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[发明专利]一种判断器件与切断层相对位置的方法-CN202011638349.X有效
发明人：潘伟伟;杨璐丹;胡佳南 -专利权人：杭州广立微电子股份有限公司
申请日： 2020-12-31 - 公布日： 2023-07-18 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明提供了一种判断器件与切断层相对位置的方法，包括：获取版图信息，并确定版图的待识别层；将位于栅极上的切断层记为POC，将所述POC沿垂直于栅极的方向延长至相邻的栅极，延长的部分记为POCspace_v_plg；将与POCspace_v_plg及所述POC相接触的栅极记为temp_poly；将与temp_poly相接触的AA记为temp_AA；将POCspace_v_plg、temp_POC、temp_AA和temp_poly围成POCspace_holes；将所述POCspace_v_plg沿平行于栅极方的向延长至有源区，延长部分与POCspace_holes交叠的部分记为POCspace_target；获取所述POCspace_target平行和垂直于栅极方向的长度作为第一方向和第二方向的距离，以此判断器件与切断层相对位置。步骤简洁，准确性好，适于统计相对位置的数值在版图中的存在的种类与数量分布，实现为版图热点的定位和分析、测试结构的设计提供更有效和精确的指导。
一种判断器件切断相对位置方法

[发明专利]一种面向动态环境的相机与固态激光雷达融合重定位方法-CN202211040009.6在审
发明人：禹鑫燚;郑万财;张震;胡佳南;欧林林;蔡传烩 -专利权人：浙江工业大学
申请日： 2022-08-29 - 公布日： 2023-02-28 - 主分类号： G01S17/86 文献下载
摘要：一种面向动态环境的相机与固态激光雷达融合重定位方法，包括：通过深度学习YOLOv5的目标检测得到先验动态物体；对图像进行特征点的提取，结合对极几何和贝叶斯公式用概率的形式计算每个特征点的动态概率，剔除动态特征点，保留静态的特征点；用DBOW算法进行表示更新词袋，每张图像都会携带由固态激光雷达计算出的位姿通过外参标定得到相机的位姿，并且会记录这帧静态部分的点云信息；设计二段配准的方式提高系统的鲁棒性，当在重定位的时候会先将当前帧的特征点与之前的存储的特征点进行相似度计算，如果出现特征点匹配过少的时候，还会将候选帧中的点云反投影进行ICP配准进一步提高系统的鲁棒性。本发明结合了视觉和激光改善了在动态环境下的重定位的弊端。
一种面向动态环境相机固态激光雷达融合定位方法

[发明专利]一种动态环境下基于多传感器的同时定位与建图方法-CN202211040010.9在审
发明人：禹鑫燚;张震;郑万财;胡佳南;欧林林;蔡传烩 -专利权人：浙江工业大学
申请日： 2022-08-29 - 公布日： 2022-11-18 - 主分类号： G06T7/70 文献下载
摘要：一种动态环境下基于多传感器的同时定位与建图方法，包括：首先，利用YOLOV5进行动态目标检测并发送检测框；利用惯性测量单元(IMU)矫正点云畸变；提取地面激光点云，方便后续的点云聚类；提取检测框内的激光点云，聚类出动态物体的激光点云；在矫正畸变后的激光点云中去除聚类出的动态物体点云用于后续算法计算；利用迭代卡尔曼滤波融合激光点云和IMU信息，得到当前的位姿信息；根据位姿信息，将去除畸变和动态物体后的点云与点云地图叠加，获得实时更新后的点云地图；利用关键帧和词袋模型以及激光点云进行回环检测。
一种动态环境基于传感器同时定位方法

[发明专利]一种光刻缺陷热点图形的识别方法及图形结构-CN202110264926.1在审
发明人：潘伟伟;胡佳南 -专利权人：杭州广立微电子股份有限公司
申请日： 2021-03-11 - 公布日： 2022-07-19 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种光刻缺陷热点图形的识别方法，包括：确定版图的待识别层，即目标图形所在层；预设宽度范围，识别初始边；预设第一间距范围和第二间距范围；识别第一间隔区、第二间隔区；识别第一边、第二边；将所述初始多边形中，满足一侧轮廓边为第一边并且另一侧轮廓边为第二边的多边形区域识别为目标图形，即光刻缺陷热点图形。能快捷准确的识别出光刻缺陷图形，利于改进生产工艺，步骤简洁。本发明还提供一种光刻缺陷热点图形结构，通过本发明的光刻缺陷热点图形的识别方法得到，能快速辨别图形是否有引起光刻缺陷风险。
一种光刻缺陷热点图形识别方法结构

[发明专利]一种甄别处于电流泄露回路中器件的方法-CN202110184686.4在审
发明人：潘伟伟;胡佳南;杨璐丹;蓝帆 -专利权人：杭州广立微电子股份有限公司
申请日： 2021-02-11 - 公布日： 2022-07-01 - 主分类号： G06F30/398 文献下载
摘要：本发明提供了一种甄别处于电流泄露回路中器件的方法，包括：获取版图信息，将连接至少两个有源区的M0识别为第一M0；将包含相邻的第一M0及其连接的两个有源区所围成的封闭区域分别记为loop_holes，将所述loop_holes分别扩张成最小的矩形识别为第一矩形；扩张后的第一矩形与第一M0的重叠区域识别为第一区；将有效的有源区减去M0后的图形区域中，与所述第一矩形接触的区域记为第一有源区；根据器件的栅极两侧与第一有源区的位置关系判断该器件是否为处于电流泄漏回路中的器件。为设计的优化和生产效率的提高，改善工艺，降低质量风险提供了有效而简洁的方法。
一种甄别处于电流泄露回路器件方法

[发明专利]一种生成SDB隔离效果测试结构的方法及测试结构-CN202110184689.8在审
发明人： 胡佳南;潘伟伟;杨璐丹 -专利权人：杭州广立微电子股份有限公司
申请日： 2021-02-11 - 公布日： 2022-07-01 - 主分类号： G06F30/392 文献下载
摘要：本发明提供了一种生成SDB隔离效果测试结构的方法，包括：获取版图信息，并在版图中确定测试区域；在测试区域内识别出第一M0A；将第一SDB及其接触的第一M0A的组合记为SDBseed1_cluster，并将所述SDBseed1_cluster中包含两个第一M0A的组合识别为测试单元；第一M0A上铺设对应的M1，生成条状的梳齿，所述梳齿包括交错间隔设置的第一梳齿和第二梳齿；将第一梳齿组成第一梳状结构，将第二梳齿组成第二梳状结构；将第一梳状结构和第二梳状结构分别连到不同的测试端，用于对测试单元内的SDB隔离效果进行测试。步骤简洁，能够适用于各种实际设计中测试SDB的隔离效果。本发明提供的测试结构具有本发明的方法生成的结构而具有相应优势。
一种生成 sdb 隔离效果测试结构方法

[发明专利]一种光刻通孔热点识别方法-CN202110263882.0在审
发明人： 胡佳南;潘伟伟 -专利权人：杭州广立微电子股份有限公司
申请日： 2021-03-11 - 公布日： 2022-07-01 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明提供了一种光刻通孔热点识别方法，包括获取版图信息；将用于连接所述连接层的通孔层的V0的侧边分别向外移动，将移动至触及相邻切断层图形的侧边扫过的矩形区域识别为扩充区；获取所述V0周围的扩充区数量，并根据V0周围的扩充区数量来识别所述V0是否为光刻通孔热点。能够实现方便、有效和快捷地对用于版图设计热点的搜索与分析。过程简洁，识别结果直观准确，有利于生产工艺的改进和效率提高。
一种光刻热点识别方法

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