专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]图案生成方法以及信息处理装置-CN201510434239.4有效
  • 石井弘之;中山谅;荒井祯 - 佳能株式会社
  • 2015-07-22 - 2019-11-05 - G03F1/36
  • 本发明提供一种图案生成方法以及信息处理装置。所述图案生成方法包括:限定步骤,在各单元中限定主图案的占有区;布置步骤,相邻布置第一单元和具有在所述主图案的占有区外部的辅助图案的第二单元,使得所述第二单元的所述占有区外部的辅助图案存在于所述第一单元的主图案的占有区中;以及生成步骤,通过在相邻布置的所述第一单元和所述第二单元中的、所述第二单元的所述占有区外部的辅助图案的图案元素与所述第一单元中的所述主图案接近或交叠的部分中,去除所述辅助图案的图案元素,来生成所述掩模的图案。
  • 图案生成方法以及信息处理装置
  • [发明专利]产生方法和信息处理装置-CN201410053642.8有效
  • 荒井祯 - 佳能株式会社
  • 2014-02-18 - 2018-01-26 - G03F1/00
  • 本发明涉及一种产生方法和信息处理装置。本发明提供一种产生在用于曝光基板的曝光装置中使用的多个掩模的图案的数据的产生方法,产生方法包括以下步骤根据以要在基板上形成的图案要素为交点的网格上的多个点规定容许在构成要在基板上形成的目标图案的目标图案要素的点以外转印图案的容许点的步骤;和对包含到相邻的目标图案要素的距离比曝光装置的分辨率极限短的目标图案要素的图案要素组将间隙被容许点填充的网格上的相邻的目标图案要素形成组的步骤。
  • 产生方法信息处理装置
  • [发明专利]图案生成方法-CN201310226984.0无效
  • 三上晃司;荒井祯;石井弘之 - 佳能株式会社
  • 2013-06-08 - 2014-01-01 - G03F1/36
  • 一种图案生成方法,用于使用计算机来生成用于生成掩模的图案的单元的图案,包括:获得单元的图案的数据;通过重复改变当具有单元的图案的掩模受照射以将单元的图案的图像投影到基板上以使基板曝光时的曝光条件的参数值、以及单元的图案的参数值来计算单元的图案的图像以获得图像的评价值;以及确定当评价值满足预定的评价标准时的单元的图案的参数值。
  • 图案生成方法
  • [发明专利]掩模数据产生方法-CN201310220118.0无效
  • 荒井祯 - 佳能株式会社
  • 2013-06-05 - 2013-12-25 - G06F17/50
  • 本发明公开了掩模数据产生方法。掩模数据产生方法包括:获得包含多个图案要素的图案的数据;通过使用获得的图案的数据将图案的区域分成多个部分以使得各图案要素被布置在各部分中,并产生包含指示各部分中的图案要素的有无的信息的地图数据;通过使用禁止在包含一个部分及其周围的部分的约束区域中设定相同掩模个体信息的约束条件和地图数据,对于包含图案要素的各部分设定多条掩模个体信息中的一条掩模个体信息;和通过使用设定的掩模个体信息产生与多条掩模个体信息对应的多个掩模的数据。
  • 数据产生方法
  • [发明专利]产生方法和信息处理设备-CN201310076853.9有效
  • 荒井祯 - 佳能株式会社
  • 2013-03-12 - 2013-09-18 - G03F7/20
  • 本发明涉及一种产生方法和信息处理设备。具体地,提供一种产生用于要被用于曝光设备的掩模图案的数据的产生方法和信息处理设备,所述曝光设备包括用于将包括主图案和辅助图案的掩模图案投射到基板上的投射光学系统,所述产生方法包括:设置产生条件的步骤,在所述产生条件下产生辅助图案;和确定描述指示计算的掩模图案的图像的质量的指数的估计函数的值是否落入容许范围之内的步骤,其中,如果确定估计函数的值落在容许范围之外,则改变产生条件以设置新的产生条件。
  • 产生方法信息处理设备
  • [发明专利]确定曝光条件和掩模图案的方法-CN201110310460.0有效
  • 荒井祯 - 佳能株式会社
  • 2011-10-14 - 2012-05-16 - G03F7/20
  • 本发明涉及确定曝光条件和掩模图案的方法,所述确定曝光条件和掩模图案的方法包括:设定曝光条件和掩模图案;使用设定的曝光条件、使用描述掩模图案的图像的质量的指标的第一评价函数来暂时确定掩模图案;使用暂时确定的掩模图案和设定的曝光条件计算描述掩模图案的图像的质量的指标的第二评价函数的值;基于计算的第二评价函数的值改变曝光条件和掩模图案;以及判断是否要执行重复暂时确定步骤和计算步骤的处理。在判断步骤中,在最新的第二步骤中暂时确定的掩模图案和在最新的第四步骤中改变的曝光条件分别被确定为掩模图案和曝光条件。
  • 确定曝光条件图案方法

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