专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种提升单面PERC电池转换效率的背膜结构-CN202020514691.8有效
  • 胡茂界;丁晨;陈刚 - 浙江爱旭太阳能科技有限公司
  • 2020-04-09 - 2020-10-09 - H01L31/056
  • 本实用新型涉及一种提升单面PERC电池转换效率的背膜结构。它包括电池片,其特征在于:所述电池片的背面依次沉积有氧化铝膜、氧化硅膜、氮氧化硅膜、氮化硅膜。现有生产工艺得到的硅片背膜结构一般只有氧化铝层和氮化硅层,相比现有产品,本实用新型的背面结构新增了氧化硅膜和氮氧化硅膜,由氧化铝膜、氧化硅膜、氮氧化硅膜和氮化硅膜组成的复合膜层结构是很好的背反射器。高折射率的氮氧化硅膜可以很好的增加电池背面对长波段太阳光的反射,使长波光再次进入硅片体内,增加长波光的吸收,从而提升电池开压和电流最终实现转换效率的提升。
  • 一种提升单面perc电池转换效率膜结构
  • [实用新型]一种提升P型双面电池双面率的背膜结构-CN201922368456.4有效
  • 胡茂界;丁晨;陈刚 - 浙江爱旭太阳能科技有限公司
  • 2019-12-25 - 2020-08-07 - H01L31/0216
  • 本实用新型公开一种提升P型双面电池双面率的背膜结构,包括电池片,电池片的背面依次沉积有氧化铝膜、氮化硅膜、氮氧化硅膜、氧化硅膜,氮化硅膜包括上层氮化硅膜、中层氮化硅膜、下层氮化硅膜,上、中、下三层氮化硅膜的厚度逐渐升高,折射率逐渐降低,氮化硅膜的总膜厚为35至55纳米,氮化硅膜的总折射率为2.12至2.20,通过本实用新型改进背面膜层结构以及优化镀膜工艺,有效的降低电池片背面的反射率,增加光的吸收,提升P型双面SE PERC电池的背面转换效率,P型双面SE PERC电池的双面率由72.9%提至74.14%,显著提高了产品的质量。
  • 一种提升双面电池膜结构
  • [发明专利]一种可提升单面PERC电池转换效率的背膜制备方法-CN202010274186.5在审
  • 胡茂界;丁晨;陈刚 - 浙江爱旭太阳能科技有限公司
  • 2020-04-09 - 2020-07-07 - C23C16/40
  • 本发明涉及一种可提升单面PERC电池转换效率的背膜制备方法。它包括制备氧化铝膜、背面制备氧化硅膜、背面制备氮氧化硅膜、背面制备双层氮化硅膜。现有生产工艺得到的硅片背膜结构一般只有氧化铝层和氮化硅层,本发明提供的方法使背膜增加了高致密性氮氧化硅膜和氧化硅膜层。高折射率的氮氧化硅膜可以很好的增加电池背面对长波段太阳光的反射,使长波光再次进入硅片体内,增加长波光的吸收,从而提升电池开压和电流最终实现转换效率的提升,同时背面增加的高折射率氮氧化硅膜和氧化硅膜可以很好的阻挡水汽、金属离子进入电池片内部造成的效率衰减,提高产品的品质。
  • 一种提升单面perc电池转换效率制备方法
  • [发明专利]一种石墨舟饱和的工艺方法-CN201911372652.7在审
  • 胡茂界;丁晨;陈刚 - 浙江爱旭太阳能科技有限公司
  • 2019-12-27 - 2020-05-08 - C23C16/515
  • 本发明公开一种石墨舟饱和的工艺方法,包括如下步骤:1)将石墨舟送进炉管;2)抽真空,通入氮气15slm,温度升至420℃;3)抽真空,通入氮气15slm,时间300秒,再抽真空,重复三次后恢复真空;4)通入氨气5slm,温度控制在450 460℃,预沉积300秒;5)抽真空,通入硅烷和甲烷,持续放电5000‑11000秒;6)抽真空,通入硅烷和氨气,持续放电200秒;7)停止通气,抽真空,至压力达到30mTorr时,通入氮气15slm,再抽真空,重复两次后恢复;8)卸舟。采用本发明的方法,石墨舟镀碳化硅和氮化硅的叠加层,石墨舟舟片更加致密平整具有优良的导热性能和电场的均匀性,使得工艺过程中的电池片膜色更加均匀一致,对电池片返工率和良率提升有明显增益。
  • 一种石墨饱和工艺方法
  • [发明专利]一种晶硅太阳能电池抛光片的加工方法-CN201710585624.8有效
  • 胡茂界;夏利鹏;秦崇德;方结彬;何达能;陈刚 - 广东爱康太阳能科技有限公司
  • 2017-07-18 - 2019-11-12 - H01L31/18
  • 本发明公开一种晶硅太阳能电池抛光片的加工方法,包括步骤;1)用RIE刻蚀在电池抛光片表面形成一层损伤层;2)用表面腐蚀液对步骤1)处理过的硅片进行表面腐蚀,形成微米凹坑;3)用HF‑HCl混酸药液除去步骤2)的腐蚀过程中产生的杂质及金属离子;4)将步骤3)处理过的硅片经过RIE刻蚀,制备纳米级的绒面;5)用清洗液除去步骤4)的刻蚀过程中产生的残留物。抛光片经过该加工方法处理后,进行重新扩散,及后道工序,最终抛光片的转换效率基本达到正常电池片的水平,而且电池片的外观和正常电池片无异,达到了抛光片返工的目的。经过本发明的加工方法,电池抛光片由原来的报废处理,现可以作为返工片使用,合格率达到95%。
  • 一种太阳能电池抛光加工方法
  • [实用新型]一种适用于RIE刻蚀的载板装置-CN201721181829.1有效
  • 胡茂界;夏利鹏;秦崇德;方结彬;何达能;陈刚 - 广东爱康太阳能科技有限公司
  • 2017-09-15 - 2018-04-13 - H01L31/18
  • 本实用新型公开一种适用于RIE刻蚀的载板装置,属于太阳能电池技术领域,包括用于传输硅片的铝载体,还包括设置在铝载体内的若干用于放置硅片的硅片位、用于分隔硅片位的定位点、及设置在铝载体四周边缘上的若干陪片位;所述铝载体呈方形,所述硅片位具有四十个,硅片位均匀分布在所述铝载体上,通过所述定位点相互隔开;所述陪片位具有二十八个,陪片位通过定位点与所述硅片位隔开。本实用新型可实现陪片牢固的固定在载板上,不会在生产过程中发生陪片缺失,避免影响RIE刻蚀效果,有效保证工艺的稳定性,使硅片表面形成一层均匀纳米级凹坑。
  • 一种适用于rie刻蚀装置

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