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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]控制方法、晶圆倒传方法、后处理装置和晶圆加工设备-CN202210786740.7有效
发明人：李长坤;赵德文;路新春 -专利权人：华海清科股份有限公司
申请日： 2022-07-06 - 公布日： 2022-09-16 - 主分类号： H01L21/306 文献下载
摘要：本发明公开了一种控制方法、晶圆倒传方法、后处理装置和晶圆加工设备，其中控制方法包括：在晶圆清洗中出现异常导致晶圆停止移动后，根据执行机构的参数判断晶圆位置；根据不同的晶圆位置，给出相应的异常处理提示或者自动执行晶圆倒传、晶圆提升或晶圆传输。
控制方法晶圆倒传处理装置加工设备

[实用新型]一种化学机械抛光系统-CN202221496329.8有效
发明人：甄辉;王同庆;赵德文;张国铭;路新春 -专利权人：华海清科股份有限公司
申请日： 2022-06-16 - 公布日： 2022-09-13 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种化学机械抛光系统，其包括：前置单元；抛光单元；清洗单元，设置于前置单元与抛光单元之间；其中，所述清洗单元包括第一清洗单元及第二清洗单元，其设置于晶圆传输通道的两侧；所述第一清洗单元及第二清洗单元包括多个晶圆后处理模块，所述晶圆后处理模块围绕晶圆传输机械手设置。
一种化学机械抛光系统

[实用新型]一种晶圆装卸装置及化学机械抛光系统-CN202221496506.2有效
发明人：路新春;吴兴;许振杰;王同庆;赵德文;张国铭 -专利权人：华海清科股份有限公司
申请日： 2022-06-16 - 公布日： 2022-09-13 - 主分类号： B24B37/34 文献下载
摘要：本实用新型公开了晶圆装卸装置及化学机械抛光系统，所述晶圆装卸装置包括托架，用于装载和/或卸载晶圆；托架座，连接于托架下方，用于支撑托架；驱动机构，连接于托架座下方，用于驱动托架座沿竖向移动；其中，所述托架的周向配置有喷嘴，并且，所述喷嘴朝向托架中心倾斜向上设置；所述喷嘴朝向上方喷射流体，以清洁保湿位于托架上方的承载头。
一种装卸装置化学机械抛光系统

[发明专利]一种管路预清洗方法、预制输送管路和晶圆后处理装置-CN202210677962.5在审
发明人：李长坤;路新春;孙传恽;赵德文 -专利权人：华海清科股份有限公司
申请日： 2022-06-16 - 公布日： 2022-09-06 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明公开了一种管路预清洗方法、预制输送管路和晶圆后处理装置，其中方法包括：使用替代管路代替流路的真实输送管路中的功能器件，以实现预制输送管路的组装；对所述预制输送管路进行清洗和干燥；拆除所述替代管路，安装相应的功能器件，完成流路的真实输送管路装配。
一种管路清洗方法预制输送晶圆后处理装置

[发明专利]一种晶圆清洗装置及清洗方法-CN201911412923.7有效
发明人：李长坤;赵德文;刘远航;曹自立 -专利权人：清华大学;华海清科股份有限公司
申请日： 2019-12-31 - 公布日： 2022-09-06 - 主分类号： B08B3/02 文献下载
摘要：一种晶圆清洗装置，包括清洗腔、清洗部、喷淋单元和清洁单元；所述清洗腔用于接收需要清洗的晶圆；所述清洗部可转动地安装于所述清洗腔内，用于擦洗晶圆表面；所述喷淋单元设置于所述清洗部上方，并在所述清洗部擦洗晶圆的过程中向晶圆表面喷洒清洗液；所述清洁单元设置于所述清洗腔中，并在晶圆清洗结束后通过喷射清洁液对所述清洗部进行清洁。
一种清洗装置方法

[发明专利]一种晶圆竖直清洗装置和方法-CN202210756707.X在审
发明人：李长坤;赵德文;路新春;曹自立 -专利权人：华海清科股份有限公司
申请日： 2022-06-30 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明公开了一种晶圆竖直清洗装置和方法，其中方法包括：在滚动的清洗刷对旋转的晶圆进行滚动刷洗时，使第一喷淋杆将清洗液供给至位于清洗刷上方的晶圆表面的上部区域；使第二喷淋杆将清洗液供给至位于清洗刷下方的晶圆表面的下部区域，其中，所述下部区域相对于晶圆的旋转方向位于清洗刷的上游侧区域。
一种竖直清洗装置方法

[发明专利]一种用于化学机械抛光的承载头和抛光设备-CN202111325238.8在审
发明人： 赵德文;孟松林 -专利权人：华海清科股份有限公司
申请日： 2021-11-10 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： B24B37/30 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于化学机械抛光的承载头和抛光设备，包括主体部及保持环，所述主体部的底部配置有基座，所述保持环通过连接结构固定于所述基座；所述连接结构包括固定螺钉、限位环和连接螺钉；保持环设置于承载头的基座的底部，其通过固定螺钉连接于基座；所述限位环为环状结构，其通过连接螺钉固定于所述基座的顶部；所述限位环罩设于所述基座的上侧，其底面抵压于所述保持环的顶面；所述限位环对保持环的抵压力产生相对于所述连接螺钉的偏转力矩，使得保持环的底面形成沿径向的高度差。
一种用于化学机械抛光承载抛光设备

[发明专利]一种晶圆后处理装置-CN202111676177.X在审
发明人：曹自立;李长坤;李灯;赵德文 -专利权人：华海清科股份有限公司
申请日： 2021-12-31 - 公布日： 2022-08-26 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明公开了一种晶圆后处理装置，其包括：驱动机构，其竖直夹持晶圆；驱动机构，其带动所述驱动机构及晶圆旋转；供给臂，其在晶圆的侧面摆动并经由其上的喷嘴将液体供应至晶圆表面；挡圈，其设置于驱动机构的外周侧以防止所述液体溅射；所述挡圈的边沿设有导流结构，以避免所述挡圈边沿的液体积聚滴落。
一种晶圆后处理装置

[发明专利]一种晶圆干燥装置-CN202111676178.4在审
发明人： 赵德文;路新春;曾钦阳;李长坤 -专利权人：华海清科股份有限公司
申请日： 2021-12-31 - 公布日： 2022-08-26 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明公开了一种晶圆干燥装置，其包括驱动机构，其竖直夹持晶圆并带动晶圆旋转；供给臂，其在晶圆的侧面摆动并经由其上的喷嘴将液体供应至晶圆表面；挡圈，其设置于驱动机构的外周侧；所述挡圈配置有导流结构，其沿挡圈的局部轮廓设置并位于挡圈的边沿，所述导流结构将晶圆甩出的液体引导至挡圈的下部。
一种干燥装置

[发明专利]一种用于水处理的磁性滤料-CN202110214196.4有效
发明人： 赵德文;赵洪印;王焕升;何洋;张伟伟;刘述奇;黄典金;张静超;张科 -专利权人：江苏联合创业环保有限公司
申请日： 2021-02-25 - 公布日： 2022-08-23 - 主分类号： B01D24/46 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于水处理的磁性滤料，包括滤料本体及包含在滤料本体中的磁性材料，滤料本体为多孔塑料，磁性材料为永磁体，磁性滤料可在外部磁场作用下运动。通过在滤料颗粒中增加磁性材料，使得滤料颗粒可在外部磁场作用下运动实现滤料颗粒的清洁，有效解决了现有滤料颗粒利用反洗装置进行清洁，反洗效果受冲洗压力和冲洗面积影响，导致滤料颗粒上的吸附物在反洗时无法清除干净，影响滤料颗粒的过滤效果，降低滤料颗粒的使用寿命的问题，提高了滤料颗粒的清洁效果，保障了滤料颗粒的过滤效果，提升了滤料颗粒的使用寿命。
一种用于水处理磁性

[发明专利]晶圆后处理设备及其应用的具有导流功能的通风系统-CN202110761381.5有效
发明人：曹自立;李灯;刘健;李长坤;赵德文 -专利权人：华海清科股份有限公司
申请日： 2021-07-06 - 公布日： 2022-08-16 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明公开了一种晶圆后处理设备及其应用的具有导流功能的通风系统，晶圆后处理设备包括：用于竖直旋转晶圆的夹持机构、用于输送流体的供给臂、用于在晶圆处理腔室内形成动态气流的通风系统；所述通风系统包括位于所述晶圆处理腔室一面的进气组件和位于所述晶圆处理腔室的相对的另一面的排气组件，所述排气组件包括排风背板和环形排风罩，所述晶圆处理腔室内的气体从排风背板的排风口进入环形排风罩进行汇集，并通过环形排风罩的底部引出结构向下方的排气管路引出；所述排风背板的排风口具有由内向外敛缩的内表面，以在相邻排风口之间形成导流结构，从而减少排风口之间的实体区域对气流的阻挡。
晶圆后处理设备及其应用具有导流功能通风系统

[发明专利]一种用于化学机械抛光的承载头及其使用方法-CN201911405848.1有效
发明人： 赵德文;刘远航;孟松林;孙张璞 -专利权人：清华大学;华海清科股份有限公司
申请日： 2019-12-31 - 公布日： 2022-08-16 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：一种用于化学机械抛光的承载头，包括：连轴盘、平衡架、承载盘、环状弹性膜、第一夹环和第二夹环；所述第一夹环将所述环状弹性膜的外缘夹紧结合至所述承载盘并且所述第二夹环将所述环状弹性膜的内缘夹紧结合至所述连轴盘；所述平衡架的中轴部滑动密封地设置于所述连轴盘的中心通孔内并可以通过其底盘部及翼缘部带动承载盘相对于连轴盘上下移动；所述承载盘由非导电材料制成并且其上方固定有配重。
一种用于化学机械抛光承载及其使用方法

[发明专利]一种化学机械抛光装置和抛光方法-CN202011396782.7有效
发明人： 赵德文;郑广建 -专利权人：华海清科（北京）科技有限公司
申请日： 2020-12-04 - 公布日： 2022-08-16 - 主分类号： B24B37/11 文献下载
摘要：本发明公开了一种化学机械抛光装置和抛光方法，所述化学机械抛光装置包括抛光盘，其顶面配置有抛光垫；承载头，用以接收晶圆并将晶圆加载于所述抛光垫；温度调节部，其设置于抛光垫的上侧，以调节与抛光垫同心的环状区域的温度；承载头旋转并沿抛光垫的径向水平移动，以控制晶圆边缘部分与抛光垫的环状区域的接触时间，调节晶圆边缘部分的去除速率。
一种化学机械抛光装置抛光方法

[发明专利]一种晶圆加工方法、系统及终端设备-CN202111556934.X在审
发明人： 赵德文;路新春;刘远航;陶红飞 -专利权人：华海清科股份有限公司
申请日： 2021-12-18 - 公布日： 2022-08-09 - 主分类号： B24B7/22 文献下载
摘要：本发明提供了一种晶圆加工方法、系统及终端设备，方法包括：设置不同的输入变量，对晶圆进行磨削，其中，所述输入变量包括姿态调节参数、加工参数和磨削过程参数中的至少一个；测量磨削后的晶圆厚度，提取晶圆的面形特征作为输出变量；采用机器学习算法建立输入变量与输出变量之间的映射关系，得到面形预测模型。本发明能够得到晶圆磨削的面形预测模型，提高了预测的准确性和可靠性。
一种加工方法系统终端设备

[发明专利]利用混合核函数的磨削面形预测方法、系统及终端设备-CN202111568408.5在审
发明人：陶红飞;刘远航;赵德文;路新春;倪孟骐 -专利权人：华海清科股份有限公司
申请日： 2021-12-21 - 公布日： 2022-08-09 - 主分类号： B24B7/22 文献下载
摘要：本发明提供了一种利用混合核函数的磨削面形预测方法、系统及终端设备，方法包括：设置不同的输入变量，对晶圆进行磨削，其中，所述输入变量包括姿态调节参数、加工参数和磨削过程参数中的至少一个；测量磨削后的晶圆厚度，提取晶圆的面形特征作为输出变量；基于混合核函数的方法改进支持向量回归算法；采用改进支持向量回归算法建立输入变量与输出变量之间的映射关系，得到面形预测模型。本发明基于混合核函数的方法改进支持向量回归算法，采用改进支持向量回归算法建立了晶圆磨削的面形预测模型，提高了模型的预测精度和泛化性能，提高了预测的准确性和可靠性。
利用混合函数磨削预测方法系统终端设备

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