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- [发明专利]装载单元以及处理系统-CN201210099881.8有效
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菊池浩
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东京毅力科创株式会社
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2012-04-06
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2012-10-17
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H01L21/677
- 本发明提供能够避免增大升降机构的能力的必要性,并且能够抑制该升降机构的高成本化的装载单元。装载单元为了对基板(W)实施热处理而使保持有多个基板的基板保持件(58)相对于筒体状的处理容器(46)升降。这种装载单元具备:升降机构(66),该升降机构(66)保持基板保持件和帽(62),并使该基板保持件和帽(62)升降;以及推压机构(86),该推压机构(86)具有压电致动器(88),该推压机构(86)是为了将位于处理容器的下端的开口部(44)的帽(62)朝上方推压而设置的。由此,避免了增大升降机构的能力的必要性,并且抑制了该升降机构的高成本化。
- 装载单元以及处理系统
- [发明专利]立式热处理装置及移载机构的自动示教方法-CN200580009616.4有效
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浅利聪;三原胜彦;菊池浩
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东京毅力科创株式会社
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2005-03-25
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2007-03-21
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H01L21/68
- 本发明涉及立式热处理装置(1)的移载机构(21),其具有可升降及可旋转的基台(25)和配置在该基台上的可进退并支承晶片(W)的多个基板支承件(20)。在基台(25)上,设置有向基板支承件(20)的前进后退方向射出光线、并利用该反射光检测目标部件的第一传感器(45);并在基板支承件(20)的两个前端部,设置有通过遮挡在两前端部之间行进的光线、检测目标部件的第二传感器(40)。在特定位置设有位置检测用的突起(49)和(50)的目标部件(44)设置于晶舟(8)的规定位置,基台(25)升降并旋转,且基板支承件(20)进退。根据此时所得的第一传感器(45)和第二传感器的检测信号,以及与基台(25)和基板支承件(20)的动作相关的各驱动系统的编码值,自动检测目标部件的位置,即晶片的目标移载位置。
- 立式热处理装置机构自动方法
- [发明专利]立式热处理装置和被处理体移送方法-CN200580000305.1有效
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浅利聪;三原胜彦;菊池浩
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东京毅力科创株式会社
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2005-03-25
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2006-05-17
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F27B5/12
- 在立式热处理装置中,通过被处理体收纳容器(托架)(16)和环状支撑板(15)在与上下方向隔开间隔保持多个被处理体的被处理体保持工具(舟皿)(9)之间移送被处理体的改良移送机构(21),具有多个基板支撑工具(20),各基板支撑工具包括在下侧夹紧被处理体W的夹紧机构(28),各夹紧机构具有固定在基板支撑工具前端卡止被处理体W前缘部的固定卡止部(30);和可移动设在基板支撑工具(20)基端部来可装卸卡止被处理体W后缘部的可动卡止部(31)。能同时迅速可靠移送多个被处理体W。利用夹紧机构的结构,可减小基板支撑工具的厚度和环状支撑板的配置间距,可增大在热处理炉内一次处理的被处理体W的片数,可提高生产率。
- 立式热处理装置处理移送方法
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