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[发明专利]一种多片式高精度专用反应腔-CN202210684563.1在审
发明人：郑锦;范嘉磊;刘松;李立松 -专利权人：南京原磊纳米材料有限公司
申请日： 2022-06-16 - 公布日： 2022-09-30 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明涉及半导体加工技术领域，具体公开了一种多片式高精度专用反应腔，包括反应腔体、执行电缸、电缸顶板、导轴、内腔上腔体、内腔下腔体和挂钩，执行电缸设置于反应腔体的上方，电缸顶板设置于执行电缸的上方，内腔上腔体设置于反应腔体的内部，导轴贯穿反应腔体设置于电缸顶板与内腔上腔体之间，内腔下腔体设置于内腔上腔体的下方，内腔上腔体内设置有上筛板，内腔下腔体内设置有下筛板，挂钩设置于上筛板的下端。以上结构的设置，可以使得多片式高精度专用反应腔既能够满足多个晶圆同时反应，又能满足自动化使用。
一种多片式高精度专用反应

[实用新型]一种用于真空传送腔体的真空密封门及半导体设备-CN202220459593.8有效
发明人：郑锦;范嘉磊;李立松;倪明;刘松 -专利权人：南京原磊纳米材料有限公司
申请日： 2022-03-03 - 公布日： 2022-07-26 - 主分类号： E05F15/48 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于真空传送腔体的真空密封门及半导体设备，真空密封门包括门板、导向架及驱动气缸。门板与导向架连接，驱动气缸设置在真空传送腔体的一侧，驱动气缸的运动部件与导向架固定连接，门板和导向架可在气缸的驱动下实现对真空传送腔体的开闭动作。门板朝向闭合运动方向的一端设有防夹块，防夹块与所述门板之间设有驱动气缸的气路的快插接头，防夹块受到大于预设压力值的压力时会关断驱动气缸的快插接头。上述真空密封门，在真空密封门关闭过程中防夹块撞到操作人员肢体或者其他异物受力，当压力大于一定值会关断快插接头，阻止驱动气缸动作，避免门板继续运动夹伤人体或损伤机械结构，保障操作人员的操作和日常维护安全。
一种用于真空传送密封半导体设备

[实用新型]一种ALD批量生产高温冷却工艺装卸平台-CN202123187025.1有效
发明人：郑锦;范嘉磊;付长杰;倪明;李虎;王亚东;刘松;朱静静 -专利权人：南京原磊纳米材料有限公司
申请日： 2021-12-17 - 公布日： 2022-05-06 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种ALD批量生产高温冷却工艺装卸平台，包括桌面板；晶圆载板，设置在桌面板的上表面，晶圆载板的一端与执行电缸的输出端连接，桌面板上表面位于执行电缸的两侧设置有导向轴，桌面板上设置有导向轴支撑座，导向轴与导向轴支撑座滑动连接，导向轴的一端通过轴承与晶圆载板的一端连接；冷却风机，设置在桌面板的上表面，且位于晶圆载板的下方，晶圆载板的表面设置有多个晶圆冷却通风口。该ALD批量生产高温冷却工艺装卸平台能够实现300片晶圆自动化的放入腔体，同时还可以将加工好后的晶圆，不仅从腔体内部取出，还可以对晶圆进行降温冷却。
一种 ald 批量生产高温冷却工艺装卸平台

[发明专利]一种用于ALD设备的喷射装置-CN202111578195.4在审
发明人：郑锦;范嘉磊;倪明;付长杰;王亚东;李虎;刘松;朱静静 -专利权人：南京原磊纳米材料有限公司
申请日： 2021-12-22 - 公布日： 2022-03-25 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于ALD设备的喷射装置，包括气体分布器头部，所述气体分布器头部两侧设有进气口和出气口，所述进气口为圆孔状进气口，所述出气口为扁平的狭长形出气口，所述气体分布器头部的内部由进气口向出气口过渡形成反应腔体。本发明喷射装置增强气体的分散，使得气体能在腔体里分布更加均匀，镀膜质量更好，减少了气体吹扫时间，加快了镀膜速度。
一种用于 ald 设备喷射装置