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[实用新型]晶圆支撑装置-CN201621085830.X有效
发明人：王国栋;许振杰;王同庆;李昆;路新春 -专利权人：天津华海清科机电科技有限公司;清华大学
申请日： 2016-09-27 - 公布日： 2017-11-24 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种晶圆支撑装置，晶圆支撑装置包括基板；柔性组件，所述柔性组件为多个且连接在所述基板上；晶圆支撑件，所述晶圆支撑件连接在多个所述柔性组件上。在机械手取放晶圆时，柔性组件在感受到压力后可以变形，从而可以缓冲机械手传递来的冲击力，这样可以有效避免晶圆碎片，进而可以降低对机械手的要求，以及可以提高晶圆的取放安全性。
支撑装置

[实用新型]化学机械抛光终点检测装置-CN201720391740.1有效
发明人：王军星;郭振宇;沈攀;雷殿波;路新春 -专利权人：天津华海清科机电科技有限公司;清华大学
申请日： 2017-04-14 - 公布日： 2017-11-21 - 主分类号： B24B37/013 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种化学机械抛光终点检测装置，包括装置与化学机械抛光平台配合使用，化学机械抛光平台的抛光盘上设置有窗口，装置包括平面反射镜；搭载平面反射镜的转轴，转轴用于调整平面反射镜的角度；光发射模块，用于发出激光线，激光线经由平面反射镜通过窗口照射到抛光盘上的晶圆表面；光检测模块，用于接收经由窗口接收晶圆的反射光线，以根据反射光线确定化学机械抛光工艺的终点。该实施例的化学机械抛光终点检测装置通过转轴可调节激光线射向化学机械抛光平台的抛光盘上窗口的角度，由此，提高了该装置的可调节性，容错性，可适用于不同厂家的化学机械抛光平台。
化学机械抛光终点检测装置

[发明专利]抛光方法-CN201710439550.7在审
发明人：赵慧佳;路新春;沈攀 -专利权人：天津华海清科机电科技有限公司;清华大学
申请日： 2017-06-12 - 公布日： 2017-11-03 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种抛光方法，所述抛光方法包括将两片待抛光物的待抛光面对向放置并在两个待抛光面之间放入抛光液，使两个待抛光物相对移动进行抛光。根据本发明的抛光方法，通过使两个待抛光物相对移动有利于保证抛光过程的顺利进行，并且可同时抛光两个待抛光物的两个平面，由此，可以提高生产效率，减少耗材使用，降低成本。
抛光方法

[发明专利]航空轴向柱塞液压泵-CN201510084816.1有效
发明人：何永勇;王伟;路新春;雒建斌 -专利权人：清华大学
申请日： 2015-02-16 - 公布日： 2017-10-24 - 主分类号： F04B1/12 文献下载
摘要：本发明公开了一种航空轴向柱塞液压泵。所述航空轴向柱塞液压泵包括斜盘；和滑靴，所述滑靴包括本体，所述本体的第一端面与所述斜盘配合，所述本体的第一端面上设有油室和环形的油槽，所述油室位于所述油槽的内侧，所述油室与所述油槽之间形成密封带，所述油槽的外侧形成辅助支撑带，其中所述本体的第一端面上设有多个凹坑，多个所述凹坑的一部分位于所述密封带上，多个所述凹坑的其余部分位于所述辅助支撑带上。根据本发明实施例的航空轴向柱塞液压泵具有动压效应好、耐压耐磨特性好、使用寿命长等优点。
航空轴向柱塞液压泵及其

[发明专利]一种不积水的抛光头-CN201710606798.8有效
发明人：赵德文;路新春;陈祥玉 -专利权人：清华大学;天津华海清科机电科技有限公司
申请日： 2017-07-24 - 公布日： 2017-10-17 - 主分类号： B24B37/11 文献下载
摘要：本发明公开了一种不积水的抛光头，所述抛光头包括：夹片组件；盖体，盖体可移动地安装在夹片组件上且与夹片组件之间限定出容纳腔；基体，基体可上下移动地安装在夹片组件上且位于容纳腔内，基体与盖体紧密相连；膜片，膜片分别与夹片组件和基体相连，且限定出密闭的腔室。根据本发明实施例的不积水的抛光头，盖体与基体的顶部之间无间隙，防止抛光液进入抛光头内部，这样在夹片组件与基体的相对运动下不会由抛光头内部挤出抛光液，不会影响抛光工艺和抛光效果。
一种积水抛光

[发明专利]抛光设备及其抛光方法-CN201710439072.X在审
发明人：赵慧佳;路新春;沈攀 -专利权人：天津华海清科机电科技有限公司;清华大学
申请日： 2017-06-12 - 公布日： 2017-10-03 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种抛光设备及其抛光方法，所述抛光设备包括上抛光头和下抛光头，所述上抛光头和所述下抛光头相对布置，所述上抛光头和所述下抛光头相对可移动以抛光，所述上抛光头的下表面和所述下抛光头的上表面均具有用于放置待抛光物的待抛光物放置区；用于向待抛光物的待抛光面放入抛光液的抛光液输送装置，所述抛光液输送装置的出口连通所述上抛光头和所述下抛光头之间的空间。根据本发明的抛光设备，通过使上抛光头相对下抛光头移动可以同时抛光两个待抛光面，并且通过抛光液输送装置可以向上抛光头和下抛光头之间的空间输送抛光液，这样有利于提高抛光效率，降低成本。
抛光设备及其方法

[发明专利]化学机械抛光多区压力在线控制算法-CN201610139592.4有效
发明人：李弘恺;田芳馨;吴云龙;林达义;王同庆;李昆;路新春 -专利权人：天津华海清科机电科技有限公司;清华大学
申请日： 2016-03-09 - 公布日： 2017-09-29 - 主分类号： B24B37/005 文献下载
摘要：本发明提出一种化学机械抛光多区压力在线控制算法，包括以下步骤分别获取抛光头的各压力分区的零点偏移量；根据抛光头的各压力分区的零点偏移量，分别对CMP抛光头系统的各路气压传感器的测量值进行修正，并将修正后的测量值作为各路气压传感器的最终输出值；计算各路气压传感器的最终输出值与对应压力分区的预设压力值之间的偏差量；根据偏差量实时计算CMP抛光头系统的相应电气比例阀的控制量；根据控制量对相应电气比例阀的开度进行控制。本发明的控制算法简便有效，方便调节，同时具有较强的适应能力。
化学机械抛光压力在线控制算法

[发明专利]硅衬底片抛光方法和装置-CN201710168988.6在审
发明人：赵慧佳;姜博成;金军;路新春;沈攀 -专利权人：天津华海清科机电科技有限公司;清华大学
申请日： 2017-03-21 - 公布日： 2017-08-11 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本发明提出一种硅衬底片抛光方法和装置，其中，方法包括对硅衬底片进行粗略抛光；对粗略抛光后的硅衬底片进行精细抛光。该方法通过粗略抛光和精细抛光两个工艺步骤对硅衬底片进行抛光，减少了工艺步骤，缩短了加工工艺时间，且抛光后的硅衬底片的表面粗糙度更小。
衬底抛光方法装置

[发明专利]透镜组装置-CN201710305123.X在审
发明人：王军星;郭振宇;雷殿波;冯巨震;路新春;沈攀 -专利权人：天津华海清科机电科技有限公司;清华大学
申请日： 2017-05-03 - 公布日： 2017-08-08 - 主分类号： G02B6/32 文献下载
摘要：本发明公开了一种透镜组装置，包括透镜组装置用于Y型光纤端，透镜组装置包括聚焦镜筒，聚焦镜筒内设置有凸透镜；遮挡镜筒；锁定环，在将遮挡镜筒套在聚焦镜筒上时，通过锁定环固定遮挡镜筒的位置；发散镜筒，发散镜筒内设置有凹透镜；其中，发散镜筒套在聚焦镜筒上，以通过与聚焦镜筒结合提供平行光。该实施例的透镜组装置对Y型光线端的光线进行聚焦处理时，在提供聚焦的同时，提供遮挡杂光的功能，减少杂光产生的光干扰，并且通过聚焦镜筒和发散镜筒的相互结合还可提供平行光或者接近平行光的光线。
透镜组装

[发明专利]化学机械抛光终点检测装置-CN201710245274.0在审
发明人：王军星;郭振宇;沈攀;雷殿波;路新春 -专利权人：天津华海清科机电科技有限公司;清华大学
申请日： 2017-04-14 - 公布日： 2017-07-07 - 主分类号： B24B37/013 文献下载
摘要：本发明公开了一种化学机械抛光终点检测装置，包括装置与化学机械抛光平台配合使用，化学机械抛光平台的抛光盘上设置有窗口，装置包括平面反射镜；搭载平面反射镜的转轴，转轴用于调整平面反射镜的角度；光发射模块，用于发出激光线，激光线经由平面反射镜通过窗口照射到抛光盘上的晶圆表面；光检测模块，用于接收经由窗口接收晶圆的反射光线，以根据反射光线确定化学机械抛光工艺的终点。该实施例的化学机械抛光终点检测装置通过转轴可调节激光线射向化学机械抛光平台的抛光盘上窗口的角度，由此，提高了该装置的可调节性，容错性，可适用于不同厂家的化学机械抛光平台。
化学机械抛光终点检测装置

[发明专利]抛光头-CN201710117233.3在审
发明人：许振杰;郑家旺;路新春;沈攀 -专利权人：天津华海清科机电科技有限公司;清华大学
申请日： 2017-03-01 - 公布日： 2017-06-27 - 主分类号： B24B37/11 文献下载
摘要：本发明提出一种抛光头，该抛光头包括基板、驱动件、上浮动件、下浮动件、传动件，以及吸附件，其中，驱动件包括第一连接端，和第一传动端；上浮动件包括第二连接端和上浮动端，第二连接端与第一连接端同轴心固定相连，上浮动端为凹球面或者凹圆锥面；下浮动件包括下浮动端和第三连接端，下浮动端为凸球面；下浮动端的凸球面与上浮动端的凹球面或者凹圆锥面相适配，且可拆卸地相连，且上浮动件与下浮动件之间进行浮动的转动中心不高于工件的抛光表面。通过本发明能够减小接触点变形，减少工件与抛光盘间的偏摆，弥补抛光头与抛光盘之间的平行度误差，使工件贴合在抛光盘表面，且提升抛光效果。
抛光

[实用新型]模块化总线式电磁阀组的互锁装置-CN201621086278.6有效
发明人： 路新春;雷殿波;郭震宇;冯巨震;王军星;雒建斌;温诗铸;王同庆;李昆 -专利权人：天津华海清科机电科技有限公司;清华大学
申请日： 2016-09-27 - 公布日： 2017-06-06 - 主分类号： F16K35/14 文献下载
摘要：本实用新型提出一种模块化总线式电磁阀组的互锁装置，模块化总线式电磁阀组包括总线耦合器、电磁阀阀座及集成在电磁阀阀座上的多个电磁阀，互锁装置包括输入接口，输入接口与总线耦合器相连，以接收总线耦合器传输的电磁阀控制指令；输出接口，输出接口与通过电磁阀阀座与多个电磁阀相连；控制器，控制器用于根据电磁阀控制指令从多个电磁阀中确定目标电磁阀，并控制目标电磁阀进行互锁。本实用新型能按照实际需求对目标电磁阀个体进行互锁，实现了指定电磁阀的互锁功能，从而能够满足不同的工艺需求。本实用新型还提出了一种模块化总线式电磁阀组。
模块化总线电磁阀互锁装置

[实用新型]真空源切换装置-CN201621090244.4有效
发明人：庞伶伶;许振杰;陈祥玉;王同庆;李昆;路新春 -专利权人：天津华海清科机电科技有限公司;清华大学
申请日： 2016-09-28 - 公布日： 2017-06-06 - 主分类号： F17D1/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种真空源切换装置，该真空源切换装置包括真空源；真空源管路，真空源管路与真空源相连且适于连接设备，真空源管路内的空气适于单向从设备流向真空源；真空发生装置；压缩空气源；压缩空气源管路，压缩空气源管路与压缩空气源相连且适于连接真空发生装置；真空发生装置管路，真空发生装置管路与真空发生装置相连且适于连接设备，真空发生装置管路与真空源管路并联，真空发生装置管路内的空气适于单向从设备流向真空发生装置。在真空源无法为设备提供负压环境时，压缩空气源可以为真空发生装置提供压缩空气，这样真空发生装置在压缩空气的作用下产生真空，从而可以为设备提供负压环境，设备可以继续正常工作。
真空切换装置

[实用新型]用于晶圆铜层厚度多点测量的标定系统-CN201621099178.7有效
发明人：李弘恺;田芳馨;路新春;雒建斌;沈攀;王同庆;李昆 -专利权人：天津华海清科机电科技有限公司;清华大学
申请日： 2016-09-30 - 公布日： 2017-06-06 - 主分类号： G01B7/06 文献下载
摘要：本实用新型提出一种用于晶圆铜层厚度多点测量的标定系统，包括电涡流传感器；数据采集装置，采集电涡流传感器输出的采样信号；数据库模块，用于存储计算铜层厚度所需的多点标定表；上层控制系统，用于存储标定数据库，并接收数据采集装置传输的采样信号，并对采样信号进行数据处理后，根据选定的多点标定表计算晶圆表面铜层多点的厚度测量值，并对在计算完成后，上层控制系统根据测量点序，进行测量值与测量点坐标的一一匹配，并将匹配结果按照预设格式进行保存。本实用新型可以很好地消除测量过程中提离高度波动所造成的测量误差，从而保证测量准确度，同时具有简单可靠的优点。
用于晶圆铜层厚度多点测量标定系统

[发明专利]化学机械抛光机及用于其的抛光组件-CN201611092859.5在审
发明人： 路新春;李昆;赵德文;雒建斌;温诗铸;许振杰;沈攀;王同庆;郭振宇;裴召辉 -专利权人：天津华海清科机电科技有限公司;清华大学
申请日： 2016-12-01 - 公布日： 2017-05-31 - 主分类号： B24B27/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种化学机械抛光机及用于其的抛光组件，所述抛光组件包括下支架、上支架、驱动转塔和两个抛光头组件，下支架上设有工作台和抛光盘；上支架架设在下支架上；驱动转塔悬挂在上支架上且驱动转塔的至少一部分相对于下支架可枢转；两个抛光组件分别设在驱动转塔上，以在驱动转塔的枢转下在与工作台位置对应的装卸位置和与抛光盘位置对应的抛光位置之间可移动，其中，当两个抛光头组件中的其中一个位于装卸位置时，另一个位于抛光位置。根据本发明实施例的用于化学机械抛光机的抛光组件，一个抛光头组件进行抛光时，另一个抛光头组件可以执行装卸晶圆，两个抛光头组件可以交替抛光，从而可以持续不间断工作，进而可以提高工作效率。
化学机械抛光机用于抛光组件