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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]光学活性5-羟基-3-酮酯类的制造方法-CN201480046836.3有效
发明人：立山翔一;内藤真也;高田泰孝;石田麻里子;橘山浩英 -专利权人：日产化学工业株式会社
申请日： 2014-08-26 - 公布日： 2018-12-04 - 主分类号： C07C67/00 文献下载
摘要：本发明的课题是提供以高收率与高立体选择性制造作为药品中间体有用的光学活性5‑羟基‑3‑酮酯化合物的方法。此外，本发明的课题是提供通过上述方法获得的新的药品的制造中间体。本发明的解决方法是在使用1,3‑二烯化合物的不对称羟醛反应中，在光学活性联萘酚‑钛络合物的存在下，通过使被取代的含氮5‑6元芳香族杂环化合物共存，从而高收率且高选择性地获得光学活性5‑羟基‑3‑酮酯化合物的新的制造方法以及具有结晶形态的新的制造中间体化合物。
光学活性羟基酮酯类制造方法

[发明专利]蚀刻装置与蚀刻方法-CN201080011268.5无效
发明人：加藤真;山根宪吾;石田麻里子 -专利权人：三菱制纸株式会社
申请日： 2010-02-26 - 公布日： 2012-02-08 - 主分类号： C23F1/08 文献下载
摘要：一种蚀刻装置，其将喷射角85～130°的充圆锥喷嘴配置成：使自各喷嘴喷射的被蚀刻面上的喷射图案的面积，为由以下被蚀刻面上的点构成的各中间线所围成的面积的4倍以上，该被蚀刻面上的点位于相距以该喷嘴的喷射轴与被蚀刻面的交点所表示的该喷嘴的中心点的距离、及相距以各邻接喷嘴的喷射轴与被蚀刻面的交点所表示的各邻接喷嘴的中心点的距离为等距离的位置，通过使用该蚀刻装置进行的蚀刻方法，可高效率地制造具有剖面形状更接近矩形的细微的导体图案的印刷布线板。该蚀刻装置若使用的蚀刻液中含有与铜反应后形成阻碍蚀刻的物质的化合物，则可获得剖面形状更接近矩形的导体图案。
蚀刻装置方法

[发明专利]铜或铜合金用的蚀刻液、蚀刻方法及蚀刻液的再生管理方法-CN200980151047.5无效
发明人：山根宪吾;加藤真;石田麻里子 -专利权人：三菱制纸株式会社
申请日： 2009-12-04 - 公布日： 2011-11-23 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：以水作为主成分，含有（1）5～20质量％的氯化铁（III）、（2）0.5～3质量％的氯化铜（II）、（3）相对于氯化铁（III）而言为5～20质量％的与铜形成不溶性的盐的化合物的铜或铜合金用的蚀刻液，及使用该蚀刻液作为新液的蚀刻方法，以及使用在同一光路内同时测量的2个以上不同波长下的透射率之比来进行再生管理的蚀刻液的再生管理方法。
铜合金蚀刻方法再生管理

[发明专利]蚀刻方法-CN200980104941.7有效
发明人：加藤真;丰田裕二;中川邦弘;石田麻里子 -专利权人：三菱制纸株式会社
申请日： 2009-02-04 - 公布日： 2011-01-19 - 主分类号： C23F1/02 文献下载
摘要：使用与被蚀刻金属反应形成不溶性化合物的蚀刻液来进行蚀刻。在使用所述蚀刻液的蚀刻之后，以与被蚀刻金属反应不形成不溶性化合物的蚀刻液来进行蚀刻，由此使蚀刻形状接近矩形，且导体图案的侧面变得平滑。此外，在使用与被蚀刻金属反应形成不溶性化合物的蚀刻液从大致下方进行蚀刻后，将被蚀刻材料的上下反转，通过从大致下方进行相反面的蚀刻，由此可在基板的两面形成微细的导体图案。
蚀刻方法

[发明专利]用于铜或铜合金的蚀刻液、蚀刻前处理液及蚀刻方法-CN200980102252.2有效
发明人：加藤真;丰田裕二;中川邦弘;石田麻里子;金田安生 -专利权人：三菱制纸株式会社
申请日： 2009-01-08 - 公布日： 2010-12-08 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：提供以水作为主要成分，含有(1)1～20质量％的氯化铁(III)和(2)相对于氯化铁为5～100质量％的草酸的蚀刻液，以及使用上述蚀刻液的蚀刻方法。上述蚀刻方法中，用含有选自溶解铜或铜合金的成分和酸的至少一种成分的水溶液进行前处理，由此可以实现良好的收率。
用于铜合金蚀刻处理方法

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