镀枪的靶材底柱与底柱接头。靶材底柱的外侧设置靶材底柱绝缘套，靶材底柱的内侧设置永磁体或导磁环和冷却水进水管道，永磁体或导磁环设置于冷却水进水管道的外侧；靶材底柱的一端与冷却水通道底座连接，冷却水进水管道伸至冷却水通道底座中，与冷却水通道底座的进水口相通，冷却水通道底座与靶材底柱之间的通道与出水口相通；靶材底柱的另一端与靶材底柱连接管连接。本实用新型结构简易紧凑有效，可自由设置冷却水套的长度，自由调节靶材在真空室内的位置，操作简便、靶材更换容易、位置可调性好、便于整机设计及满足工业生产对真空室内等离子体分布的各种需求。
- 一种靶材底柱接头
- [实用新型]一种简易可调节的多用途多结构适应型离子镀枪装置-CN201220574489.X有效
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郎文昌
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温州职业技术学院
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2012-11-02
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2013-05-22
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C23C14/32
- 本实用新型涉及表面防护涂层制备领域，具体地说是一种简易可调节的多用途多结构适应型离子镀枪装置。本实用新型靶材安装在靶材底座上，通过靶材底座冷却铜板间接冷却；靶材底座内部通过冷却通道隔板形成上下冷却水通道；靶材底座安装在细长型的靶材底柱上，电磁线圈围套在靶材底座后的靶材底柱周围；靶材底柱底部安装冷却水通道底座，与冷却水管相连接；电源接头端子安装在靶材底柱上；离子镀枪底盘通过绝缘套与靶材底柱安装，离子镀枪装置通过离子镀枪底盘的安装孔与真空室连接安装。本实用新型用以改善传统电弧离子镀弧源结构复杂、适应性差、功能单一、难以实现特殊镀膜需求、操作复杂、靶材更换难度大、位置可调性差、等离子体空缺区域大的缺点。
- 一种简易调节多用途结构适应离子镀装置
- [发明专利]一种结构紧凑的特种多功能离子镀枪-CN201210430934.X有效
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郎文昌
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温州职业技术学院
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2012-11-02
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2013-03-06
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C23C14/32
- 本发明涉及表面防护涂层制备领域，具体地说是一种结构紧凑的特种多功能离子镀枪。本发明靶材安装在靶材底座上，通过靶材底座冷却铜板间接冷却；靶材底座内部通过冷却通道隔板形成上下冷却水通道；靶材底座安装在细长型的靶材底柱上，电磁线圈围套在靶材底座后的靶材底柱周围；靶材底柱底部安装冷却水通道底座，与冷却水管相连接；电源接头端子安装在靶材底柱上；离子镀枪底盘通过绝缘套与靶材底柱安装，离子镀枪装置通过离子镀枪底盘的安装孔与真空室连接安装。本发明用以改善传统电弧离子镀弧源结构复杂、适应性差、功能单一、难以实现特殊镀膜需求、操作复杂、靶材更换难度大、位置可调性差、等离子体空缺区域大的缺点。
- 一种结构紧凑特种多功能离子镀
- [发明专利]一种紧凑高效的准扩散弧冷阴极弧源-CN201210444314.1有效
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郎文昌
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温州职业技术学院
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2012-11-08
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2013-02-20
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C23C14/32
- 本发明涉及薄膜与涂层制备技术领域，具体为一种紧凑高效的准扩散弧冷阴极弧源。准扩散弧冷阴极弧源由弧源头与控制磁场组组成，弧源头包括靶材、靶材底座、靶材底座屏蔽罩、靶材底盘、引弧装置和永久磁体装置，控制磁场组包括法兰套、法兰套绝缘套、二极径向旋转磁场发生装置、轴向聚焦导引磁场发生装置、同轴聚焦磁场磁轭和法兰套屏蔽罩，弧源头通过靶材底盘与法兰套底部进行连接，形成整体弧源结构，通过法兰套前部的法兰盘与炉体进行连接。在一定磁场强度和旋转频率综合作用下，使得弧斑在整个靶面分布，降低弧斑的功率密度，实现准扩散弧状态，减少大颗粒的发射，同时通过轴向聚焦导引磁场，将净化的高密度等离子体抽出，提高其传输效率。
- 一种紧凑高效扩散阴极
- [发明专利]一种多层薄膜的沉积方法-CN201010191763.0有效
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赵彦辉;肖金泉;郎文昌;于宝海;华伟刚;高立军
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中国科学院金属研究所
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2010-06-04
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2011-06-15
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C23C14/54
- 本发明属于金属材料表面沉积超硬多层涂层技术领域，具体为一种钛/氮化钛多层薄膜的沉积方法，解决了普通电弧离子镀沉积多层薄膜时单元层厚度波动较大的问题。该方法包括如下步骤：(1)通过交替通入气体，精确控制气体流量和时间；(2)采用电弧离子镀技术在工件表面沉积金属/金属氮化物多层薄膜。采用气体质量流量控制器实现多路气体氩气和氮气的交替通入，且实现气体流量和气体交替通入时间的精确控制，设定气体流量值及对应的沉积时间，可实现60层多层薄膜的沉积。本发明所涉及的气体流量交替控制技术可以保证多层涂层的单元层厚度和质量得到有效控制，大大提高了多层薄膜单元层厚度的控制精度，可以有效改善多层薄膜的性能。
- 一种多层薄膜沉积方法
- [实用新型]一种多层薄膜的沉积装置-CN201020215457.1无效
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赵彦辉;肖金泉;郎文昌;于宝海;华伟刚
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中国科学院金属研究所
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2010-06-04
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2011-01-19
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C23C14/54
- 本实用新型属于金属材料表面沉积超硬多层涂层技术领域，具体为一种钛/氮化钛多层薄膜的沉积装置。它是在同一个真空室中，通过交替通入不同气体，开启电弧蒸发源沉积超硬多层薄膜，可以实现多层薄膜厚度的精确控制。在该沉积装置通入氩气和氮气的管路上接有气体质量流量控制器、时间继电器和气体质量流量显示仪，气体质量流量控制器连接时间继电器，时间继电器连接气体质量流量显示仪。本实用新型解决了电弧离子镀沉积多层薄膜时采用手动控制气体流量而导致的多层中各单元层厚度不均匀的问题，采用气体质量流量控制器来实现氩气、氮气等多路气体的交替通入，从而保证单元层厚度的精确控制，以使沉积的超硬多层薄膜达到提高硬度和耐磨性的要求。
- 一种多层薄膜沉积装置
- [发明专利]旋转磁控电弧离子镀弧源-CN200810010719.8无效
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闻立时;郎文昌;孙超;宫骏;赵彦辉;肖金泉
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中国科学院金属研究所
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2008-03-21
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2009-02-11
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C23C14/32
- 本发明涉及薄膜制备领域，具体地说是一种利用旋转磁场控制弧斑运动的旋转磁控电弧离子镀弧源。在靶材周围空间设有旋转磁场发生装置，旋转磁场发生装置为采用相差一定均匀角度、相互连接在一起的几个磁极均匀布在同一圆周上，磁极数量为4n或者3n，n≥1，形成一个整体的电磁回路骨架，励磁线圈套在磁极上或者嵌在相邻磁极之间的槽隙内，采用相位差90°的两相或者相位差120°的三相励磁顺序供电，在磁极包围的空间内产生可调旋转磁场。本发明通过可调速调幅的旋转磁场控制弧斑的运动，可以改善弧斑的放电形式和工作稳定性，提高靶材刻蚀均匀性和靶材利用率，减少靶材大颗粒的发射，用以制备高质量的薄膜以及功能薄膜，拓展电弧离子镀的应用范围。
- 旋转电弧离子镀
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