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专利名称

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申请人
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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]晶片状态检测-CN202280005404.2在审
发明人： 诺亚·埃利奥特·贝克 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2022-04-29 - 公布日： 2023-03-17 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本文的各种实施例涉及用于晶片状态检测的设备和方法。在一些实施例中，提供一种用于晶片状态检测的设备，所述设备包括：RF阻塞滤波器；DC阻塞滤波器；以及控制器，所述控制器经由所述RF阻塞滤波器和所述DC阻塞滤波器耦合到与静电卡盘(ESC)相关联的多个电极，其中所述控制器被配置为：使输入信号注入与所述多个电极、所述RF阻塞滤波器和所述DC阻塞滤波器相关联的电路的输入侧，其中所述输入侧对应于第一电极；在所述电路的输出侧测量输出信号的特性，所述输出侧对应于第二电极；以及基于所述输出信号的所述特性计算定位在台板的表面上的晶片的晶片状态特性。
晶片状态检测

[发明专利]单片式各向异性衬底支撑件-CN202080088821.9在审
发明人：乔尔·霍林斯沃思;兰基山·拉奥·林加姆帕利;卡尔·弗雷德里克·利瑟;斯蒂芬·托平;诺亚·埃利奥特·贝克 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2020-10-20 - 公布日： 2022-08-02 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：衬底支撑件包括单片式各向异性主体，其包括第一层、第二层和中间层。第一层由第一材料形成并且其中设置有RF和夹持电极。第二层由第一材料或第二材料形成，其中设置有加热元件。中间层由与第一层和第二层不同的材料形成，使得以下至少一者实现：中间层的热能传导率不同于第一或第二材料中的至少一者的热能传导率；或者，中间层的电导率不同于第一材料或第二材料中的至少一者的电导率。或者中间层设置在第一层和第二层之间，或者第二层设置在第一层和中间层之间。
单片各向异性衬底支撑

[发明专利]制造室中异常等离子体事件的检测和定位-CN202080080541.3在审
发明人：崎山行则;尼拉杰·拉纳;诺亚·埃利奥特·贝克 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2020-11-18 - 公布日： 2022-07-08 - 主分类号： G01J1/42 文献下载
摘要：公开了一种用于确定在多站集成电路制造室的处理站处或附近发生的异常等离子体事件的发生的装置。在特定实施方案中，响应于异常等离子体事件而产生的光发射可以由多个光电传感器中的至少一个光电传感器检测。处理器可以与多个光传感器协作以确定异常等离子体事件已经发生在多站集成电路制造室的特定处理站处或附近。
制造异常等离子体事件检测定位

[发明专利]用于等离子体处理工具的衬底状态检测-CN201980072712.5在审
发明人： 诺亚·埃利奥特·贝克;托马斯·麦克丹尼尔 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2019-10-16 - 公布日： 2021-06-15 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：一种衬底处理工具，其能够基于所观测到的在处理期间输送至处理室的RF功率的行为来检测夹持至处理室中的夹持表面的衬底的间隙和/或偏移。RF功率的行为通过比较输送至处理室的RF功率的实RF功率分量与虚RF功率分量之间的电压‑电流相位角差异和/或阻抗幅值改变，而进行观测。
用于等离子体处理工具衬底状态检测

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