专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种彩膜基板及其制造方法-CN201811438710.7有效
  • 李世春;金潘;祝宏勋;许家诚;王志军 - 南京京东方显示技术有限公司
  • 2018-11-29 - 2022-08-16 - G02F1/1335
  • 本发明公开了一种彩膜基板,属于液晶显示领域,包括:显示区以及位于显示区周围的非显示区,所述显示区包括第一黑色矩阵、通过第一黑色矩阵限定的像素区、位于每个像素区的色阻层以及覆盖色阻层的第一平坦化层,所述色阻层部分覆盖第一黑色矩阵,所述非显示区包括整面铺设的第二黑色遮光层、覆盖第二黑色遮光层的垫层以及覆盖垫层的第二平坦化层,所述垫层和第二黑色遮光层的总高度等于色阻层的高度,在不增加显示区的厚度的情况下,让显示区和非显示区平整的彩膜基板,可以解决周边显示不良的问题。
  • 一种彩膜基板及其制造方法
  • [发明专利]一种液晶显示面板-CN201810994588.5有效
  • 李世春;祝宏勋;许家诚;王志军 - 南京京东方显示技术有限公司
  • 2018-08-28 - 2021-08-24 - G02F1/1339
  • 本发明提供一种液晶显示面板,包括相对设置的彩膜基板、阵列基板以及位于彩膜基板和阵列基板之间的多个隔垫物,所述隔垫物将彩膜基板和阵列基板等分为多个网格区域,所述隔垫物包括位于相邻网格区域的交界处的多个网格交界处隔垫物和位于网格区域内部的多个网格内部隔垫物,网格交界处隔垫物的密度大于网格内部隔垫物的密度。本发明通过将隔垫物网格区域设计,网格交界处隔垫物的密度大于网格内部隔垫物的密度,从而提高液晶面板中心位置的抗压能力,保证液晶面板的显示性能良好。
  • 一种液晶显示面板
  • [实用新型]彩膜基板-CN202022423866.7有效
  • 祝宏勋;孔施琴;李淑君;时陶;张丽洁;黄威 - 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司
  • 2020-10-28 - 2021-07-13 - G02F1/1335
  • 本实用新型提供一种彩膜基板,其包括阵列设置的黑色矩阵、位于相邻黑色矩阵之间的多个色层,其中色层包括第一色层、第二色层和第三色层;彩膜基板还包括第一区域、第二区域和第三区域,其中在第一区域内设有至少一个第一第一色层块、第一凹槽以及第一第三色层块;在第二区域内设有至少一个第二第一色层块、第二凹槽以及第一第二色层块;在第三区域内设有至少一个第二第二色层块、第三凹槽以及第二第三色层块。本实用新型通过设置色层交叠区域,达到增强第二色层和第三色层的附着力。
  • 彩膜基板
  • [实用新型]一种彩膜基板-CN202022446572.6有效
  • 孔施琴;李淑君;祝宏勋 - 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司
  • 2020-10-29 - 2021-07-13 - G02F1/1335
  • 本实用新型提出一种彩膜基板,涉及显示面板领域,彩膜基板包括衬底基板、位于衬底基板上方的黑色矩阵、由多个色阻组成且位于衬底基板和黑色矩阵上方的色阻层、位于色阻层上方的第一金属氧化物层、位于第一金属氧化物层上方的隔垫物以及位于衬底基板背面的第二金属氧化物层;其中,色阻层包括红色色阻、绿色色阻以及蓝色色阻,黑色矩阵位于相邻两个色阻的交界处下方,第二金属氧化物层与色阻层中的至多两种色阻所在区域重叠。本实用新型通过在彩膜基板上增加一层背镀ITO,设计一种与RGB色阻层对应的背镀ITO结构来调整RGB亮度比例,同时通过设计ITO膜厚来调整RGB亮度比例幅度,从而调整面板色温。
  • 一种彩膜基板
  • [发明专利]一种掩膜版-CN202011019614.6在审
  • 李淑君;祝宏勋;孔施琴;张丽洁 - 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司
  • 2020-09-25 - 2020-12-11 - G03F1/54
  • 本发明揭示一种掩膜版,用于光配向技术,其包括遮光区域和曝光区域,掩膜版的曝光区域包括正常曝光区域以及位于正常曝光区域两侧的拼接曝光区域,所述拼接曝光区域包括远离所述正常曝光区域的全遮光区域和靠近所述正常曝光区域的部分遮光区域,所述全遮光区域与所述部分遮光区域连接。本发明掩膜版,通过调整拼接曝光区域的形状,使得一半以上的拼接曝光区域由全遮光区域形成,增加了开口率,改善了面板的纵条纹Mura。
  • 一种掩膜版

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