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[发明专利]一种C++程序接口的快速测试方法、装置及存储介质-CN202310363696.3在审
发明人：尹湘军;谢光益;李起宏;秦楚越;尚洁;邱怡乐 -专利权人：成都华大九天科技有限公司
申请日： 2023-04-06 - 公布日： 2023-07-04 - 主分类号： G06F11/36 文献下载
摘要：本发明公开了C++程序接口的快速测试方法，包括如下步骤：在接收到C++程序接口的快速测试请求时，获取一组或多组包含C++头文件的源数据，对获取的所述C++头文件进行C++的语法解析，以判定是否能够基于所述C++头文件生成Python或Java测试框架；基于对C++的语法解析结果生成Python或Java测试框架；以及输出Python或Java测试结果。
一种 c++程序接口快速测试方法装置存储介质

[发明专利]保护环的生成方法、装置及相关产品-CN202310119217.3在审
发明人：李若溪;李振业;苏鸿昌;谢光益;李起宏 -专利权人：深圳华大九天科技有限公司
申请日： 2023-01-19 - 公布日： 2023-05-26 - 主分类号： G06F30/39 文献下载
摘要：本申请公开了保护环的生成方法、装置及相关产品，方法包括：针对同一保护环要保护的多个电路元器件，确定各个电路元器件的边界框的顶点；基于所述各个电路元器件的边界框的顶点，根据所述保护环的宽度，对各个电路元器件的边界框进行外扩，得到外扩边界框；对所述各个电路元器件的外扩边界框的顶点进行凸包排序得到凸包排序点列，所述凸包排序点列包括多个凸包排序点；对沿着凸包排序的方向上的每两个相邻的凸包排序点，确定可将该两个相邻的凸包排序点连接的所有可选路径，每条可选路径上的曼哈顿距离最短；根据所述所有可选路径，生成针对所述多个电路元器件的所述保护环，从而避免了现有技术中设计保护环出现面积浪费。
保护环生成方法装置相关产品

[发明专利]一种利用可变参数化单元对实例进行缩放的方法-CN201911263614.8有效
发明人：郎丰涛;苏鸿昌;谢光益;李起宏;冯小辉;刘伟平 -专利权人：成都华大九天科技有限公司
申请日： 2019-12-11 - 公布日： 2023-01-31 - 主分类号： G06F30/392 文献下载
摘要：一种利用可变参数化单元对实例进行缩放的方法，包括以下步骤：1）实现可变参数化单元脚本模板，设定脚本解析参数及具体实现函数；2）将需要缩放的实例作为参数传给可变参数化单元；3）上述可变参数化单元脚本模板根据设定的参数及预设的实现函数进行计算，得到缩放后的虚拟设计单元；4）使用所述缩放后的虚拟设计单元生成可放大实例。本发明的利用可变参数化单元对实例进行缩放的方法，通过可变参数化单元去实现该功能，利用构造好的可变参数化单元模板，在库中定义一个用于放大的可变参数化单元，该单元含有参数库、单元、视图、放大等参数，该单元作为内部实例化将要放大的单元用。脚本会从设计窗口中读取所有图形数据，依次进行缩放后放入新的实例化单元中。
一种利用可变参数单元实例进行缩放方法

[发明专利]一种基于多重掩膜版的版图布线方法-CN202110218884.8有效
发明人：陈婧;张亚东;蔡小五;谢光益;李起宏;陆涛涛 -专利权人：北京华大九天科技股份有限公司
申请日： 2021-02-26 - 公布日： 2022-08-23 - 主分类号： G06F30/394 文献下载
摘要：一种基于多重掩膜版的版图布线方法，包括以下步骤：对布线资源进行初始化；构建节点图模型，得到布线网格的扩展网格；在所述扩展网格上进行最短路径搜索和扩展，进行线网布线。本发明的基于多重掩膜版的版图布线方法，在超大规模集成电路详细布线过程中,减少了现有布线技术在布线过程中产生的缝线和冲突，优化了布线结果，并增强其可制造性。
一种基于多重掩膜版版图布线方法

[发明专利]基于参数化单元的掩模信息处理方法-CN202110243421.7有效
发明人： 谢光益;郎丰涛;李起宏;张通;王柯 -专利权人：北京华大九天科技股份有限公司
申请日： 2021-03-05 - 公布日： 2022-07-26 - 主分类号： G06F30/392 文献下载
摘要：本公开涉及集成电路技术领域，提供了一种基于参数化单元的掩模信息处理方法，其首先通过获取数据库中半导体器件的参数化单元的图形数据，该参数化单元的图形数据包括前述半导体器件在不同结构层的工艺图形信息；其次根据该参数化单元的图形数据构建处理图形掩模信息的模板，前述模板用于查找需要处理掩模信息的工艺图形；而后确定需要处理掩模信息的工艺图形，并根据前述模板的模板参数给该图形设定相应的掩模信息，其中，前述模板参数包括结构层信息、图形坐标信息以及前述掩膜信息。由此可有效减少数据规模，降低了存储空间的占用面积，同时减少了重复开发参数化单元的次数，提升了第三方编辑工具多层掩模的设计效率。
基于参数单元信息处理方法

[发明专利]一种在集成电路版图中快速创建阵列标记的方法-CN201710417343.1有效
发明人：冯小辉;刘伟平;张春阳;李起宏;谢光益 -专利权人：北京华大九天软件有限公司
申请日： 2017-06-06 - 公布日： 2020-10-27 - 主分类号： G06F30/31 文献下载
摘要：一种在集成电路版图中快速创建阵列标记的方法，包括步骤：（1）根据首个阵列标记，以及阵列标记的行数，得到对应行数的一维列阵列标记；（2）根据一维列阵列标记的行间距，以及阵列标记的列数，得到对应行间距的二维阵列标记；（3）根据阵列标记的列间距，得到对应列间距的二维阵列标记。本发明的在集成电路版图中快速创建阵列标记的方法，根据用户的需求，按照指定的创建位置、间距以及方向，一次性完成所有阵列标记的创建，提高了用户的工作效率，加速了芯片的制造速度，并且还能够防止创建标记时出现偏差，造成signoff（流片）时的电气规则检查错误。
一种集成电路版图快速创建阵列标记方法

[发明专利]一种自动将多段线转换成封闭图形的方法-CN201611234264.9有效
发明人：李起宏;刘伟平;谢光益 -专利权人：北京华大九天软件有限公司
申请日： 2016-12-28 - 公布日： 2020-07-10 - 主分类号： G06F30/392 文献下载
摘要：一种自动将多段线转换成封闭图形的方法，包括以下步骤：选取未被处理的零宽度路径的图形；确定查询区域，进行查询；对图形的线段转换成封闭图形。本发明的自动将多段线转换成封闭图形的方法，能够自动快速地将DXF文件中的多个独立的线段合并成一条折线或封闭图形，从而提高了集成电路设计的效率并减少出错的几率。
一种自动将多段线转换封闭图形方法

[发明专利]一种集成电路原理图的对比方法-CN201710417345.0有效
发明人：肖薇;谢光益;李起宏 -专利权人：北京华大九天软件有限公司
申请日： 2017-06-06 - 公布日： 2020-07-10 - 主分类号： G06F30/33 文献下载
摘要：一种集成电路原理图的对比方法，包括步骤：（1）获取预对比的两个原理图的OA信息；（2）根据原理图的OA信息，判断两个原理图的OA检查及保存时间、单元属性、器件属性、引脚属性、线网连接关系或者标注信息是否相同；（3）根据对比结果，反标出两个原理图的差异。本发明的集成电路原理图的对比方法，能够在原理图设计或前端仿真过程中，层次化的对比两个原理图中的各种信息，尤其是层次化的对比单元属性、器件属性、引脚属性、线网连接关系以及标注文本等信息的差异，并以检查报告的形式进行输出。
一种集成电路原理图对比方法

[发明专利]一种集成电路版图中快速切除锐角的方法-CN201710417552.6有效
发明人：郭仙菊;李起宏;谢光益 -专利权人：北京华大九天软件有限公司
申请日： 2017-06-06 - 公布日： 2020-06-16 - 主分类号： G06F30/392 文献下载
摘要：一种集成电路版图中快速切除锐角的方法，包括步骤：（1）采集多边形的数据，确定待切除的锐角；（2）根据放大尺寸、切除距离及切除模式，对放大后的多边形切除锐角；（3）将放大后的多边形的切除结果应用到放大前的多边形上。本发明的集成电路版图中快速切除锐角的方法，能够快速有效地切除锐角，并可以根据用户指定的“切除距离”和“角度”，快速有效地在指定位置自动切除锐角，大大地降低用户的工作量，还能够有效地避免用户手工操作带来的错位问题，提高版图设计的效率。
一种集成电路版图快速切除锐角方法

[发明专利]一种在集成电路版图中对弧形进行伸缩编辑的方法-CN201911354641.6在审
发明人：陈婧;李起宏;谢光益;苏鸿昌;洪姬铃;刘伟平 -专利权人：成都九芯微科技有限公司
申请日： 2019-12-25 - 公布日： 2020-04-24 - 主分类号： G06F30/392 文献下载
摘要：一种在集成电路版图中对弧形进行伸缩编辑的方法，包括以下步骤：1）计算选定的弧所在的椭圆并标记显示参考点，其中，参考点包括所述椭圆的圆心、所述椭圆的长轴与椭圆的两个交点、所述椭圆的短轴与椭圆的两个交点、所述弧的起始点和结束点；2）对弧进行伸缩编辑操作，其中伸缩编辑操作为平移操作或拉伸操作或改变弧长操作。满足了用户在集成电路版图设计中对不同大小圆弧或椭圆弧的设计需求，提高了用户的工作效率与设计的美观性。
一种集成电路版图弧形进行伸缩编辑方法

[发明专利]一种基于最小设计规则邻接参数化单元的方法-CN201710146239.3有效
发明人：肖薇;李起宏;谢光益;洪姬铃 -专利权人：北京华大九天软件有限公司
申请日： 2017-03-13 - 公布日： 2020-02-18 - 主分类号： G06F30/392 文献下载
摘要：一种基于最小设计规则邻接参数化单元的方法，包括步骤：（1）分别提取待移参数化单元、静止参数化单元的属性信息；（2）根据待移参数化单元及静止参数化单元的属性信息及线网连接关系，确定待移参数化单元的摆放位置；（3）根据邻接参数，基于最小设计规则信息，邻接待移参数化单元和静止参数化单元。本发明的基于最小设计规则邻接参数化单元的方法，能够在集成电路版图设计中，在保持参数化单元层次结构的情况下，根据实际版图布局调整晶体管邻接的位置，以及晶体管共享端上连接孔的删除与保留，方便用户快速地将两个相同类型、相同net信息的晶体管进行邻接，提高了整体工作效率。
一种基于最小设计规则邻接参数单元方法

[发明专利]一种在电路中添加仿真信号输出符号的方法-CN201510836126.7有效
发明人：洪姬铃;李起宏;陈光前;谢光益 -专利权人：北京华大九天软件有限公司
申请日： 2015-11-26 - 公布日： 2019-12-27 - 主分类号： G06F17/50 文献下载
摘要：本发明提供了一种在电路中添加仿真信号输出符号的方法，可以在电路的Net或者器件节点上添加符号，用以表示在仿真中存储这些Nets、器件节点的电压以及电流信号。在集成电路设计中，传统的EDA工具中，都是依赖集成在自身的仿真设置环境来设置关键信号的电压以及电流输出，如果EDA工具自身没有集成仿真设置环境，那么就需要在导出电路仿真网表之后，人工地在网表里添加信号波形输出语句。本发明提供一种不需要依赖集成仿真环境就可以将存储关键信号电压或者电流的语句输出到仿真网表里的方法，即在电路中创建输出仿真信号电压或者电流的器件。同时采用这种方法，也方便电路设计工程师之间的互相查图。
一种电路添加仿真信号输出符号方法

[发明专利]一种全局设置打开数据单元模式的方法-CN201611217630.X有效
发明人：洪姬铃;李起宏;谢光益 -专利权人：北京华大九天软件有限公司
申请日： 2016-12-26 - 公布日： 2019-11-19 - 主分类号： G06F3/0481 文献下载
摘要：一种全局设置打开数据单元模式的方法，其特征在于，包括以下步骤：获取全局编辑状态标识；判断打开数据单元所述的默认模式；切换打开数据单元的默认模式；打开任意数据单元，都以所切换的打开数据单元的默认模式打开。本发明提供的全局设置打开数据单元模式的方法，设计人员可以根据自身的需要，点击全局编辑状态标识按钮，切换并保存打开数据单元的默认模式。无需每次设置，再次打开仍然是上一次保存的默认模式。防止了误操作引起的误编辑，避免了繁琐的人工切换，是一种更为安全，更为有效，更为经济的方法。
一种全局设置打开数据单元模式方法

[发明专利]一种集成电路版图图形的修改方法-CN201510019344.1有效
发明人：刘磊;谢光益;李起宏 -专利权人：北京华大九天软件有限公司
申请日： 2015-01-15 - 公布日： 2018-11-09 - 主分类号： G06T11/80 文献下载
摘要：本发明公开一种集成电路版图图形的修改方法。本发明会根据鼠标光标在原始图形上的投影产生吸附点，吸附点提示了原始图形与新图形的边界交点；本发明还采用快捷键，自动补全鼠标光标与吸附点间的线段，快速结束操作。这种图形形状修改方法，能大大提高命令执行速度，减少大量的版图放大、缩小及点击操作，提高绘制版图的效率。
一种集成电路版图图形修改方法

[发明专利]一种防漏电Path绘制方法-CN201210487084.7有效
发明人：李志雄;谢光益;李起宏;肖薇 -专利权人：北京华大九天软件有限公司
申请日： 2012-11-26 - 公布日： 2017-12-22 - 主分类号： G06F17/50 文献下载
摘要：本发明公开一种轮廓更平滑、从而降低漏电可能性的Path的绘制方法。该方法定义一种新的Path风格AntiESD风格。AntiESD风格Path增加两个新的特征属性EndFactor来表示对头尾两端（End）的轮廓裁剪比例；CornerFactor表示对中心线拐弯（Corner）处的轮廓平滑的处理比例。这种新风格Path的轮廓，是在相同中心线和宽度的Truncate Path轮廓的基础上，对头尾两端的轮廓按照EndFactor比例进行裁剪，对中心线拐弯处轮廓按照CornerFactor比例进行裁剪和补充。这样，Path的轮廓就更加符合版图设计者的要求。
一种漏电 path 绘制方法

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