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[发明专利]一种荧光成像装置及其成像方法-CN202010757526.X有效
发明人： 裴万生 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2020-07-31 - 公布日： 2021-11-26 - 主分类号： G01N15/14 文献下载
摘要：本发明涉及一种荧光成像装置及其成像方法，本发明装置包括至少一激光器、分光装置、流动室、第一探测单元及荧光成像单元；第一探测单元包括第一探测器，第一探测器用于检测所述第一散射光信号的第一部分，以识别颗粒的特征；荧光成像单元用于分析第二照明光路的散射光信号和荧光探测信号，荧光成像单元包括第二探测器，第二探测器用于检测所述第二散射光信号和第二荧光探测信号，以进行成像分析。本发明可有效解决现有技术中细胞成像分析效率低的问题，通过增加荧光成像光路系统可以获取颗粒图像，同时还能识别颗粒的特征信息，将能量探测与成像分析相结合，使分析方式多元化，且分析分选颗粒的速度快、效率高，使得颗粒分选的准确性也大大提高。
一种荧光成像装置及其方法

[发明专利]一种颗粒分选装置及方法-CN202010406155.0有效
发明人： 裴万生 -专利权人：洹仪科技（上海）有限公司
申请日： 2020-05-13 - 公布日： 2021-01-01 - 主分类号： G01N15/14 文献下载
摘要：本申请实施例提供了一种颗粒分选装置及方法，其中所述装置流动室和喷嘴，所述流动室用于限制颗粒的流动，所述喷嘴用于按照所述颗粒的特征调整大小；所述喷嘴包括第三调整件，所述第三调整件设置在所述流动室的下部，所述第三调整件为内径可变的环形。本申请实施例提供的一种颗粒分选装置及方法，能够可以连续调整喷嘴的直径大小。
一种颗粒分选装置方法

[发明专利]一种颗粒分析分选装置及方法-CN202010405704.2在审
发明人： 裴万生 -专利权人：洹仪科技（上海）有限公司
申请日： 2020-05-13 - 公布日： 2020-08-11 - 主分类号： G01N15/14 文献下载
摘要：本申请实施例提供了一种颗粒分析分选装置及方法，其中所述装置包括上样模块、探测模块、控制模块和分选模块；所述上样模块用于将包含颗粒的样本液放入上样装置中；所述探测模块用于获取所述液滴以下特征中的一个或多个：所述液滴的液滴形貌图像、所述液滴的大小、所述液滴的荧光特征信息、所述液滴内所述颗粒的特征；所述控制模块用于利用所述液滴的特征得到所述液滴的分选分类；所述分选模块用于利用所述液滴的分选分类，将所述液滴放入指定位置。本申请实施例提供的一种颗粒分析分选装置及方法，能够提高颗粒分析分选的效率和准确率。
一种颗粒分析分选装置方法

[发明专利]一种颗粒分析分选装置及方法-CN202010406154.6在审
发明人： 裴万生 -专利权人：洹仪科技（上海）有限公司
申请日： 2020-05-13 - 公布日： 2020-08-11 - 主分类号： G01N15/14 文献下载
摘要：本申请实施例提供了一种颗粒分析分选装置及方法，其中所述装置包括激光器、液流室、第四探测器、散射光探测单元和分选板；所述激光器用于发射至少一种激光，所述激光照射到所述液流室中的颗粒上；所述液流室用于限制所述颗粒的流动，使得所述颗粒依次受到所述激光的照射产生光信号，所述光信号包括荧光信号和散射光信号；所述散射光探测单元用于分析所述散射光信号；所述第四探测器用于检测所述光信号的第三部分，获取所述颗粒的形貌图像；所述分选板用于利用所述颗粒的特征将所述颗粒放入指定位置。本申请实施例提供的一种颗粒分析分选装置及方法，能够实时、高效地分析分选颗粒。
一种颗粒分析分选装置方法

[发明专利]一种微粒分析分选装置及方法-CN202010406122.6在审
发明人： 裴万生 -专利权人：洹仪科技（上海）有限公司
申请日： 2020-05-13 - 公布日： 2020-08-07 - 主分类号： G01N15/14 文献下载
摘要：本申请实施例提供了一种微粒分析分选装置及方法，其中所述装置包括激光器、第一镜头、液流室、缓冲区、第一探测单元、第二探测单元以及分选板；所述激光器用于发射至少一种激光；所述第一镜头用于将所述激光分为第一激光和第二激光使得所述第一激光照射到所述液流室中的微粒上；所述第一探测单元用于检测所述荧光信号和所述散射光信号；所述第二探测单元用于检测所述动态光散射信号；所述分选板用于利用所述微粒的特征将所述微粒放入指定位置。本申请实施例提供的一种微粒分析分选装置及方法，能够有效分析直径在0.2nm‑100um范围内的微粒。
一种微粒分析分选装置方法

[实用新型]消光装置、光学系统及光刻机-CN201820165275.4有效
发明人： 裴万生;刁雷;周剑锋 -专利权人：上海微电子装备(集团)股份有限公司
申请日： 2018-01-31 - 公布日： 2018-08-28 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种消光装置、光学系统及光刻机。该消光装置包括消光本体；消光本体包括受光面；受光面上设置有多个阵列排布的消光凹槽，以使进入到消光凹槽的光线在消光凹槽内发生多次反射。本实用新型通过提供一种包括消光本体的消光装置；并设置消光本体包括受光面；受光面上设置有多个阵列排布的消光凹槽，以使进入到消光凹槽内的光线在消光凹槽内发生多次反射，以促使杂散光的能量消散，进而达到消除杂散光的目的，解决了现有的消除杂散光的方法无法消除光线在光学系统内传播过程中产生的杂散光的问题，达到了消除光线在光学系统内传播过程中产生的杂散光，提高光学系统的性能的目的。
消光光学系统杂散光本实用新型传播过程多次反射多个阵列光刻机受光面排布受光能量消散