专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]装载单元以及处理系统-CN201210099881.8有效
  • 菊池浩 - 东京毅力科创株式会社
  • 2012-04-06 - 2012-10-17 - H01L21/677
  • 本发明提供能够避免增大升降机构的能力的必要性,并且能够抑制该升降机构的高成本化的装载单元。装载单元为了对基板(W)实施热处理而使保持有多个基板的基板保持件(58)相对于筒体状的处理容器(46)升降。这种装载单元具备:升降机构(66),该升降机构(66)保持基板保持件和帽(62),并使该基板保持件和帽(62)升降;以及推压机构(86),该推压机构(86)具有压电致动器(88),该推压机构(86)是为了将位于处理容器的下端的开口部(44)的帽(62)朝上方推压而设置的。由此,避免了增大升降机构的能力的必要性,并且抑制了该升降机构的高成本化。
  • 装载单元以及处理系统
  • [发明专利]半导体制造装置中的地震受害扩散减轻方法和系统-CN200810178487.7有效
  • 菅原佑道;菊池浩 - 东京毅力科创株式会社
  • 2008-12-01 - 2009-06-03 - H01L21/00
  • 本发明提供一种半导体制造装置中的地震受害扩散减轻方法和系统,包括:具有收纳容器的搬送机构的搬送区域;通过搬入搬出部从收纳容器取下盖并检测被处理体位置的检测机构;从搬送机构将收纳容器交至移载部的交接机构;设在热处理炉下方作业区域、将保持件支撑在盖体上并向热处理炉出入的升降机构;使分割搬送和作业区域的隔壁的开口部与移载部的收纳容器的盖同时开关的门机构;被处理体排列机构。经由通信线路发布的基于初期微动的紧急地震信息由接收部接收或初期微动检测部直接检测初期微动。控制部实行基于接收部接收的紧急地震信息或初期微动检测部检测的初期微动停止半导体制造装置运转的第一工序以及当门机构为打开状态时使其关闭的第二工序。
  • 半导体制造装置中的地震受害扩散减轻方法系统
  • [发明专利]立式热处理装置及移载机构的自动示教方法-CN200580009616.4有效
  • 浅利聪;三原胜彦;菊池浩 - 东京毅力科创株式会社
  • 2005-03-25 - 2007-03-21 - H01L21/68
  • 本发明涉及立式热处理装置(1)的移载机构(21),其具有可升降及可旋转的基台(25)和配置在该基台上的可进退并支承晶片(W)的多个基板支承件(20)。在基台(25)上,设置有向基板支承件(20)的前进后退方向射出光线、并利用该反射光检测目标部件的第一传感器(45);并在基板支承件(20)的两个前端部,设置有通过遮挡在两前端部之间行进的光线、检测目标部件的第二传感器(40)。在特定位置设有位置检测用的突起(49)和(50)的目标部件(44)设置于晶舟(8)的规定位置,基台(25)升降并旋转,且基板支承件(20)进退。根据此时所得的第一传感器(45)和第二传感器的检测信号,以及与基台(25)和基板支承件(20)的动作相关的各驱动系统的编码值,自动检测目标部件的位置,即晶片的目标移载位置。
  • 立式热处理装置机构自动方法
  • [发明专利]立式热处理装置和被处理体移送方法-CN200580000305.1有效
  • 浅利聪;三原胜彦;菊池浩 - 东京毅力科创株式会社
  • 2005-03-25 - 2006-05-17 - F27B5/12
  • 在立式热处理装置中,通过被处理体收纳容器(托架)(16)和环状支撑板(15)在与上下方向隔开间隔保持多个被处理体的被处理体保持工具(舟皿)(9)之间移送被处理体的改良移送机构(21),具有多个基板支撑工具(20),各基板支撑工具包括在下侧夹紧被处理体W的夹紧机构(28),各夹紧机构具有固定在基板支撑工具前端卡止被处理体W前缘部的固定卡止部(30);和可移动设在基板支撑工具(20)基端部来可装卸卡止被处理体W后缘部的可动卡止部(31)。能同时迅速可靠移送多个被处理体W。利用夹紧机构的结构,可减小基板支撑工具的厚度和环状支撑板的配置间距,可增大在热处理炉内一次处理的被处理体W的片数,可提高生产率。
  • 立式热处理装置处理移送方法

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