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[发明专利]三维激光刻写方法、装置、计算机设备和系统-CN202310572478.0在审
发明人：王洪庆;匡翠方;杨顺华;苏晨怡;贾天浩;杨臻垚;刘旭 -专利权人：之江实验室;浙江大学
申请日： 2023-05-18 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： B23K26/362 文献下载
摘要：本申请涉及一种三维激光刻写方法、装置、计算机设备和系统。所述方法包括：依次获取刻写对象每层对应的二维灰度图；基于所述二维灰度图获取每个刻写点的刻写图像数据；依次控制位移台移动至每行所述刻写点对应的起始位置并控制所述位移台按照指定程序移动，在所述位移台到达指定位置时，控制数字微镜基于对应的所述刻写点的所述刻写图像数据进行并行激光刻写操作。通过本申请，解决了相关技术中刻写效率较低，并且刻写质量较差的技术问题，通过移动位移台去除了拼接步骤，并通过数字微镜并行进行激光刻写，进而提高了激光刻写的效率和质量。
三维激光刻写方法装置计算机设备系统

[发明专利]一种基于双光束的高通量超分辨三维刻写方法与系统-CN202310698595.1在审
发明人：丁晨良;匡翠方;苏晨怡;杨顺华;徐良;刘勇;刘旭 -专利权人：之江实验室;浙江大学
申请日： 2023-06-14 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种超分辨激光纳米直写光刻技术，具体涉及一种基于双光束的高通量超分辨三维刻写方法与系统，该方法为，合束光平行入射数字微镜器件并经数字微镜器件反射后入射微透镜阵列，于微透镜阵列焦平面处形成聚焦点阵，使该聚焦点阵成像于双光束光刻胶表面形成激发光束与抑制光束重合的刻写点阵，对双光束光刻胶进行曝光；合束光由激发光束与抑制光束合束得到；通过调节数字微镜器件区域微镜的开关状态，调控刻写点阵中各点处的能量；通过调节抑制光束的能量，使刻写点阵中各点于中心区域形成光刻胶聚合促进，于外围区域形成光刻胶聚合抑制。与现有技术相比，本发明实现了高通量、超分辨、三维纳米结构的刻写，大幅提升刻写精度与效率。
一种基于光束通量分辨三维刻写方法系统

[实用新型]一种冷阴极结构考夫曼离子源装置-CN201520168133.X有效
发明人：乔宪武;邱顺剑;苏晨怡;徐晓晖;章鹏飞 -专利权人：中国计量学院
申请日： 2015-03-24 - 公布日： 2015-07-22 - 主分类号： H01J37/08 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种新型离子源，特别涉及一种冷阴极结构考夫曼离子源装置，包括进气口、阴极、阳极、放电室、磁棒、屏极、加速极、中和灯丝，其特征在于：所述装置阴极由金属板及表面生长碳纳米管构成。通过控制电极，稳定阴极电流，有效的降低了开启电压。
一种阴极结构考夫曼离子源装置

[实用新型]一种碳纳米管冷阴极考夫曼离子源装置-CN201520168085.4有效
发明人：乔宪武;邱顺剑;苏晨怡;徐晓晖;章鹏飞 -专利权人：中国计量学院
申请日： 2015-03-24 - 公布日： 2015-07-22 - 主分类号： H01J37/08 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种新型离子源，特别涉及一种碳纳米管冷阴极考夫曼离子源装置。其特征在于：所述装置阴极由金属丝表面包覆碳纳米管构成。该装置还包括：金属丝采用钨丝材料，两端连接电极，碳纳米管垂直金属丝排列。与现有技术相比，该装置具有开启电压低(一般小于100伏)，阴极寿命长，电子输出稳定的优点。
一种纳米阴极考夫曼离子源装置

[发明专利]一种碳纳米管冷阴极考夫曼离子源装置-CN201510130326.0在审
发明人：乔宪武;邱顺剑;苏晨怡;徐晓晖;章鹏飞 -专利权人：中国计量学院
申请日： 2015-03-24 - 公布日： 2015-06-10 - 主分类号： H01J37/08 文献下载
摘要：本发明涉及一种新型离子源，特别涉及一种具有冷阴极结构的考夫曼离子源。其特征在于：所述装置阴极由金属丝表面包覆碳纳米管构成。该装置还包括：金属丝采用钨丝材料，两端连接电极，碳纳米管垂直金属丝排列。与现有技术相比，该装置具有开启电压低(一般小于100伏)，阴极寿命长，电子输出稳定的优点。
一种纳米阴极考夫曼离子源装置