专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]晶圆清洗设备中的清洗喷头、晶圆清洗方法及设备-CN202010061813.7有效
  • 陈洁;巫双;张凇铭;裴立坤 - 北京北方华创微电子装备有限公司
  • 2020-01-19 - 2022-09-16 - B08B3/02
  • 本发明提供一种晶圆清洗设备中的清洗喷头、晶圆清洗方法及设备,该清洗喷头包括喷头本体,所述喷头本体中设置有混合腔及均与所述混合腔连通的清洗液通道、至少两条气体通道、喷淋通道,所述清洗液通道用于向所述混合腔中通入清洗液,所述至少两条气体通道用于向所述混合腔中通入清洗气体,所述清洗液和所述清洗气体在所述混合腔混合后通过所述喷淋通道喷出;所述喷淋通道的喷淋口位于所述喷头本体的喷淋面上,所述喷淋面为内锥面,所述喷淋口位于所述喷淋面的中心位置。应用本发明可以将少量清洗液打散成大量小液滴,以小液滴的形式向晶圆进行喷淋,可有效节省清洗液的用量,节约清洗成本。
  • 清洗设备中的喷头方法
  • [实用新型]一种多层存储台装置-CN201420001669.8有效
  • 李广义;王锐廷;赵宏宇;张豹;裴立坤 - 北京七星华创电子股份有限公司
  • 2014-01-02 - 2014-06-11 - B65G1/02
  • 本实用新型公开了一种多层存储台装置,其调平底座包括位于下层的支撑板,位于上层的调节板,设于支撑板和调节板之间的调平部件,以及固定支撑板和调节板的锁紧部件;其支撑脚支撑为成对的支撑脚支撑架,调节板通过一对相向设置的连接侧板与所述支撑脚支撑架固接,支撑脚支撑架在连接侧板的内侧可沿竖直方向相向多层设置;每层支撑脚支撑架的上表面设有若干个支撑脚。本实用新型可使晶圆得以多层存储,提高机械手的利用率,增加生产产量,具有结构简单、易实现、可节省设备占地面积的显著特点。
  • 一种多层存储装置
  • [发明专利]一种多层存储台装置-CN201410001185.8有效
  • 李广义;王锐廷;赵宏宇;张豹;裴立坤 - 北京七星华创电子股份有限公司
  • 2014-01-02 - 2014-04-02 - B65G1/02
  • 本发明公开了一种多层存储台装置,其调平底座包括位于下层的支撑板,位于上层的调节板,设于支撑板和调节板之间的调平部件,以及固定支撑板和调节板的锁紧部件;其支撑脚支撑为成对的支撑脚支撑架,调节板通过一对相向设置的连接侧板与所述支撑脚支撑架固接,支撑脚支撑架在连接侧板的内侧可沿竖直方向相向多层设置;每层支撑脚支撑架的上表面设有若干个支撑脚。本发明可使晶圆得以多层存储,提高机械手的利用率,增加生产产量,具有结构简单、易实现、可节省设备占地面积的显著特点。
  • 一种多层存储装置
  • [实用新型]一种模块化硅片清洗系统-CN201220704084.3有效
  • 朱攀;贾星杰;赵宏宇;裴立坤;徐俊成 - 北京七星华创电子股份有限公司
  • 2012-12-18 - 2013-08-14 - H01L21/67
  • 本实用新型提供一种模块化硅片清洗系统,其包括:传片区、工艺区和化学药液分配区,所述传片区包括第一机械手、硅片盒、第一主体骨架以及分别设于第一主体骨架上的第一机械手直线运动单元和硅片装载埠;所述工艺区包括第二机械手、第二主体骨架、以及分别设于第二主体骨架上的第二机械手直线运动单元、工艺清洗腔室;所述第二主体骨架与第一主体骨架可拆卸连接;所述化学药液分配区包括第三主体骨架和设于第三主体骨架上的输液管路,所述第三主体骨架与第二主体骨架可拆卸连接。本实用新型提供的模块化硅片清洗系统由于各组成部分能够独立地安装及拆卸,从而使该硅片清洗系统功能多样,能够满足各种不同的清洗工艺,且能够实现更复杂的功能。
  • 一种模块化硅片清洗系统
  • [实用新型]化学药液供给系统-CN201220717785.0有效
  • 初国超;何金群;裴立坤;王锐廷;王营营 - 北京七星华创电子股份有限公司
  • 2012-12-21 - 2013-08-14 - F17D1/14
  • 本实用新型涉及自动化控制技术,具体公开了一种化学药液供给系统。所述系统包括主用储液罐、备用储液罐、供液装置和控制器,其中:供液装置分别与主用储液罐、备用储液罐以及控制器相连接;主用储液罐及备用储液罐用于储存并提供化学药液;供液装置用于接收控制器的指令,并根据指令将主用储液罐或备用储液罐中的化学药液输送给外部设备;控制器用于控制供液装置将化学药液输送给外部设备。本实用新型提出的化学药液供给系统能够在不间断供给的情况下更换药液储液罐,液体流动相对封闭,且能够解决药液流量变化较大时同一套供液系统不兼容的问题。
  • 化学药液供给系统
  • [实用新型]一种化学液分配系统-CN201320057575.8有效
  • 周传霞;刘福生;何金群;裴立坤 - 北京七星华创电子股份有限公司
  • 2013-01-31 - 2013-08-14 - F17D1/14
  • 本实用新型提供一种化学液分配系统,该系统包括分别与机台相连的交替工作的两套相同的子系统,所述子系统包括与在线混合单元相连的第一化学液通路和第二化学液通路,其中第一化学液通路包括依次连接的第一气动阀、第一缓冲罐、第二气动阀和计量泵,其中第二化学液通路包括依次连接的第三气动阀、第二缓冲罐、第四气动阀、隔膜泵和脉冲消除装置,其中在线混合单元用于将所述第一化学液通路和第二化学液通路流出的化学液进行混合后传输至机台。本实用新型可以避免由于厂端供液时压力波动对化学液流量的影响,同时双系统设计提高了设备的稳定性及配比比例精准度,易于实现。
  • 一种化学分配系统
  • [发明专利]半导体晶圆制造装置-CN201110441994.7有效
  • 赵宏宇;张晓红;裴立坤;张豹;王锐廷 - 北京七星华创电子股份有限公司
  • 2011-12-26 - 2013-06-26 - H01L21/67
  • 本发明公开了一种半导体晶圆制造装置,涉及半导体晶圆制造技术领域,包括:至少两个机械手(1)、至少一套化学与气源分配系统(2)和多个风循环过滤系统(3),所述风循环过滤系统(3)分为前部区域、中部区域和侧部区域,所述前部区域、中部区域和侧部区域分别由使各区域达到均一风量和压力的同一电机控制。本发明通过对风循环过滤系统进行分区域控制,能够提高晶圆制造装置内部的洁净等级;其次,本发明使用多自由度双臂机械手,具有更高的传片效率;另外,本发明采用稳定均一的化学气体、液体分配系统,从而可在每单位面积中有更高的产品良率产出。
  • 半导体制造装置
  • [实用新型]化学液混合装置-CN201220481508.4有效
  • 何金群;刘福生;王锐廷;裴立坤 - 北京七星华创电子股份有限公司
  • 2012-09-19 - 2013-06-19 - B01F3/08
  • 本实用新型公开了一种化学液混合装置,包括:化学液返回管、化学液回收管、补充液输出管第一混合器和第二混合器,所述化学液返回管、化学液回收管和补充液输出管的输出端连接为一个第一输出端;所述第一混合器与第一输出端连接;所述第二混合器通过液体输送管与第二混合器连接。本实用新型提供的化学液混合方法及装置,可以有效解决现有半导体工艺设备中存在的补液不均匀问题,结构简单,易于实现。
  • 化学混合装置
  • [实用新型]化学药液储液罐转换连接器-CN201220696712.8有效
  • 徐能;初国超;裴立坤;吴仪 - 北京七星华创电子股份有限公司
  • 2012-12-14 - 2013-06-19 - B65D90/00
  • 本实用新型提供一种化学药液储液罐转换连接器,所述化学药液储液罐转换连接器设有供液连接口、补气连接口、超压溢流排气孔和回液连接口。本实用新型的化学药液储液罐转换连接器将供液、回液、补气和超压溢流排气等功能连接集成于一体,可满足复杂和不同的药液输送工艺使用要求;当储液罐内气压大于设定压力时,超压溢流排气孔排气,使罐内气压稳定,有利于供液的稳定,并且超压排气的临界压力可调;带有多孔板的回液连接口,可以减小回流药液对储液罐内药液的冲击,有利于供液和药液本身的稳定,且减小了噪音。
  • 化学药液储液罐转换连接器
  • [实用新型]一种空气调节监测系统-CN201220647481.1有效
  • 孙文婷;赵宏宇;裴立坤;高浩 - 北京七星华创电子股份有限公司
  • 2012-11-29 - 2013-06-19 - B08B13/00
  • 本实用新型提供一种空气调节监测系统,应用于半导体清洗设备,该系统包括:主框架、风机机组、风机固定支架、均风装置、可调层流装置、气体压力传感器、静电阻抗器、静电监视器以及空气洁净度测试装置;均风装置位于风机机组风向的下方,可调层流装置位于设备底部,气体压力传感器和空气洁净度测试装置位于设备内部,静电阻抗器和静电监视器位于主框架上。本实用新型主要用于消除半导体清洗机内部环境中的各项污染源,使半导体清洗机内部始终处于恒定压力值的稳定层流环境,有效防止和去除空气中的颗粒和浮尘,方便地了解设备内部洁净度,并且有效消除设备内部产生的静电,从而大大降低了硅片受到致命缺陷污染的可能性,最终使芯片成品率增加,降低电子元器件的生产制造成本。
  • 一种空气调节监测系统

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