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- [发明专利]一种通用型转台吸盘治具-CN202311005656.8在审
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葛自荣;祝建敏;王双玉;马一鸣
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杭州盾源聚芯半导体科技有限公司
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2023-08-10
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2023-10-24
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B28D7/04
- 本发明公开了一种通用型转台吸盘治具,涉及硅环加工技术领域,包括转台、转接板和吸盘,吸盘可拆卸的安装于转接板上,转台内设有吸气气道,转接板上设有用于和吸气气道连通的吸附气道,吸盘上沿径向间隔分布有若干个与吸附气道连通的吸气孔,吸盘上设有若干个吸盘环槽,每个吸盘环槽均与单个吸气孔连通,吸气孔内设有可拆卸的堵塞组件;本发明可以避免拆装的过程,直接根据硅环的大小来将不需要的吸气孔堵塞,留下单一的吸盘环槽用来吸附硅环,在寿命周期内,无需进行更换,增加适用性的同时,提高了工作效率,在硅环加工完成后,本发明使用托盘用于托起硅环,避免硅环发生不必要的磨损,同时也令操作者的拿取更加便利。
- 一种通用型转台吸盘
- [发明专利]一种硅电极表面抛光设备及抛光方法-CN202211392897.8在审
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李长苏;范明明;祝建敏
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杭州盾源聚芯半导体科技有限公司
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2022-11-08
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2023-08-29
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B24B29/02
- 一种硅电极表面抛光设备及抛光方法,属于硅电极加工技术领域,包括机体,机体上设有抛光平台,抛光平台上设有用于夹持硅电极的夹持组件,夹持组件的上方设有用于对硅电极表面抛光的抛光组件;夹持组件包括重力传感器以及转动设于抛光平台上的底座,底座的中间位置设有用于支撑硅电极的支撑座,支撑座的上方设有夹持安装环,夹持安装环内端面设有伸缩夹持件,且底座的上阵列设有多组支撑件,且支撑件中有一组和夹持安装环的下端面铰接,在初始状态时,多组支撑件的上表面均触接于夹持安装环的下表面;本发明保障了硅电极的重心与夹持安装环或支撑座中心轴的重合精度,提高硅电极的抛光面加工的稳定性,从而有效的使硅电极表面机加工达到镜面效果。
- 一种电极表面抛光设备方法
- [发明专利]一种降低硅片损伤的硅舟-CN202211432870.7有效
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范明明;祝建敏;李长苏
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杭州盾源聚芯半导体科技有限公司
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2022-11-16
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2023-08-29
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H01L21/673
- 本发明涉及硅舟领域,特别地,涉及一种降低硅片损伤的硅舟,包括平行且对向设置的法兰和天板,所述法兰和天板之间设有沟棒,所述沟棒的内侧设有用于承托硅片的沟齿;所述沟棒至少设有三根,包括两根前沟棒和一根后沟棒,所述前沟棒的截面形状为"7"字形,所述前沟棒上的沟齿作为"7"字形的上半部分,所述前沟棒本体作为"7"字形的下半部分;三根所述沟棒上的相应沟齿在同一平面形成硅片容置槽,两根前沟棒本体之间的最短连线长度大于硅片的直径,两根前沟棒的沟齿之间的最短连线长度小于硅片的直径;本发明目的是克服现有技术的不足而提供一种降低硅片损伤的硅舟,可缩小硅舟的开口处两沟棒对硅片的支撑点之间的间距,进而减小硅片外圈在高温下的坍塌形变量。
- 一种降低硅片损伤
- [发明专利]一种真空吸盘治具-CN202211715931.0在审
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祝军;祝建敏;张亚博
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杭州盾源聚芯半导体科技有限公司
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2022-12-30
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2023-04-18
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H01L21/683
- 本发明公开了一种真空吸盘治具,包括底盘,所述底盘内设有第一通道,所述第一通道的其中一端连通于所述底盘外;还包括周向活动块,所述周向活动块在所述底盘的周向上与所述底盘滑动连接,所述周向活动块上设有第二通道,所述第二通道的其中一端与所述第一通道的另一端连通;还包括径向活动块,所述径向活动块在所述底盘的径向上与所述周向活动块滑动连接,所述径向活动块内设有第三通道。本发明采用吸盘固定代替粘蜡的固定方式,硅产品与吸盘治具靠真空完成连接固定,只需控制治具与产品接触面的平面度和平行度即可做到硅产品与治具的无缝连接,保证后续加工中的精度。
- 一种真空吸盘
- [发明专利]一种转台吸盘治具-CN202211536733.8在审
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各自荣;祝建敏;马一鸣
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杭州盾源聚芯半导体科技有限公司
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2022-12-02
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2023-04-04
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B25B11/00
- 本发明涉及吸盘技术领域,具体涉及一种转台吸盘治具,包括吸盘和转接板,所述转接板中心具有用以与转台的吸气孔相连通的中心气孔,所述吸盘可拆卸安装在所述转接板上,所述吸盘顶壁上开设有环槽,所述吸盘的底壁上设有负压孔;所述转接板内部具有主通气道,所述转接板的上壁上开设有若干通气孔,所述治具还包括封堵件,所述封堵件用于可拆卸地封堵所述通气孔;组装状态下,所述负压孔与其中一个通气孔相重合连通,其余的通气孔分别通过封堵件实现封堵。在应用于不同直径的硅环需要更换治具时,本发明无需更换转接板,只需将吸盘取下进行更换即可,从而有利于节省更换时间,从而提高生产效率。
- 一种转台吸盘
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