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专利名称
农业 化学；冶金 建筑 机械工程 区域搜索
主分类
A 农业
B 作业；运输
C 化学；冶金
D 纺织；造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]喷丸处理装置-CN201280000933.X有效
  • 石川光男;山本卓司 - 新东工业株式会社
  • 2012-07-27 - 2014-04-02 - B24C9/00
  • 本发明的目的在于提供一种喷丸处理装置，该喷丸处理装置抑制了装置的大型化，并且能够高精度地对回收后的喷射材料和异物进行分离。本发明的喷丸处理装置（10）的特征在于，包括：喷射机（42），该喷射机（42）向工件（W）喷射出喷射材料；回收机构（52、54），该回收机构（52、54）对由上述喷射机喷射出的喷射材料进行回收；风力分选机构（62），该风力分选机构（62）一边向回收后的喷射材料吹送上升气流，一边使上述回收后的喷射材料自由下落，从上述回收后的喷射材料分离出混入上述回收后的喷射材料中的异物。
  • 处理装置
  • [发明专利]喷丸装置用滚筒以及喷丸装置-CN201010588218.5有效
  • 立松亮;石川光男;铃木常俊 - 新东工业株式会社
  • 2010-11-30 - 2011-12-21 - B24C5/00
  • 本发明公开了滚筒及使用该滚筒的喷丸装置，通过提高喷丸装置用滚筒D放入底部放置的待处理产品搅拌性，使整个待处理产品的清理程度均匀，并且抑制由于待处理产品之间冲撞而产生的痕迹。滚筒具备中空状的主体部，圆锥台形状的有底的下半部，与该下半部及上述主体部连接的用于搅拌待处理产品的搅拌用突起部，该搅拌用突起部至少有2个面，其中一面是提升面，另一面是滑落面。喷丸装置具有上述滚筒，还具备腔室、离心投射机，该腔室在开口部侧，具有由顶壁、底壁以及两侧壁构成的密封壁部，该滚筒具备可以封闭腔室的开口部的盖体，该盖体被安装成能与滚筒一体转动。
  • 装置滚筒以及
  • [发明专利]喷丸装置-CN201010280907.X有效
  • 铃木常俊;石川光男;立松亮 - 新东工业株式会社
  • 2010-09-10 - 2011-09-21 - B24C3/02
  • 提供新型结构的喷丸装置，消除关闭工件的投入、排出用开口部的盖体的死角，同时能将该盖体的开闭与转筒的公转(转动)兼用。喷丸装置具备室(11)、带孔转筒(13)和离心投射机(15)。转筒(13)配置为在室(11)的内部能在被处理物的投入、处理、排出的各作业位置之间转动。室(11)具备关闭上述被处理物的投入、传出用的开口部(11b)的盖体(51)。室(11)的开口部(11b)侧具有密封壁部(59)。盖体(51)与转筒(13)一体安装并转动，同时具有能与密封壁部(59)嵌合的周壁部(51a、51b、51d)。在周壁部(51a、51b、51d)和密封壁部之间的缝隙配置唇状的密封材料(61、63)密封。
  • 装置
  • [发明专利]凹槽摆动式喷丸装置及凹槽摆动式喷丸处理方法-CN201010226295.6有效
  • 山本翔一;石川光男 - 新东工业株式会社
  • 2010-07-09 - 2010-11-10 - B24C3/26
  • 本发明提供一种凹槽摆动式喷丸装置及凹槽摆动式喷丸处理方法，能够没有遗漏地处理被处理产品的表面，并在处理后完全排出，被高速抛射的弹丸不会向工作人员所在的外部漏出。在腔室(1)的内部经由两端的轴承能够摆动地支承凹槽(3)，该凹槽(3)形成为U字状的船底形状，在其底部开有弹丸能通过且被处理产品(W)不能通过的孔(31)。收纳在产品流通箱(Q)中的被处理产品(W)由斗式装载机(9)投入到凹槽(3)内。在凹槽(3)中收纳被处理产品(W)后使其摆动，同时从配置于上部的离心式抛射装置(4)抛射弹丸。弹丸在下部被回收，用斗式提升机(7)提升而进行循环使用。
  • 凹槽摆动式喷丸装置处理方法
  • [发明专利]抛丸处理装置-CN200880011390.5无效
  • 石川光男;河合信义 - 新东工业株式会社
  • 2008-05-22 - 2010-02-17 - B24C3/22
  • 提供一种将抛丸处理装置小型化并且能够缩短处理周期的抛丸处理装置。抛丸处理装置具有：将被处理产品旋转自如地保持的自转旋转处理部；载置规定数量上述自转旋转处理部并且旋转自如地动作的公转旋转部；具有至少2个自转旋转处理部在作业者一侧开放，而其余自转旋转处理部密闭的结构的抛射室主体；配置于抛射室主体的下部、用于储存上述抛射件的料斗；能够储存上述1个被处理产品所需的抛射件量的规定数量加压箱；为了将该加压箱中储存的抛射件与压缩空气混合而设置的与该加压箱数量相同的混合阀；设置于抛射室主体、用于向被处理产品抛射由与该混合阀连接的输送管输送的抛射件的抛射喷嘴。
  • 抛丸处理装置
  • [发明专利]光学装置、镜筒、曝光装置、以及器件制造方法-CN200580036490.X无效
  • 石川光男 - 株式会社尼康
  • 2005-10-24 - 2007-10-03 - G02B7/02
  • 一种提高了重量平衡和稳定性的光学装置(92)，包括将假想刚体(M )相对外环(48)可移动地进行支承的驱动机构(46A～46C)，该假想刚体(M)由内环(42)、和相对光轴(AX)呈非对称形状的光学元件(M2)、以及用于保持光学元件而固定在内环上的光学元件保持构件(44A～44C)构成。内环、外环、以及驱动机构作为平行连杆机构(41)发挥作用。配重(BW、M2c)被设置在假想刚体上，以便使假想刚体的重量能大致均等地施加在驱动机构上。因此，在受外部的振动时或进行调整时，光学元件不易振动。本发明的光学装置可适用于对曝光精度要求较高的曝光装置的使用中。
  • 光学装置镜筒曝光以及器件制造方法
  • [发明专利]喷射处理装置-CN200580022935.9有效
  • 牛田耕司;石川光男;渡边启晶;加贺秀明;河合信义;横井彰一 - 新东工业株式会社
  • 2005-05-19 - 2007-06-13 - B24C3/04
  • 内部有喷射室的腔室(1)的两侧面上安装有涡轮式喷射机(2)。由喷射机(2)向工件上喷射后落下的喷丸通过位于腔室(1)下端上方的水平螺旋式输送机(4)而在水平方向上进行搬运后，通过基端位于腔室(1)下端上方的垂直的螺旋式输送机(5)向上方进行搬运。该喷丸由垂直的螺旋式输送机(5)的上部通过斜槽(8)到达开关门(9)。开关门(9)打开，为了将喷丸进行再次喷射而将其供给喷射机(2)的情况下，部分喷丸从开关门(9)溢出。该溢出的喷丸通过分离器(11)以及筛选装置(15)除去不纯物，并将其送回螺旋式输送机(4)。
  • 喷射处理装置
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  • 共 10 条
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