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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]光学薄膜、光学构件及光学薄膜的制造方法-CN201980027702.X在审
发明人：水町靖;能势正章;长谷川研人;青木洋辅 -专利权人：柯尼卡美能达株式会社
申请日： 2019-04-19 - 公布日： 2020-11-27 - 主分类号： G02B1/115 文献下载
摘要：本发明的光学薄膜是在基材上设置的光学薄膜，具有：含有硅(Si)的氧化物的硅氧化物层；和在该硅氧化物层上设置、含有氟化物的防水层，采用纳米压痕所测定的所述硅氧化物层的硬度为9GPa以上，采用AFM所测定的所述防水层的算术平均粗糙度为0.7nm以上。
光学薄膜光学构件制造方法

[发明专利]成膜方法及成膜装置-CN201911146340.4在审
发明人： 能势正章 -专利权人：柯尼卡美能达株式会社
申请日： 2019-11-21 - 公布日： 2020-06-02 - 主分类号： C23C14/46 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供用于在基板上均质地形成膜厚极薄的纯物质膜或混合膜作为保护膜的、控制了成膜速度和材料比的成膜方法及成膜装置。本发明的成膜方法是在基板上通过从离子源所照射的离子束来进行溅射成膜的成膜方法，其特征在于，在上述基板与上述离子源之间配置溅射靶，对于该溅射靶的与上述基板对置的面的相反侧的面，通过离子束来进行溅射，在该基板上成膜。
方法装置

[发明专利]光学构件及光学构件的制造方法-CN201911146331.5在审
发明人： 能势正章 -专利权人：柯尼卡美能达株式会社
申请日： 2019-11-21 - 公布日： 2020-06-02 - 主分类号： G02B1/115 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供通过改善含有SiO2作为主成分的最上层的盐水引起的溶解剥离性而不存在经时引起的对下层的分光反射率的影响、不存在与其相伴的重影、眩光的发生的、耐盐水性优异的光学构件及其制造方法。本发明的光学构件是在基板上具有电介质多层膜的光学构件，其特征在于，最上层的正下层为含有SiO2、MgF2或Al2O3中的任一者的层、或者包含这些材料的混合物含有层，并且最上层为以SiO2作为主成分、至少含有Cr或Ti中的任一种元素的金属氧化物层。
光学构件制造方法

[发明专利]显示部件、抬头显示器装置以及显示部件的制造方法-CN201780075622.2在审
发明人：青木洋辅;西和幸;能势正章;德永智信 -专利权人：柯尼卡美能达株式会社
申请日： 2017-12-04 - 公布日： 2019-07-23 - 主分类号： G02B27/01 文献下载
摘要：提供尽管不易受到损伤但也不易产生表面裂纹等不良现象的显示部件、具备显示部件的抬头显示器装置、以及显示部件的制造方法。使来自光源的显示光向观察者的方向反射或者衍射而显示为显示像，使所述观察者视觉辨认的显示部件具有：母材，由第1热可塑性树脂成形；以及外层材料，由硬度比所述第1热可塑性树脂高的第2热可塑性树脂形成，覆盖所述母材的表面的至少一部分。
显示部件热可塑性树脂抬头显示器母材表面裂纹不良现象方向反射视觉辨认外层材料显示光成形观察衍射光源制造损伤覆盖

[发明专利]双电层电容器用电极膜及其制造方法-CN201380024534.1有效
发明人： 能势正章;仁田尾晶雅 -专利权人：日本华尔卡工业株式会社
申请日： 2013-05-09 - 公布日： 2018-03-02 - 主分类号： H01G11/22 文献下载
摘要：本发明提供一种同现有产品含有同等程度的氟树脂但电解液的浸渍性更高的双电层电容器用电极膜。本发明是含有活性炭以及氟树脂黏合剂的双电层电容器用电极膜，其特征在于，至少一个面满足A/B≤7.0(其中，A为通过X射线光电子能谱法(ESCA)测定的所述电极膜表面的氟原子以及碳原子的合计数中氟原子数的比例，B为所述电极膜所含有的氟原子以及碳原子的合计数中氟原子数的比例)。
双电层电容器用电极及其制造方法

[发明专利]双电层电容器用电极膜的制造方法-CN201480043687.5有效
发明人： 能势正章;市川泰央 -专利权人：日本华尔卡工业株式会社
申请日： 2014-08-01 - 公布日： 2018-01-02 - 主分类号： H01G11/86 文献下载
摘要：本发明提供了高强度EDLC用电极膜的制造方法，能对在制造电极膜时产生的余料进行再利用。本发明的双电层电容器用电极膜的制造方法，其特征在于，包含将含碳粉末、导电性助剂以及氟树脂粘合剂进行混炼，由获得的混炼物制造成形体的工序；将所述成形体粉碎，制造平均粒径为5～100μm的改性材料的工序；以及将所述含碳粉末、导电性助剂、氟树脂以及所述改性材料进行混炼，使得相对于所述含碳粉末、所述导电性助剂、所述氟树脂以及所述改性材料的总和100重量％，所述改性材料的比例达到1～40重量％，将获得的混炼物进行轧制，制造双电层电容器用电极膜的工序。
双电层电容器用电极制造方法

[发明专利]闸阀装置和具备该闸阀装置的基板处理装置-CN201080015089.9无效
发明人：广木勤;能势正章;松下正直;西场健博 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2010-03-29 - 公布日： 2012-03-14 - 主分类号： F16K51/02 文献下载
摘要：本发明公开一种闸阀装置，其包括：具有第一阀座和第二阀座并形成有开口部的阀箱；和具有与第一阀座接触并密封开口部的密封部件的阀体。在该闸阀装置中，在阀体上设置有当阀体封住开口部时与第二阀座接触并弯曲，隔断开口部和密封部件之间的空隙的遮挡部件，在常温环境下或高温环境下，阀体封住开口部时遮挡部件弯曲，维持遮挡部件与第二阀座的接触。
闸阀装置具备处理

[发明专利]光学低通滤波器-CN200780000115.9无效
发明人：辻村一郎;能势正章;田中义治;久保直树 -专利权人：索尼株式会社
申请日： 2007-01-17 - 公布日： 2008-11-19 - 主分类号： G02B5/28 文献下载
摘要：在基底材料(10)的光进入表面层上，设置涂层(11)以阻挡红外辐射，其中在该涂层中，高折射层和低折射层依次交替设置在彼此上。高折射层之一通过ITO膜(11a)构建从而在该涂层的一个表面上导电性增加。这里，考虑到通过向该涂层的表面提供导电性而更大程度地防止污垢和灰尘的粘附，期望最外侧的高折射层由透明导电材料制成。此外，期望形成在由透明导电材料制成的高折射层之外的折射层的总层厚是140nm或以下。
光学滤波器

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