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[发明专利]用于OCD计量的方法-CN202310858234.9在审
发明人：艾坦·A·罗思坦;金涌河;利娅·布比诺维奇;阿里耶尔·布罗伊特曼;奥尔加·克拉斯尼科夫;巴瑞克·布兰欧利兹 -专利权人： 诺威有限公司
申请日： 2021-01-07 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种用于OCD计量的方法，包括接收用于训练OCD机器学习(ML)模型的训练数据，包括多对相应的散射数据集和参考参数集。对于每一对，无论给定对是否是离群对，都计算一个或多个相应的离群度量，并应用相应的离群阈值。然后用训练数据减去离群对，对OCD ML模型进行训练。
用于 ocd 计量方法

[发明专利]来自扰动对象的X射线信号的评估-CN202180094965.X在审
发明人：沙哈尔·戈夫;丹尼尔·堪德尔;希瑟·波伊斯;帕克·伦德;迈克尔·哈伊姆·雅琴妮;弗拉迪米尔·马恰瓦里亚尼 -专利权人： 诺威有限公司
申请日： 2021-12-30 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： G01N23/207 文献下载
摘要：一种用于评估x射线信号的方法、系统和非瞬态计算机可读介质。该方法可以包括为多个非扰动对象中的每一个计算估计场，多个非扰动对象表示该扰动对象的扰动；扰动具有非漫射x射线信号的波长的阶；以及基于多个非扰动对象的场来评估非漫射x射线信号。
来自扰动对象射线信号评估

[发明专利]用于电测试预测的装置和方法-CN201880013951.9有效
发明人：尹戈尔·蒂罗韦斯 -专利权人： 诺威有限公司
申请日： 2018-02-27 - 公布日： 2023-09-26 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：公开了一种测试站和方法，用于预测E‑测试结构(片内结构)和/或装置性能。测试站包含E‑测试结构和E‑测试结构附近的OCD兼容的多个结构，以允许光学散射测量(OCD)。通过选自(a)叠加类型修改技术、(b)仿制类型修改技术、(c)特殊目标设计类型修改技术以及(d)((a)、(b)及(c)的至少一种组合)用于具有与E‑测试结构的性能相当的性能中的至少一种修改技术来修改OCD兼容的多个结构。
用于测试预测装置方法

[发明专利]用于半导体器件计量以及检测的方法和系统-CN202310700291.4在审
发明人：吉拉德·巴拉克;迈克尔·舍马马;斯马达尔·费贝尔;亚伊尔·哈伊尼克;鲍里斯·列万特;泽·埃夫·林登费尔德;德罗尔·沙菲尔;尤里·希尔曼;埃拉德·施莱费尔 -专利权人： 诺威有限公司
申请日： 2019-07-18 - 公布日： 2023-09-12 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：本申请涉及用于半导体器件计量以及检测的方法和系统。该用于半导体器件计量的方法，包括：创建由半导体器件的图案化结构反射的光的波长域测量数据的时域表示；选择排除了时域表示的时间较晚部分的时域表示的时间较早部分；以及通过使用时域表示的时间较早部分执行基于模型的处理来确定图案化结构的一个或多个感兴趣参数的一个或多个测量。
用于半导体器件计量以及检测方法系统

[发明专利]对图案化结构的基于X射线的测量-CN201810790022.0有效
发明人：吉拉德·巴拉克 -专利权人： 诺威有限公司
申请日： 2018-07-18 - 公布日： 2023-09-12 - 主分类号： G01N23/20 文献下载
摘要：本发明公开了对图案化结构的基于X射线的测量。呈现一种用于图案化结构上的基于X射线的测量的方法和系统。该方法包括：处理指示对应于图案化结构对入射X射线辐射的检测辐射响应的测量信号的数据，并且从所述数据中减去基本上无背景噪声的有效测量信号，所述有效测量信号由反射衍射级的辐射分量形成，使得有效测量信号的基于模型解释使能够确定图案化结构的一个或多个参数，其中，所述处理包括：分析测量信号并且从中提取对应于背景噪声的背景信号；以及向测量信号应用过滤处理以从中减去对应于背景信号的信号，产生有效测量信号。
图案结构基于射线测量

[发明专利]用于薄膜中测量的混合测量系统及方法-CN202310678834.7在审
发明人：科尔内尔·博兹多格;阿洛克·瓦德;斯里达尔·马亨德拉卡尔;玛纽尔·霍桑;塔希尔·卡加瓦拉 -专利权人： 诺威有限公司
申请日： 2016-08-04 - 公布日： 2023-09-05 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明涉及用于薄膜中测量的混合测量系统及方法。具体地，本发明提供了用于在线测量在生产线上行进的结构中薄膜的一个或多个参数的测量方法和系统。从正在被测量的薄膜上的多个测量位点提供第一测量数据和第二测量数据，其中第一测量数据对应于来自相对少数量的测量位点的第一选择组的第一类型测量，并且第二测量数据对应于来自显著更高数量的测量位点的第二组的第二类型光学测量。处理第一测量数据用于确定所述第一组的每个测量位点中薄膜的至少一个参数的至少一个值。该至少一个参数值用于解释第二测量数据，从而获得指示所述第二组的测量位点内的所述至少一个参数的值的分布的数据。
用于薄膜测量混合系统方法

[发明专利]检测OCD计量机器学习的离群值和异常-CN202180008233.4有效
发明人：艾坦·A·罗思坦;金涌河;利娅·布比诺维奇;阿里耶尔·布罗伊特曼;奥尔加·克拉斯尼科夫;巴瑞克·布兰欧利兹 -专利权人： 诺威有限公司
申请日： 2021-01-07 - 公布日： 2023-08-01 - 主分类号： G01N21/47 文献下载
摘要：本发明提供一种用于OCD计量的系统和方法，包括接收用于训练OCD机器学习(ML)模型的训练数据，包括多对相应的散射数据集和参考参数集。对于每一对，无论给定对是否是离群对，都计算一个或多个相应的离群度量，并应用相应的离群阈值。然后用训练数据减去离群对，对OCD ML模型进行训练。
检测 ocd 计量机器学习离群异常

[发明专利]准确拉曼光谱-CN202180076642.8在审
发明人：埃亚尔·霍兰德;吉拉德·巴拉克;埃拉德·施莱费尔;约纳坦·奥伦;阿米尔·沙亚里 -专利权人： 诺威有限公司
申请日： 2021-09-14 - 公布日： 2023-07-28 - 主分类号： G01N21/65 文献下载
摘要：一种用于拉曼光谱的方法、系统和非暂时性计算机可读介质。该方法可以包括：确定拉曼光谱仪的第一采集参数以提供第一采集设定，该确定基于作为样本的第一区域的照射结果的待由拉曼光谱仪的传感器检测的至少一个预期辐射图案，该第一区域包括第一纳米级结构，其中，至少一个预期辐射图案的至少一部分指示样本的第一纳米级结构的至少一个关注的特性；其中，第一采集参数属于一组采集参数；根据第一采集设定设置拉曼光谱仪；以及在根据第一采集设定进行设置的同时，采集样本的第一纳米级结构的至少一个第一拉曼光谱。
准确光谱

[发明专利]高吞吐量的光学计量-CN202180073458.8在审
发明人：尹戈尔·蒂罗韦斯;希蒙·亚洛夫;亚历克斯·希施曼;米沙·马图索夫斯基;沙哈尔·帕兹 -专利权人： 诺威有限公司
申请日： 2021-08-27 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： G01B11/00 文献下载
摘要：一种对样品进行光学计量的方法，该方法可包括在样品的变速移动期间，通过不同波长的多组脉冲照射样品的区域；收集作为照射的结果而从样品反射的光以提供多组帧，每组帧包括与不同波长相关联的部分重叠的多个帧；以及处理这些帧以提供光学计量结果，该光学计量结果指示样品区域的元素的一个或多个评估参数；其中，处理基于该多组帧与通过其他光学计量过程获取的参考测量值之间的映射，该其他光学计量过程展现出的光谱分辨率高于通过照射和收集所获取的光谱分辨率。
吞吐量光学计量

[发明专利]用于薄膜中测量的混合测量系统及方法-CN201680057884.1有效
发明人：科尔内尔·博兹多格;阿洛克·瓦德;斯里达尔·马亨德拉卡尔;玛纽尔·霍桑;塔希尔·卡加瓦拉 -专利权人： 诺威有限公司
申请日： 2016-08-04 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：提供了用于在线测量在生产线上行进的结构中薄膜的一个或多个参数的测量方法和系统。从正在被测量的薄膜上的多个测量位点提供第一测量数据和第二测量数据，其中第一测量数据对应于来自相对少数量的测量位点的第一选择组的第一类型测量，并且第二测量数据对应于来自显著更高数量的测量位点的第二组的第二类型光学测量。处理第一测量数据用于确定所述第一组的每个测量位点中薄膜的至少一个参数的至少一个值。该至少一个参数值用于解释第二测量数据，从而获得指示所述第二组的测量位点内的所述至少一个参数的值的分布的数据。
用于薄膜测量混合系统方法

[发明专利]半导体器件的时域光学计量和检查-CN201980043924.0有效
发明人：吉拉德·巴拉克;迈克尔·舍马马;斯马达尔·费贝尔;亚伊尔·哈伊尼克;鲍里斯·列万特;泽·埃夫·林登费尔德;德罗尔·沙菲尔;尤里·希尔曼;埃拉德·施莱费尔 -专利权人： 诺威有限公司
申请日： 2019-07-18 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：半导体器件计量，包括：创建由半导体器件的图案化结构反射的光的波长域测量数据的时域表示；选择排除了时域表示的时间较晚部分的时域表示的时间较早部分；以及通过使用时域表示的时间较早部分执行基于模型的处理来确定图案化结构的一个或多个感兴趣参数的一个或多个测量。
半导体器件时域光学计量检查

[发明专利]在对图案化样本的计量测量中使用的测量系统-CN202011296807.6有效
发明人：约阿夫·贝拉茨基;瓦莱里·戴希;德罗尔·沙菲尔;丹尼·格罗斯曼 -专利权人： 诺威有限公司
申请日： 2016-04-21 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： G01B9/02001 文献下载
摘要：呈现了在对图案化样本的计量测量中使用的测量系统。该系统包括：至少一个光源设备，被配置为生成宽带光，至少一个检测设备，被配置为提供检测光的光谱信息，以及光学系统。光学系统至少包括倾斜通道系统，其用于将光源生成的入射光沿着倾斜照明通道引导到样本要定位在的测量平面上，并将从样本镜面反射的宽带光沿着收集通道引导到检测设备。光学系统进一步包括干涉测量单元，其包括分束/合束设备和参考反射器设备。分束/合束设备容纳于照明通道和收集通道中并且将在照明通道中传播的光划分为在样本路径中传播的样本光束和在参考路径中传播的参考光束，并将反射参考路径和反射样本路径组合到收集通道中从而在检测平面上形成光谱干涉图案。
图案样本计量测量使用系统

[发明专利]用于控制样本参数的测量的系统和方法-CN202180047252.8在审
发明人：巴瑞克·布兰欧利兹;奥弗·施拉格曼;拉恩·雅各比;诺姆·塔尔 -专利权人： 诺威有限公司
申请日： 2021-07-06 - 公布日： 2023-03-28 - 主分类号： G06N20/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于控制各种样本的参数的测量的系统和方法。该系统包括被配置为计算机系统的控制单元，该计算机系统包括数据输入和输出实用程序、存储器和数据处理器，并且被配置为与测量数据提供器通信，以接收指示对样本的测量的测量数据。数据处理器被配置为利用至少一个预定模型对测量数据执行基于模型的处理，并且对于样本的一个或多个感兴趣的参数的一个或多个测量中的每个测量，确定单独测量的误差值的估计上限，并且生成指示该估计上限的输出数据。
用于控制样本参数测量系统方法

[发明专利]用于OCD数据解释的自我监督表征学习-CN202180008209.0有效
发明人：拉恩·雅各比;博阿茨·斯特莱西 -专利权人： 诺威有限公司
申请日： 2021-01-06 - 公布日： 2023-01-06 - 主分类号： G01N21/47 文献下载
摘要：提供了一种用于OCD计量的系统和方法，包括：接收多个第一组散射数据，将每个组分为k个子向量，并且以自我监督的方式训练，将k个子向量中的每个映射到彼此的k2个自动编码器神经网络。随后，接收多组各自的参考参数和多个相应的第二组散射数据，并训练转移神经网络(NN)。初始层包括k2个编码器神经网络的并行排列。转移NN训练的目标输出设置为多组参考参数，特征输入设置为多个相应的第二组散射数据，以使转移NN被训练以从随后测量的散射数据集中估计新的晶片图案参数。
用于 ocd 数据解释自我监督表征学习

[发明专利]用于基于光谱的计量和过程控制的机器和深度学习方法-CN202180029438.0在审
发明人：巴瑞克·布兰欧利兹;拉恩·雅各比;诺姆·塔尔;珊·尤戈夫;博阿茨·斯特莱西;奥代德·科亨 -专利权人： 诺威有限公司
申请日： 2021-04-06 - 公布日： 2022-12-02 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：用于半导体制造中的先进过程控制(APC)的系统和方法，包括：对于多个晶片站点中的每个晶片站点，接收在实施处理步骤之前测量的散射测量训练数据的预处理集合，接收在实施处理步骤之后测量的散射测量训练数据的相应后处理集合，以及接收指示在实施处理步骤期间应用的过程控制旋钮设置的过程控制旋钮训练数据集合；以及生成机器学习模型，该机器学习模型将在散射测量训练数据的预处理集合与相应的过程控制旋钮训练数据中的变化和散射测量训练数据的相应后处理集合相关联，以训练机器学习模型来推荐对过程控制旋钮设置的更改，对预处理散射测量数据中的变化进行补偿。
用于基于光谱计量过程控制机器深度学习方法

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