专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果9个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [实用新型]一种基于光刻胶生产设备的气泡检测装置-CN202222065633.3有效
  • 康凯;陈旺;康威;覃伯成 - 漳州思美科新材料有限公司
  • 2022-08-08 - 2022-12-27 - G01V8/10
  • 本实用新型公开了一种基于光刻胶生产设备的气泡检测装置,包括搅拌釜,所述搅拌釜的底部设置有出液管路,所述出液管路设置有两个支管,分别为循环管路和灌装管路,所述循环管路的另一端与搅拌釜的顶部连通,所述搅拌釜顶部设置有真空泵和入料口,所述出液管路上设置有输送泵、手动阀A取样口、手动阀B取样口和气泡检测传感器A,所述灌装管路上设置有气泡检测传感器B,本实用新型的有益效果:通过设置在出液管路上的气泡检测器可以检测到灌装过程中的气泡,然后引发警报,在第一时间停止灌装,利用真空泵和搅拌机构的负压将气泡排出,从而实现降低了光刻胶内部残留气泡的可能性和机率。
  • 一种基于光刻生产设备气泡检测装置
  • [实用新型]狭缝风刀显影控制装置-CN202222069273.4有效
  • 康凯;陈旺;康威;覃伯成 - 漳州思美科新材料有限公司
  • 2022-08-08 - 2022-12-27 - G03F7/30
  • 本实用新型涉及一种狭缝风刀显影控制装置,包括显影机腔体以及显影机腔体内部设置的旋转显影组件和狭缝风刀组件,所述旋转显影组件包括设置于上部的喷头模块和旋转模块,所述喷头组件包括显影液喷头和去离子水喷头,所述旋转组件包括旋转马达和设置于旋转马达上的旋转平台,所述狭缝风刀组件设置于显影机腔体上部,斜对着旋转平台。本实用新型增加了狭缝风刀,通过干燥空气将显影液和水去除,增强去除效果,配合显影降低转速,减少光刻胶底部的药液渗入。
  • 狭缝显影控制装置
  • [实用新型]一种PLC控制的实验室用集成式涂胶烘烤机-CN202123067782.5有效
  • 康凯;陈旺;康威;覃伯成 - 深圳迪道微电子科技有限公司
  • 2021-12-08 - 2022-09-02 - B05C13/02
  • 本实用新型涉及一种PLC控制的实验室用集成式涂胶烘烤机,包括装置本体,装置本体顶部外接有排气管,装置本体内水平方向设置有传动装置I,传动装置I一侧沿传动方向依次设置有花篮、旋转涂胶装置、烘烤装置和冷却装置,传动装置I上设置有操作装置,操作装置包括机械手和设置在机械手下方的吸盘。通过设置传动装置和增加机械手,并通过PLC控制,实现了半导体硅片从涂胶到烘烤的自动传片,提高了效率,减少了人力成本,同时减少了人工操作差异对结果带来的影响;通过集中的排气管路限制溶剂挥发后的发散,统一处理,降低了环境污染和对人体的损害。
  • 一种plc控制实验室集成涂胶烘烤
  • [实用新型]一种厌氧环境烤胶机-CN202123067771.7有效
  • 康凯;陈旺;康威;覃伯成 - 深圳迪道微电子科技有限公司
  • 2021-12-08 - 2022-09-02 - B05D3/02
  • 本实用新型涉及一种厌氧环境烤胶机,包括烘烤腔,烘烤腔内设置有隔板和托盘,隔板将烘烤腔分成上腔体和下腔体,隔板开设有通孔,通孔形状与托盘一致,大小不小于托盘,托盘下方通过升降杆连接有电缸,烘烤腔接设有氮气管路,氮气管路另一端连接有氮气瓶,下腔体还接设有抽气管路,抽气管路与抽气泵连接,下腔体下方设置有加热板。本实用新型通过设置两层腔体,加热时不会因空间过小对半导体硅片造成提前加热,电缸升降杆控制托盘分隔两层腔体,仅对下层腔体抽真空,避免直接负压抽气造成光刻胶涂层不均匀,减少了氮气用量和供应时间,对两层腔体分别通氮气保护,有效实现烘烤过程的厌氧环境,降低了材料的黄变率。
  • 一种环境烤胶机
  • [实用新型]一种实验室单体显影机-CN202123070055.4有效
  • 康凯;陈旺;康威;覃伯成 - 深圳迪道微电子科技有限公司
  • 2021-12-08 - 2022-08-05 - G03F7/30
  • 本实用新型涉及一种实验室单体显影机,包括显影机腔体,显影机腔体顶部设置有上盖,上盖底面中心位置设置有显影液喷头和去离子水喷头,显影液喷头包括若干组带螺纹管头和狭缝,上盖底面铺设有管路,显影液喷头和去离子水喷头通过管路与供液瓶连通,管路中设置有供液泵,显影机腔体内通过丝杆支撑固定有吸盘,丝杆下方设置有电机。本实用新型将显影机上盖由平坦改为中间高,两侧低的设计,引导液滴沿侧壁流下,避免蒸汽凝结滴落;底部铺设倾斜的槽状防水底层,利于累积的液体自流排出;腔体外侧追加排风口和抽风机,将水分抽出,减少显影机内的水分对半导体质量造成影响;将显影液喷头改为线形的狭缝式,使显影液喷出均匀稳定,减少飞溅。
  • 一种实验室单体显影
  • [实用新型]一种光刻胶生产自动过滤装置-CN202123446643.3有效
  • 康凯;陈旺;康威;覃伯成 - 深圳迪道微电子科技有限公司
  • 2021-12-31 - 2022-06-14 - B01D35/02
  • 本实用新型涉及一种光刻胶生产自动过滤装置,包括反应釜、滤芯和管路,反应釜底部通过管路与滤芯连接,管路上设置有液体泵I,滤芯下游接设有电磁阀I,电磁阀I下游接设返回管路和收集管路,返回管路与反应釜连接,收集管路下游接设合格液腔,滤芯和电磁阀I之间设置有颗粒计数仪I。本实用新型通过将取样口设置在过滤器后,避免了混合时间差对异物检测结果产生影响;并将取样口与颗粒计数仪连接,提高过滤效率,解放人力,实现实时取样检测,解决了数据检测的滞后性问题;在过滤器后增加一条管路,实现合格液的自动收集,不合格液自动返回循环;对合格液进行复测,保证含量检测的准确性。
  • 一种光刻生产自动过滤装置
  • [实用新型]一种光刻胶减压干燥装置-CN202123070025.3有效
  • 康凯;陈旺;康威;覃伯成 - 深圳迪道微电子科技有限公司
  • 2021-12-08 - 2022-05-13 - G03F7/38
  • 本实用新型涉及一种光刻胶减压干燥装置,包括抽气干泵、腔体和抽气管路,抽气干泵与腔体通过抽气管路连通,抽气管路上设置有手动阀,腔体一侧设置有腔门,腔体底部开设有抽气孔和中心通孔,抽气管路接设在抽气孔下方,腔体底部穿过中心通孔设置有丝杆,丝杆上端设置有托盘,下端设置有电缸。本实用新型在软烤之前对光刻胶进行真空抽气干燥,提升了溶剂的挥发效率,使软烤时间缩短,软烤温度降低,烘干工艺生产效率提升,减少了烘箱中的凝结物产生,延长了设备的维护周期,同时配有升降马达,根据不同抽气压力调整硅片的高度,保证溶剂挥发均匀。
  • 一种光刻减压干燥装置
  • [实用新型]一种半导体清洗改良装置-CN202123069982.4有效
  • 康凯;陈旺;康威;覃伯成 - 深圳迪道微电子科技有限公司
  • 2021-12-08 - 2022-05-10 - H01L21/67
  • 本实用新型涉及一种半导体清洗改良装置,包括清洗槽和设置在清洗槽内的硅片夹,清洗槽底部外接有进液管路,清洗槽侧壁外接有溢流管路,硅片夹内侧沿竖直方向并列设置有若干支架,支架上均垂直清洗槽内壁延伸出若干横梁,水平方向相邻横梁之间距离大于硅片厚度,横梁沿竖直方向对齐形成若干纵列,硅片放置在相邻纵列的横梁之间形成的纵向空间。本实用新型结构简单,通过马达在去离子水浸泡过程中带动硅片夹前后震荡,硅片上的药液与去离子水摩擦接触实现冲洗,提升了清洗效果,使图形密集区的药液及时散开,避免过腐蚀;在喷洗和背洗阶段持续增加新液体,实时溢流排液,改善了清洗槽的换液效果,保证去离子水的清洗能力,节约了水量。
  • 一种半导体清洗改良装置

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top