专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]微透镜阵列-CN200910168351.2有效
  • 末广一郎;片山博之;赤沢光治;薄井英之 - 日东电工株式会社
  • 2009-08-27 - 2010-03-03 - G02B3/00
  • 本发明提供一种微透镜阵列,其是通过将由硅化合物与硼化合物或铝化合物反应而获得的树脂进行成形而制成,其中该硅化合物由下式(I)表示,其中R1和R2各自独立地表示烷基、环烷基、烯基、炔基或者芳基,其中多个R1是相同或不同的并且多个R2是相同或不同的;X表示羟基、烷氧基、烷基、环烷基、烯基、炔基或者芳基;n是4~250。即使当应用于具有增加功率的LED和发射具有短波长的蓝光的LED时,该微透镜阵列也具有优异的耐热性和耐光性。
  • 透镜阵列
  • [发明专利]生产光学波导的方法-CN200510089320.X有效
  • 宗和范;望月周;清水裕介;内藤龙介;薄井英之 - 日东电工株式会社
  • 2005-08-02 - 2006-02-15 - G02B6/13
  • 本发明提供了一种生产光学波导的方法,其包括以下步骤:连续地涂覆芴衍生物层到连续基片上,并固化该层从而形成下部包层;连续地涂覆光敏性芴衍生物层到下部包层上;通过具有预定图案的光掩模连续地曝光涂覆了的光敏性芴衍生物层;连续地对曝光了的光敏性芴衍生物层进行曝光后加热;连续地显影加热的光敏性芴衍生物层以除去其中未曝光的区域,从而形成预定的图案;固化显影了的光敏性芴衍生物层,从而在下部包层上形成具有预定图案的芯层;和在下部包层上连续地涂覆芴衍生物层,以覆盖芯层,并固化芴衍生物层从而形成上部包层。
  • 生产光学波导方法

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